化合物及含有化合物的组合物制造技术

本发明专利技术是鉴于现有已知的被膜的基板密合性不充分的情况而作出的，课题在于提供一种能够形成可同时实现疏水性、液滴的滑动性及基板密合性的被膜的化合物。本发明专利技术的硅烷异氰酸酯化合物中，烷基的碳原子数为1～4的三烷基甲硅烷基氧基和键合有异氰酸酯基的硅原子经由聚甲硅烷基氧基连接。本发明专利技术的硅烷异氰酸酯化合物优选具有式(I)表示的特定结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物及含有化合物的组合物
本专利技术涉及用于形成能够向各种基材赋予疏水性的被膜的化合物及含有该化合物的组合物。
技术介绍
在各种显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、汽车部件、纳米压印技术等中，由于液滴附着于基材的表面，有时发生基材的污染、腐蚀、以及因该污染、腐蚀而导致的性能下降等问题。因此，这些领域中，要求基材表面的疏水性良好。作为这样的被膜，专利文献1中提出了使用(CH3)3SiO-(Si(CH3)2O)46-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(NCO)3、(CH3)3SiO-(Si(CH3)2O)10-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(NCO)3等作为表面处理剂而形成的表面处理层。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002-166506号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题现有已知的被膜存在基板密合性不充分的情况。本专利技术是鉴于这样的情况而作出的，课题在于提供一种能够形成可同时实现疏水性、液滴的滑动性及基板密合性的被膜的化合物。用于解决课题的手段本申请的专利技术人在为解决上述课题而进行锐意研究的过程中发现，若使用在中心硅原子上键合有异氰酸酯基和特定基团的化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.硅烷异氰酸酯化合物，其是烷基的碳原子数为1～4的三烷基甲硅烷基氧基、和键合有异氰酸酯基的硅原子经由聚甲硅烷基氧基连接而成的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.28 JP 2016-0914091.硅烷异氰酸酯化合物，其是烷基的碳原子数为1～4的三烷基甲硅烷基氧基、和键合有异氰酸酯基的硅原子经由聚甲硅烷基氧基连接而成的。2.如权利要求1所述的硅烷异氰酸酯化合物，其由式(I)表示，[化学式1]式(I)中，Rs1表示碳原子数1～4的烃基或(Rs3)3SiO-，Rs2及Rs3各自独立地表示碳原子数1～4的烷基；所述Rs1的烃基及Rs3的烷基中含有的氢原子可被氟原子取代；其中，Rs1全部为烃基的情况下，Rs1为烷基；Xs1表示异氰酸酯基以外的水解性基团、烃基、或含有甲硅烷基氧基的基团，所述Xs1的烃基中含有的-CH2-可被替换为-O-；其中，与Si原子相邻的-CH2-不会被替换为-O-，连续的2个-CH2-不会同时被替换为-O-；n1表示1以上的整数；p1及p2各自独立地为1～3，其总和为4以下。3.如权利要求2所述的硅烷异氰酸酯化合物，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：樱井彩香，花冈秀典，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP