一种非对称方酸菁材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术属于方酸菁材料制备技术领域，具体涉及一种非对称方酸菁材料及其制备方法和应用。本发明专利技术通过对C1和C2取代基的设计与选择，使得其光谱吸收峰位于蓝绿光吸收区域，用以制备有机蓝绿光敏感器件，满足蓝绿光传感、多通道光通信领域的应用需求；同时，本发明专利技术提供的非对称方酸菁材料溶液下的吸收半峰宽和薄膜形态下的吸收半峰宽均小于110nm，在制备光敏二极管方面有着十分重要的应用。此外，本发明专利技术提供的材料稳定性强，能够满足蒸镀、旋涂、喷墨打印等多种工艺。

【技术实现步骤摘要】
一种非对称方酸菁材料及其制备方法和应用
本专利技术属于方酸菁材料制备
，具体涉及一种非对称方酸菁材料及其制备方法和应用。
技术介绍
方酸菁是一类功能性的有机染料，具有类青色素结构的高度离域的共轭分子。它最显著的特点是，在长波区域具有尖锐而强烈的吸收，在低极性溶剂中溶解度好并具有很好的光热稳定性。由于方酸菁具有良好的吸收和发射性质，较大的分子刚性和低激发态重组能，以及结构容易修饰等优点，已经受到了越来越多的关注，近年来被广泛研究应用在有机太阳能电池、有机光电探测器和光敏二极管等领域。方酸菁化合物是由方酸与富电子芳环或杂环缩合而成，可形成1,3-取代(结构示于下式),根据X、Y相同或不相同，又分为对称与非对称方酸菁两种类型。一般而言，非对称方酸菁具有更好的溶解性，最重要的是具有更丰富的结构可调性，已经在染料敏化太阳电池、静电复印、近红外增感等光敏应用方面表现出较对称型方酸化合物更为优异的性能。但是，现有技术中公开的非对称方酸菁材料，其光谱吸收峰大多数位于红橙光吸收区域，不能满足蓝绿光传感、多通道光通信领域的应用需求，因而设计、合成新型非对称方酸菁材料，对构建新型高效方酸菁材料、扩展本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非对称方酸菁材料，其特征在于，具有通式(I)所示结构：

【技术特征摘要】
1.一种非对称方酸菁材料，其特征在于，具有通式(I)所示结构：其中，X1和X2分别独立地选自氧原子，卤素，氰基或链烷基中的一种，C1为二苯胺基团或取代的二苯胺衍生物基团；C2为吡咯基团，吲哚基团，噻吩基团，含有取代基或杂原子的吡咯基团，含有取代基或杂原子的吲哚基团，含有取代基或杂原子的噻吩基团中的一种。2.根据权利要求1所述的非对称方酸菁材料，其特征在于，所述X1和X2分别代表氧原子，C1为二苯胺基团。3.根据权利要求1或2所述的非对称方酸菁材料，其特征在于，所述杂原子为S，O或N中的至少一种。4.根据权利要求1所述的非对称方酸菁材料，其特征在于，所述非对称方酸菁材料具有如下所示结构：5.一种权利要求1-4任一项所述的非对称方酸菁材料在蓝绿光传感器件或多通道光通信器件中应用。6.根据权利要求5所述的非对称方酸菁材料在绿光传感器件或多通道光通信器件中的应用，其特征在于，所述器件中的导电基底层，电子传输层或空穴传输层中的至少一层中含有所述非对称方酸菁材料。7.一种权利要求1-4任一项所述的非对称方酸菁材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：中间体的合成：合成路线如式(II)所示，将3,4-二异丙氧基-3-...

【专利技术属性】
技术研发人员：董桂芳，郭航，席婵娟，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：北京,11