【技术实现步骤摘要】
上引炉的铜料处理装置以及上引炉
本专利技术涉及铜杆生产设备，具体涉及上引炉的铜料处理装置以及上引炉。
技术介绍
上引法是一种生产无氧铜杆的工艺，该工艺通过上引炉实施。现有生产中，通过铜料夹持件夹紧铜料，然后通过提吊装置移动铜料，将铜料放入上引炉的熔化炉中。铜料是矩形板结构，因运输或长期存放等原因，六个表面均可能沾到杂质，现有生产中不会对铜料进行前处理，表面有杂质的铜料会导致铜液有杂质，影响生产的铜杆质量。
技术实现思路
本专利技术针对上述问题，提出了上引炉的铜料处理装置以及上引炉。本专利技术采取的技术方案如下：一种上引炉的铜料处理装置，包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。设置上下除杂机构和四边除杂机构能够有效去除铜料外表面沾到的杂质，能够有效提高加工出的铜杆质量。于本专利技术其中一实施例中，所述上下除杂机构还包括：第一机架；多个第一输送辊，转动安装在第一机架上，...
【技术保护点】
1.一种上引炉的铜料处理装置，其特征在于，包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。
【技术特征摘要】
1.一种上引炉的铜料处理装置，其特征在于，包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。2.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述上下除杂机构还包括：第一机架；多个第一输送辊，转动安装在第一机架上，用于支撑并输送铜料；第一驱动电机，固定在第一机架上，用于驱动第一输送辊转动；竖直轨道，设置在第一机架上；上滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的上方，所述上磨辊转动安装在上滑座上，上滑座上还包括驱动上磨辊转动的第一磨辊电机；第一气缸，安装在第一机架上，第一气缸的活塞杆与上滑座固定，用于驱动所述上滑座上下移动；下滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的下方，所述下磨辊转动安装在下滑座上，下滑座上还包括驱动下磨辊转动的第二磨辊电机；第二气缸，安装在第一机架上，第二气缸的活塞杆与下滑座固定，用于驱动所述下滑座上下移动。3.如权利要求2所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述机架在第一输送辊两侧的上方转动安装有限位辊，各限位辊竖直设置。4.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述四边除杂机构包括：第二机架；第二输送辊，转动安装在第二机架上，用于支撑并输送铜料，第二输送辊的上部突出所述第二机架，铜料输送至第二输送辊后，铜料的四个侧边均位于第二机架的外侧；第二驱动电机，固定在第二机架上，用于驱动第二输送辊转动；上定位气缸，位于第二输送辊的上方，上定位气缸的活塞杆上固定有上定位板；下定位气缸，固定在第二机架上，位于第二输送辊的下方，下定位气缸的活塞杆上固定有下定位板，上定位板和下定位板相对设置，且均位于相邻两个第二输送辊之间，上定位气缸和下定位气缸用于在铜料输送到位后，驱动对应的定位板移动，使上定位板和下定位板将铜料压紧定位住；两个分别位于第二机架两侧的侧边打磨组件，侧边打磨组件用于在铜料定位住后，对铜料的侧边进行打磨；转...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨喜海，
申请(专利权)人：杭州富通电线电缆有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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