一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置，包括脱杂塔、一级冷凝器、二级冷凝器、光气回收塔、聚结器和冷却器，所述脱杂塔包括壳体，壳体的顶部安装有进料管道，进料管道的一侧安装有第一输出管道，壳体的内部焊接有水平设置的隔板，隔板的顶部安装有第一脱杂桶，第一脱杂桶的内部安装有拉杆，拉杆位于第一脱杂桶的外圈焊接有圆盘形结构的第一盖板，隔板的底部焊接有第二脱杂桶，第二脱杂桶的内部焊接有与隔板同轴设置的环形结构的引导板。本实用新型专利技术结构简单操作方便快捷，实现了光化工序产生的粗料中的CCl4、水与光气分离方便资源的后续使用，同时实现了连续性快速分离，减小光气损耗量，减轻设备腐蚀。

【技术实现步骤摘要】
一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置
本技术涉及甲苯二胺生产
，尤其涉及一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置。
技术介绍
TDI生产工艺主要由光气合成、硝化、氢化、光气化及精制后制得。采用邻二氯苯(ODCB)作为溶剂，将中间体光气和间甲苯二胺溶于其中，进行液相光气化反应，过量的光气经循环系统再次进行光气化反应，ODCB经精制后在系统中循环使用。CCl4是TDI生产的副产物，由于CO原料中含有少量的CH4，CH4和Cl2反应生成CCl4和HCl，CCl4与光气、ODCB、TDI有良好的互溶性，由于CCl4沸点远低于ODCB，在光气循环系统中以轻组分的形式存在。随着运行时间延长，CCl4不断累积，导致循环光气中CCl4含量不断增加，使得光气化反应原料中光气浓度降低，影响TDI装置的收率，且CCl4在系统内不停循环，造成系统能耗增大。H2O是上游工序的副产物，脱水不彻底进入光化工序，ODCB溶剂也含有一定量的水，H2O与TDI反应生成脲，进一步影响TDI收率，且H2O会与光气反应，生产HCl，造成光气损耗量增大，同时加剧设备腐蚀，为此需要一种光气法生产TDI脱除C本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置，包括脱杂塔(1)、一级冷凝器(2)、二级冷凝器(3)、光气回收塔(4)、聚结器(5)和冷却器(6)，其特征在于，所述脱杂塔(1)包括壳体(7)，壳体(7)的顶部安装有进料管道(8)，进料管道(8)的一侧安装有第一输出管道(9)，壳体(7)的内部焊接有水平设置的隔板(10)，隔板(10)的顶部安装有第一脱杂桶(11)，第一脱杂桶(11)的内部安装有拉杆(12)，拉杆(12)位于第一脱杂桶(11)的外圈焊接有圆盘形结构的第一盖板(13)，隔板(10)的底部焊接有第二脱杂桶(14)，第二脱杂桶(14)的内部焊接有与隔板(10)同轴设置的环形结构的引...

【技术特征摘要】
1.一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置，包括脱杂塔(1)、一级冷凝器(2)、二级冷凝器(3)、光气回收塔(4)、聚结器(5)和冷却器(6)，其特征在于，所述脱杂塔(1)包括壳体(7)，壳体(7)的顶部安装有进料管道(8)，进料管道(8)的一侧安装有第一输出管道(9)，壳体(7)的内部焊接有水平设置的隔板(10)，隔板(10)的顶部安装有第一脱杂桶(11)，第一脱杂桶(11)的内部安装有拉杆(12)，拉杆(12)位于第一脱杂桶(11)的外圈焊接有圆盘形结构的第一盖板(13)，隔板(10)的底部焊接有第二脱杂桶(14)，第二脱杂桶(14)的内部焊接有与隔板(10)同轴设置的环形结构的引导板(16)，引导板(16)的一侧下方安装有第二输出管道(18)，引导板(16)的内圈安装有与拉杆(12)固定套接的第二盖板(17)，第二盖板(17)的正下方安装有第三盖板(15)，第二脱杂桶(14)的底部安装有排料管道(19)。2.根据权利要求1所述的一种光气法生产TDI脱除CCl4和水的精制装置，其特征在于，所述一级冷凝器(2)包括长条形箱体，箱体的一端安装有气相输入管，箱体的另一端安装有气相输送管，气相输送管的正下方安装有液相输出管，箱体的内部安装有冷却盘管，冷却盘管，箱体的顶部安装有与冷却盘管输入端连通的进液管道，进液管道的一侧安装有与...

【专利技术属性】
技术研发人员：张振兴，肖振鸿，苏根生，夏存良，张耕，胡国岭，
申请(专利权)人：福建省东南电化股份有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35