OLED显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:19832534 阅读:27 留言:0更新日期:2018-12-19 17:54
本发明专利技术提供了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。OLED显示基板包括:位于薄膜晶体管阵列基板上的第一平坦图形和第二平坦图形,第一平坦图形限定出多个第一区域,第二平坦图形与第一区域一一对应,第二平坦图形位于对应的第一区域内,第二平坦图形在垂直于自身延伸方向上的截面为倒梯形,且第二平坦图形的上表面的高度低于第一平坦图形的上表面的高度;位于第一平坦图形和第二平坦图形上的反光阳极层;位于第一区域内的像素界定层的图形,像素界定层的图形限定出第二区域;位于第二区域内的发光层;位于发光层和第一平坦图形上的阴极层。本发明专利技术能够提高OLED显示基板的发光效率。

【技术实现步骤摘要】
OLED显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是指一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
现有的顶发射OLED(有机电致发光二极管)显示基板发出的光线部分被反光阳极反射至有效发光区出射出去,另一部分光被分解为横向光和像素界定层内部光,造成漏光现象,降低了OLED显示基板的发光效率。其中,横向光沿反光阳极表面横向传输,最终汇聚于像素界定层,沿像素界定层向外产生逸出光,形成漏光;像素界定层内部光在像素界定层内部形成波导效应沿像素界定层传输到有效发光区以外,形成漏光。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置,能够减少漏光,提高OLED显示基板的发光效率。为解决上述技术问题,本专利技术的实施例提供技术方案如下:一方面,提供一种OLED显示基板的制作方法,包括:在薄膜晶体管阵列基板上形成第一平坦图形和第二平坦图形,所述第一平坦图形限定出多个第一区域,所述第二平坦图形与所述第一区域一一对应,所述第二平坦图形位于对应的第一区域内,所述第二平坦图形在垂直于自身延伸方向上的截面为倒梯形,且所述第二平坦图形的上表面的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在薄膜晶体管阵列基板上形成第一平坦图形和第二平坦图形,所述第一平坦图形限定出多个第一区域,所述第二平坦图形与所述第一区域一一对应,所述第二平坦图形位于对应的第一区域内,所述第二平坦图形在垂直于自身延伸方向上的截面为倒梯形,且所述第二平坦图形的上表面的高度低于所述第一平坦图形的上表面的高度;在所述第一平坦图形的侧表面和所述第二平坦图形上形成反光阳极层;在所述第一区域内形成像素界定层的图形,所述像素界定层的图形限定出第二区域;在所述第二区域内形成发光层,所述发光层的上表面的高度低于所述第一平坦图形的上表面的高度;在所述发光层和所述第一平坦图形上...

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在薄膜晶体管阵列基板上形成第一平坦图形和第二平坦图形,所述第一平坦图形限定出多个第一区域,所述第二平坦图形与所述第一区域一一对应,所述第二平坦图形位于对应的第一区域内,所述第二平坦图形在垂直于自身延伸方向上的截面为倒梯形,且所述第二平坦图形的上表面的高度低于所述第一平坦图形的上表面的高度;在所述第一平坦图形的侧表面和所述第二平坦图形上形成反光阳极层;在所述第一区域内形成像素界定层的图形,所述像素界定层的图形限定出第二区域;在所述第二区域内形成发光层,所述发光层的上表面的高度低于所述第一平坦图形的上表面的高度;在所述发光层和所述第一平坦图形上形成阴极层。2.根据权利要求1所述的OLED显示基板的制作方法,其特征在于,所述形成第一平坦图形和第二平坦图形包括:利用正性感光材料形成所述第一平坦图形,所述第一平坦图形在垂直于自身延伸方向上的截面为梯形;利用负性感光材料在所述第一区域内形成所述第二平坦图形。3.根据权利要求2所述的OLED显示基板的制作方法,其特征在于,所述第一平坦图形的侧表面与相邻的所述第二平坦图形的侧表面贴合,形成所述阳极层包括:在所述第一平坦图形和所述第二平坦图形上沉积阳极层材料,形成位于所述第二平坦图形的上表面和所述第一平坦图形的侧表面的上半部分上的阳极层,所述上半部分的高度不低于所述第二平坦图形的上表面的高度。4.根据权利要求2所述的OLED显示基板的制作方法,其特征在于,所述第一平坦图形与相邻的所述第二平坦图形间隔预设距离,形成所述阳极层包括:在所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕志军张世政党宁董立文宋晓欣崔钊刘文渠张锋姚琪
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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