一种退摄像头镜片上保护膜的工艺制造技术

本发明专利技术适用于摄像头镜片制作技术领域，提供了一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，包括：将按预设浓度配置好的碱性溶液加热到预设温度；将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述碱性溶液中，在所述预设温度下浸泡预设时间；将所述摄像头镜片取出，并清洗所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片；本发明专利技术提供的退摄像头镜片上保护膜的工艺能够快速高效的去除摄像头镜片上的保护膜。

【技术实现步骤摘要】
一种退摄像头镜片上保护膜的工艺
本专利技术属于摄像头镜片制作
，尤其涉及一种退摄像头镜片上保护膜的工艺。
技术介绍
现有的手机、平板电脑和相机等电子产品都有拍照摄影的功能，通过摄像头实现对拍摄场面的采集并经过一系列的图像处理过程得到相应的拍摄图像。在生产摄像头的工艺中，摄像头镜片是比较重要的一部分。摄像头镜片在生产过程中，需要对即将加工的玻璃涂保护油，以免后续加工过程中划伤玻璃，在进行后续的一系列加工操作之后，又需要将之前涂抹的保护油去掉；那么，如何快速高效去掉上面的保护油是当下摄像头镜片生产过程中要解决的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，旨在提供一种快速高效的退摄像头保护膜的方法。本专利技术提供了一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，包括：步骤S1，将按预设浓度配置好的碱性溶液加热到预设温度；步骤S2，将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述碱性溶液中，在所述预设温度下浸泡预设时间；步骤S3，将所述摄像头镜片取出，并清洗所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。进一步地，所述步骤S3具体为：将所述摄像头镜片取出，并先用清水清洗，再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。进一步地，所述碱性溶液为NaOH溶液。进一步地，所述预设浓度为NaOH：H2O＝5％～10％。进一步地，所述预设温度为65℃～75℃。进一步地，所述预设温度为70℃。进一步地，预设时间为4～5min。本专利技术与现有技术相比，有益效果在于：本专利技术提供的一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，将摄像头镜片置于配置好的碱性溶液中，在预设高温下浸泡预设时间后取出，并清洗掉摄像头镜片上附着的碱性溶液，即可得到退去保护膜的摄像头镜片；本专利技术提供的方法将摄像头镜片置于碱性溶液中，能够快速高效的去除摄像头镜片上的保护膜。附图说明图1是本专利技术实施例提供的一种退摄像头镜片上保护膜的工艺流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术提供的一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，如图1所示，包括：步骤S1，将按预设浓度配置好的碱性溶液加热到预设温度；需要说明的是，在摄像头镜片的生产工艺中，需要先将待加工的玻璃涂覆保护层，然后进行开料点胶烘烤和切割处理，然后需要去除涂覆的保护层，再进行后续的清洗钢化解水检验丝印镀膜等操作，即可得到制作完成的摄像头镜片。本专利技术就是针对摄像头镜片生产过程中的去保护层环节提出一种退摄像头镜片上保护膜的工艺。具体地，将按预设浓度配置好的碱性溶液置于碱性池中，并通上电源，将所述碱性溶液升温至预设温度。本专利技术实施例提供的所述碱性溶液为NaOH溶液，所述预设浓度为NaOH：H2O＝5％～10％，所述预设温度为65℃～75℃，其中，70℃为最优温度。步骤S2，将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述碱性溶液中，在所述预设温度下浸泡预设时间；具体地，将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于插架中，并利用提篮放入碱性池中，碱性溶液要漫过所述涂覆有保护膜的摄像头镜片。本专利技术实施例提供的所述预设时间为4～5min。步骤S3，将所述摄像头镜片取出，并清洗所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。具体地，将所述摄像头镜片取出后，需要先用清水冲洗，冲洗的时候，是用喷头对着所述摄像头镜片冲洗，然后再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，即可得到退去保护膜的摄像头镜片；然后将所述摄像头镜片流向下一道工序，继续进行后续的加工处理流程。下面举具体实施例介绍制作这种退摄像头镜片上保护膜的工艺：实施例1：将按NaOH：H2O为1：20的浓度配置好的NaOH溶液加热到70℃；将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述NaOH溶液中，在70℃温度下浸泡5min；将所述摄像头镜片取出，并用喷头喷出的清水对着所述摄像头镜片冲洗，然后再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。实施例2：将按NaOH：H2O为1：10的浓度配置好的NaOH溶液加热到70℃；将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述NaOH溶液中，在70℃温度下浸泡4min；将所述摄像头镜片取出，并用喷头喷出的清水对着所述摄像头镜片冲洗，然后再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。实施例3：将按NaOH：H2O为2：25的浓度配置好的NaOH溶液加热到70℃；将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述NaOH溶液中，在70℃温度下浸泡5min；将所述摄像头镜片取出，并用喷头喷出的清水对着所述摄像头镜片冲洗，然后再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。本专利技术提供的一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，将摄像头镜片置于配置好的碱性溶液中，在预设高温下浸泡预设时间后取出，并清洗掉摄像头镜片上附着的碱性溶液，即可得到退去保护膜的摄像头镜片；本专利技术提供的方法将摄像头镜片置于碱性溶液中，能够快速高效的去除摄像头镜片上的保护膜。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，其特征在于，包括：步骤S1，将按预设浓度配置好的碱性溶液加热到预设温度；步骤S2，将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述碱性溶液中，在所述预设温度下浸泡预设时间；步骤S3，将所述摄像头镜片取出，并清洗所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。

【技术特征摘要】
1.一种退摄像头镜片上保护膜的工艺，其特征在于，包括：步骤S1，将按预设浓度配置好的碱性溶液加热到预设温度；步骤S2，将涂覆有保护膜的摄像头镜片置于所述碱性溶液中，在所述预设温度下浸泡预设时间；步骤S3，将所述摄像头镜片取出，并清洗所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保护膜的摄像头镜片。2.如权利要求1所述的退摄像头镜片上保护膜的工艺，其特征在于，所述步骤S3具体为：将所述摄像头镜片取出，并先用清水清洗，再放入超声波清洗槽中清洗掉所述摄像头镜片上附着的碱性溶液，得到退去保...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭洁，
申请(专利权)人：彭洁，
类型：发明
国别省市：广东,44