一种低压液路集成块及其加工工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种低压液路集成块及其加工工艺，该液路集成块包括下层基底、中间层基底和上层基底，下层基底的上表面、中间层基底正反面和上层基底的下表面均设有半个流道沟槽，中间层基底分别与下层基底和上层基底键合，互为镜像的流道沟槽键合后形成密封流道；该加工工艺为：选取用于制作集成块的下层基底、中间层基底和上层基底，利用数控精密铣削技术将下层基底的上表面、中间层基底正反面和上层基底下表面铣出半个流道沟槽，将互为镜像的流道沟槽键合后形成密封流道，形成集成块；该加工工艺避开了微小孔在集成块上无法加工的难题，为低压液路集成块的加工提供了方法，为液路系统设计的微型化、模块化提供了可能。

【技术实现步骤摘要】
一种低压液路集成块及其加工工艺
本专利技术涉及细微加工
，具体地，涉及一种低压液路集成块及其加工工艺。
技术介绍
医疗、生物及一些科研设备中经常用到液路系统，早期的液路系统采用管路连接分散布置，这种布置往往造成设备内部管线凌乱，不利于生产制造，也不方便维护和故障排查，另外较长的管线会造成试剂浪费，而某些试剂价格非常昂贵，在液路系统中采用集成块是解决以上问题的一个重要方法，但医疗、生物领域应用的液路管径一般非常小，比如0.5mm，常规的在金属块上钻孔的工艺几乎无法使用，所以微小孔在集成块上的加工工艺是制约我国液路系统小型化、模块化的一项重要加工技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种低压液路集成块及其加工工艺，以解决现有技术中的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种低压液路集成块，该液路集成块包括下层基底、中间层基底和上层基底，下层基底的上表面、中间层基底正反面和上层基底的下表面均设有半个流道沟槽，中间层基底分别与下层基底和上层基底键合，中间层基底下表面的半个流道沟槽与下层基底上表面的半个流道沟槽互为镜像，互为镜像的流道沟槽键合后形成密封流道，中间层基底上表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低压液路集成块，其特征在于：该液路集成块(7)包括下层基底(2)、中间层基底(3)和上层基底(4)，所述下层基底(2)的上表面、中间层基底(3)正反面和上层基底(4)的下表面均设有半个流道沟槽(5)，所述中间层基底(3)分别与下层基底(2)和上层基底(4)键合，所述中间层基底(3)下表面的半个流道沟槽(5)与下层基底(2)上表面的半个流道沟槽(5)互为镜像，互为镜像的流道沟槽(5)键合后形成密封流道(6)，所述中间层基底(3)上表面的半个流道沟槽(5)与上层基底(2)下表面的半个流道沟槽(5)互为镜像，互为镜像的流道沟槽(5)键合后形成密封流道(6)。

【技术特征摘要】
1.一种低压液路集成块，其特征在于：该液路集成块(7)包括下层基底(2)、中间层基底(3)和上层基底(4)，所述下层基底(2)的上表面、中间层基底(3)正反面和上层基底(4)的下表面均设有半个流道沟槽(5)，所述中间层基底(3)分别与下层基底(2)和上层基底(4)键合，所述中间层基底(3)下表面的半个流道沟槽(5)与下层基底(2)上表面的半个流道沟槽(5)互为镜像，互为镜像的流道沟槽(5)键合后形成密封流道(6)，所述中间层基底(3)上表面的半个流道沟槽(5)与上层基底(2)下表面的半个流道沟槽(5)互为镜像，互为镜像的流道沟槽(5)键合后形成密封流道(6)。2.根据权利要求1所述的一种低压液路集成块，其特征在于：所述下层基底(2)和上层基底(4)上均设有若干管路口(1)，所述管路口(1)的一端安装有分配阀(8)，另一端安装有探针(9)，所述分配阀(8)与密封流道(6)连通。3.根据权利要求1或2所述的一种低压液路集成块，其特征在于：所述中间层基底(3)为n层，其中n≥0。4.根据权利要求3所述的一种低压液路集成块，其特征在于：所述流道沟槽(6)的横截面为半圆形。5.一种低压液路集成块的加工工艺，其特征在于，该加工工艺包括以下步骤：(A)选取用于制作集成块(7)的下层基底(2)、中间层基底(3)和上层基底(4)，利用...

【专利技术属性】
技术研发人员：范佳杰，陈一文，张忠华，刘自豪，马梦君，翟进生，范向伟，高彩琴，邵国胜，
申请(专利权)人：郑州大学，
类型：发明
国别省市：河南,41