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一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法技术

技术编号:19734024 阅读:37 留言:0更新日期:2018-12-12 02:54
本发明专利技术公开了一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法,通过在黑磷纳米片表面包裹PLGA,形成黑磷/PLGA复合物。PLGA可以减少黑磷与空气和水的接触,从而提高其在水中的稳定性,保证黑磷纳米片的光热效果。本发明专利技术提供的提高黑磷纳米片光热稳定性的方法简单易实现且成本低廉,并且PLGA具有生物相容性良好和生物可降解性的特点,在提高黑磷纳米片光热稳定性的同时保证其生物安全性。

【技术实现步骤摘要】
一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法
本专利技术涉及黑磷纳米材料领域,尤其涉及一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法。技术背景原子级厚度的黑磷纳米片是二维材料的新成员,由于其独特的电子和光学特性和广泛的应用前景,吸引了越来越多的关注。作为一种非金属的层状半导体,黑磷的带隙可随着材料厚度的变化在0.3-2.0V之间自由调节。这个带隙区间填补了石墨烯(零带隙)与过渡金属硫化物(另一种类二维材料)之间的带隙空白,使二维材料家族对应的光谱相应范围从可见光延伸到红外区域。这些特性表明,黑磷纳米片不仅在纳米级电子设备上大有前途,而且也适用于近和中红外区域光电应用。这些独特的结构和物理化学性质使其在肿瘤光热治疗和光动力学治疗方面也显示出良好的应用前景。尽管黑磷拥有这些优越的性质,但阻碍黑磷进一步应用的一个根本性障碍是在空气和水中缺乏稳定性。已经证明,黑磷在正常环境条件下对氧气和水很敏感,致使其化学组分和物理性质发生变化,从而导致电子和光学性能的显著下降。长期暴露于潮湿的空气或水中的黑磷甚至可以完全被蚀刻掉。这对黑磷在柔性电子和光电子学中的应用造成了严重的限制,并且其在水中的不稳定性同样也限制了电化学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法,其特征在于:将黑磷纳米片添加到PLGA溶液中,通过乳化溶剂挥发法,制备黑磷/PLGA复合物,从而提高黑磷纳米片的光热稳定性。

【技术特征摘要】
1.一种提高黑磷纳米片光热稳定性的方法,其特征在于:将黑磷纳米片添加到PLGA溶液中,通过乳化溶剂挥发法,制备黑磷/PLGA复合物,从而提高黑磷纳米片的光热稳定性。2.根据权利要求1所述的提高黑磷纳米片光热稳定性的方法,其特征在于:所述PLGA溶液中,PLGA浓度为5~20mg/mL,黑磷纳米片在PLGA溶液中的质量浓度为0.5~2.0mg/mL。3.根据权利要求1所述的提高黑磷纳米片光热稳定性的方法,其特征在于:所述的黑鳞纳米片的制备方法包括以下步骤:(1)将块状黑磷分散到含饱和NaOH的N-甲基吡咯烷酮溶液中,然后将混合物超声处理6~9h,得到不同尺寸的黑磷纳米片混合溶液;(2)将步骤(1)得到的黑磷纳米片混合溶液采用不同离心力除去未剥落的块状黑磷和超小黑磷纳米片,最终得到尺寸大小150-250nm的黑磷纳米片。4.根据权利要求3所述的提高黑磷纳米片光热稳定性的...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢春华王辉猛王敏尹力添杨黄浩
申请(专利权)人:福州大学
类型:发明
国别省市:福建,35

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