形成自清洁膜系统的方法技术方案

一种形成自清洁膜系统的方法包括将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到基底上以形成第一层。该方法包括去除第一层的多个部分以在第一层中限定多个腔并且形成从基底突出的多个突起。该方法包括将光催化材料沉积到多个突起上并沉积到多个腔中以形成第二层，该第二层包括：设置在多个腔中并与基底接触的多个结合部分；以及设置在多个突起上并与基底间隔开的非结合部分。该方法还包括在沉积光催化材料之后，去除非结合部分，从而形成自清洁膜系统。

【技术实现步骤摘要】
形成自清洁膜系统的方法引言本公开涉及自清洁膜系统和形成自清洁膜系统的方法。诸如显示系统的装置通常被设计为由操作者触摸。例如，车辆可以包括通过触摸屏向操作者呈现信息的显示系统。类似地，自动柜员机或售货亭可以包括通过触摸激活的显示系统。诸如相机和眼镜的其他装置通常包括在使用期间可能被操作者无意中触摸的镜头表面。此外，诸如车辆、窗户、镜子、电器、橱柜、家具、蜂窝电话、指纹扫描仪、传感器、复印机、医疗器械和柜台面的其他装置还可以包括可以由操作者触摸的一个或多个表面。因此，在使用期间，操作者可能将指纹和/或油沉积到这种装置和表面上。
技术实现思路
一种形成自清洁膜系统的方法包括将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到基底上以形成第一层。该方法包括去除第一层的多个部分以在第一层中限定多个腔并且形成从基底突出的多个突起。该方法还包括将光催化材料沉积到多个突起上并沉积到多个腔中以形成第二层。第二层包括设置在多个腔中并与基底接触的多个结合部分和设置在多个突起上并与基底间隔开的非结合部分。该方法还包括在沉积光催化材料之后，去除非结合部分，从而形成自清洁膜系统。自清洁膜系统包括如下膜，该膜设置在基底上并且包括设置在氟化材料内并且彼此间隔开的多个结合部分，使得多个结合部分邻接氟化材料、被氟化材料包围、并且不被氟化材料覆盖。在一个方面，沉积光催化材料可以包括将光催化材料化学结合到多个腔内的基底。该方法还可以包括在去除非结合部分之后，去除多个突起。另外，该方法可以包括在去除多个突起之后再沉积氟化材料。再沉积可以包括将氟化材料擦拭到基底上，使得氟化材料接触多个结合部分。另一方面，该方法还可以包括使多个结合部分中的至少一个与角鲨烯接触。该方法还可以包括氧化角鲨烯。另外，该方法可以包括气化角鲨烯。在另一实施例中，该方法包括将光催化材料沉积到基底上以形成第一层，并将光致抗蚀剂设置在第一层上。在设置光致抗蚀剂之后，该方法包括将光致抗蚀剂曝光以使得光致抗蚀剂具有显影部分和未显影部分。该方法还包括去除未显影部分，使得显影部分从第一层突出。在去除之后，该方法包括将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到第一层上以围绕并接触显影部分。在沉积氟化材料之后，该方法包括去除显影部分，从而形成自清洁膜系统。自清洁膜系统包括如下膜，该膜设置在基底上并包括由光催化材料形成的多个结合部分，所述多个结合部分设置在氟化材料内并且彼此间隔开使得多个结合部分邻接氟化材料、被氟化材料围绕并且不被氟化材料覆盖。在一个方面，去除未显影部分可以包括覆盖第一层的受保护部分。此外，去除未显影部分可以包括不覆盖第一层的未受保护部分。该方法还可以包括在去除未显影部分之后，去除未受保护部分。在去除未受保护部分之后，该方法可以包括将氟化材料沉积到基底上以围绕并接触受保护部分。沉积氟化材料可以包括等离子体增强化学气相沉积具有锐钛矿形式的氟化类金刚石碳到基底上。该方法还可以包括在沉积氟化材料之后，去除显影部分。去除显影部分可以包括对显影部分和氟化材料进行准分子激光退火。另一方面，去除显影部分可以包括对显影部分和氟化材料进行离子束退火。在另一实施例中，形成自清洁膜系统的方法包括将抗反射膜连续地沉积到由第一辊馈送的基底上。该方法还包括将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到抗反射膜上。该方法还包括将光致抗蚀剂喷墨印刷到氟化材料上以形成第一前体，以及用SF6-O2等离子体组合物离子蚀刻光致抗蚀剂和氟化材料的第一部分以形成第一前体的露出部分。此外，该方法包括将光催化材料沉积到露出部分上以形成第二前体，并且溶解光致抗蚀剂的第二部分以形成工件。此外，该方法包括将工件连续卷绕到第二辊上，从而形成自清洁膜系统。在一个方面，连续地沉积抗反射膜可以包括磁控溅射由二氧化钛形成的第一片、磁控溅射由二氧化硅形成的第二片到第一片上、以及磁控溅射由二氧化钛形成的第三片到第二片上。此外，沉积光催化材料可以包括沉积具有锐钛矿形式的二氧化钛。从结合附图时对用于执行本公开的最佳模式的以下详细描述中，本公开的上述特征和优点以及其他特征和优点是显而易见的。附图说明图1是自清洁膜系统的前视图的示意图。图2是图1的自清洁膜系统的放大透视图的示意图。图3是形成图1和图2的自清洁膜系统的方法的一个实施例的示意图。图4是形成图1和图2的自清洁膜系统的方法的第二实施例的示意图。图5是形成图1和图2的自清洁膜系统的方法的第三实施例的示意图。图6是形成图1和图2的自清洁膜系统的方法的第四实施例的示意图。具体实施方式参照附图，其中相同的附图标记表示相同的元件，图1中总体示出了自清洁膜系统10、110、210、310。自清洁膜系统10、110、210、310可以适用于操作者可能将指纹、油和/或其他有机或碳基污染物或病原体接触并沉积到屏幕、镜头或表面上的应用。更具体地说，自清洁膜系统10、110、210、310可以用于需要清洁的、基本无油或无指纹的屏幕、镜头或表面的应用。也就是说，自清洁膜系统10可以用于从这样的屏幕、镜头或表面去除指纹和其他有机污染物。例如，自清洁膜系统10、110、210、310可以用于汽车应用，例如包括触摸屏的车内导航系统、包括镜头的车辆相机、车辆后视镜和车辆内部表面。可替选地，自清洁膜系统10、110、210、310可以用于非汽车应用，例如但不限于消费电子产品、蜂窝电话、眼镜、个人防护装置、电器、家具、售货亭、指纹扫描仪、医疗装置、传感器、飞机和工业车辆。现在参照图2，自清洁膜系统10、110、210、310可以被施加到基底12。基底12可以由适于折射可见光的玻璃质透明材料形成。例如，在一个实施例中，基底12可以由二氧化硅形成。在另一示例中，基底12可以由聚碳酸酯或其他塑料形成。可替选地，如图2最佳地示出，基底12可以由包含二氧化硅和二氧化钛的交替层或片14、16、18、20的抗反射膜形成。即，基底12可以是抗反射膜。二氧化硅和二氧化钛的交替片14、16、18、20中的每一个可以具有5nm至125nm的厚度。例如，基底12可以包括由二氧化钛形成并且具有10nm厚度的第一片14。基底12可以包括由二氧化硅形成并具有33nm厚度的第二片16。基底12可以包括由二氧化钛形成并具有100nm厚度的第三片18。基底12可以具有由二氧化硅形成并具有75nm厚度的第四片20。通常，作为非限制性示例，基底12可以被配置为显示系统的屏幕、眼镜或护目镜的镜片、头盔的面罩、冰箱的表面、机柜的面部、车辆的门面板、售货亭的触摸屏、或作为可由操作者触摸的另一表面或装置。自清洁膜系统10、110、210、310还包括设置在基底12上，例如化学结合到基底12的膜21，如下面更详细地阐述。膜21可以构造成覆盖并保护基底12免受指纹、油和有机污染物的影响。也就是说，膜21可以被配置为使得沉积在膜21上的指纹、油和有机污染物不见、消失或蒸发，从而保持能够显示清晰图像或反射的干净基底12。更具体地说，如参照图2所述，膜21可以具有第一表面24和与第一表面24相对间隔开的第二表面26。第二表面26可以邻接基底12，并且第一表面24可以基本上不含角鲨烯、有机材料和/或其他脂肪酸油本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种形成自清洁膜系统的方法，所述方法包括：将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到基底上以形成第一层；去除所述第一层的多个部分以在所述第一层中限定多个腔并且形成从所述基底突出的多个突起；将光催化材料沉积到所述多个突起上并且沉积到所述多个腔中以形成第二层，所述第二层包括：多个结合部分，所述多个结合部分设置在所述多个腔中并且与所述基底接触；以及非结合部分，所述非结合部分设置在所述多个突起上并与所述基底间隔开；以及在沉积所述光催化材料之后，去除所述非结合部分，从而形成所述自清洁膜系统，其中，所述自清洁膜系统包括膜，所述膜设置在所述基底上并且包括设置在所述氟化材料内并且彼此间隔开的多个结合部分，使得所述多个结合部分邻接所述氟化材料、被所述氟化材料包围并且不被所述氟化材料覆盖。

【技术特征摘要】
2017.05.18 US 15/5988491.一种形成自清洁膜系统的方法，所述方法包括：将选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物及其组合组成的组的氟化材料沉积到基底上以形成第一层；去除所述第一层的多个部分以在所述第一层中限定多个腔并且形成从所述基底突出的多个突起；将光催化材料沉积到所述多个突起上并且沉积到所述多个腔中以形成第二层，所述第二层包括：多个结合部分，所述多个结合部分设置在所述多个腔中并且与所述基底接触；以及非结合部分，所述非结合部分设置在所述多个突起上并与所述基底间隔开；以及在沉积所述光催化材料之后，去除所述非结合部分，从而形成所述自清洁膜系统，其中，所述自清洁膜系统包括膜，所述膜设置在所述基底上并且包括设置在所述氟化...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·V·达德黑奇，T·A·塞德，J·A·卡朋特，
申请(专利权)人：通用汽车环球科技运作有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US