金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片技术

本发明专利技术实施例提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括提供一模板，所述模板的一个表面设有多个平行的模齿和设于每两个模齿之间的纳米间隙，所述多个模齿包括刮涂端，在基板表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层，所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，且刮涂过程中对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构，所述纳米栅结构包括数个平行设置的线栅和间隔所述线栅的沟槽，采用掠射角沉积方式在所述线栅的外表面上形成金属导电膜，使所述纳米栅结构形成金属线栅。

【技术实现步骤摘要】
金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片
本专利技术涉及偏光片
，特别涉及一种金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片。
技术介绍
金属线栅偏光片透过入射光的能力远远大于传统偏光片，被普遍用于显示装置或者光传感装置中。而金属线栅偏光片制作方法一般采用在镀铝基板上形成PR薄膜，使用压印机台搭配模板完成压印，除底胶后刻蚀金属膜形成光栅；此方法制作复杂不说，对于目前技术限制，模板面积很难做大，因此单次压印只能得到小面积光栅区域，无法实现大面积压印，而且拼接会增加制作难度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种比较简单的金属线栅偏光片的制作方法及金属线栅偏光片。本专利技术提一种金属线栅偏光片的制作方法，所述方法包括，提供一模板，所述模板的一个表面设有多个平行的模齿和设于每两个模齿之间的纳米间隙，所述多个模齿包括刮涂端，在基板表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层，所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，与此同时对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构，所述纳米栅结构包括数个平行设置的线栅和间隔所述线栅的沟槽，采用掠射角沉积方式在所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一模板，所述模板的一个表面设有多个平行的模齿和设于每两个模齿之间的纳米间隙，所述多个模齿包括刮涂端，在基板表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层，所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，且刮涂过程中对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构，所述纳米栅结构包括数个平行设置的线栅和间隔所述线栅的沟槽，采用掠射角沉积方式在所述线栅的外表面上形成金属导电膜，使所述纳米栅结构形成金属线栅。

【技术特征摘要】
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一模板，所述模板的一个表面设有多个平行的模齿和设于每两个模齿之间的纳米间隙，所述多个模齿包括刮涂端，在基板表面涂布未固化的包含有光引发剂的聚合物层，所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，且刮涂过程中对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构，所述纳米栅结构包括数个平行设置的线栅和间隔所述线栅的沟槽，采用掠射角沉积方式在所述线栅的外表面上形成金属导电膜，使所述纳米栅结构形成金属线栅。2.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述模板上与所述模齿相对的另一个表面上设有加热器，所述聚合物层的初始端设置UV灯，所述模板相对所述聚合物层呈一倾斜角，并通过所述刮涂端刮过所述聚合物层形成纳米栅结构，与此同时对所述纳米栅结构进行加热，得到固化后的纳米栅结构的步骤包括，从所述聚合物层的初始端刮过所述聚合物层，通过所述加热器和所述UV灯照射被所述刮涂端刮过的位置。3.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述聚合物包括环氧树脂或硅氧烷。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯俊，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44