一种接触式曝光用防粘铬版制造技术

本实用新型专利技术提供的接触式曝光用防粘铬版，在铬版最下表面设置一层二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜，由于二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜具有极低的表面张力，与光刻胶之间没有粘性，因此，可以有效避免在接触曝光时铬版与光刻胶之间的粘附现象，从而杜绝了铬版被污染、光刻胶发生脱落和变形、光刻胶与铬版难以分离现象的发生，解决了传统铬版在接触曝光过程中生产效率低、曝光质量差的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种接触式曝光用防粘铬版
本技术涉及光刻工艺设备的
，尤其是涉及一种接触式曝光用防粘铬版。
技术介绍
触摸显示屏是进入21世纪开启智能时代以来普及性相当高的一类产品，触摸显示屏广泛应用于手机、平板、车载设备等各种显示终端上，其作为一种成熟、便捷的输入设备，它是当今社会最简单、自然、最受欢迎的一种人机交互方式，它赋予了生活、生产以崭新的面貌，是现代人生活、工作中不可或缺的一部分。触摸显示屏中，无论是触控面板还是显示屏模组，都包含导电薄膜层，为了实现特定的功能，导电薄膜往往是要通过蚀刻工艺获得相应的线路结构。黄光微影技术由于其技术成熟、线宽控制精细、均匀性好是目前广泛应用的导电薄膜蚀刻技术，其一般分为接触式曝光和间接式曝光，间接式曝光机的光学效果比接触式曝光机要差，因此，将接触式曝光机用于精密曝光，是解决曝光精度和均匀性的一个重要工艺。实现精密曝光的另外一个重要影响因素是感光剂，相对而言，感光剂图层做的越均匀、越薄其光学性能越好，目前干膜厚度比较薄的在7μm左右，而使用光刻胶可以做到1μm左右，光学性能要远远强于干膜；光刻胶是做精细曝光的重要感光材料，但是光刻胶有存在一个较大的技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述接触式曝光用防粘铬版包括：玻璃承载板、金属铬层、防粘贴层，玻璃承载板位于铬版的最上表面，所述防粘贴层设置在铬版的最下表面，所述防粘贴层为二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述接触式曝光用防粘铬版包括：玻璃承载板、金属铬层、防粘贴层，玻璃承载板位于铬版的最上表面，所述防粘贴层设置在铬版的最下表面，所述防粘贴层为二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜。2.根据权利要求1所述的一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述玻璃承载板的材质为石英玻璃、苏打玻璃或者低膨胀玻璃。3.根据权利要求1所述的一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述接触式曝光用防粘铬版由上至下依次设置：玻璃承载板、金属铬层、第一氧化铬层、防粘贴层。4.根据权利要求3所述的一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，在玻璃承载板和金...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔子龙，俎阿敏，刘威，吴德生，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44