键帽及使用该键帽的机械键盘制造技术

本实用新型专利技术涉及计算机键盘技术领域，尤其是涉及一种键帽及使用该键帽的机械键盘。该键帽，包括触摸部和键芯部；触摸部与键芯部相连接；触摸部包括上体以及与上体相连接的下体，上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于下体的底部在参考平面内的投影面积，其中参考平面与触摸部的横截面相平行；上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面，内凹弧面的凹陷深度不大于2mm，或上体的上表面为向上凸出的外凸弧面，外凸弧面的凸出高度不大于2mm。该机械键盘，包括所述的键帽。本实用新型专利技术有利于提高用户在输入字符时的舒适度，提高输入速度，降低在输入字符时的输错率。

Key cap and mechanical keyboard using the key cap

The utility model relates to the technical field of computer keyboard, in particular to a key cap and a mechanical keyboard using the key cap. The key cap includes a touch part and a key core part; the touch part is connected with the key core part; the touch part includes the upper body and the lower body connected with the upper body; the projection area of the top of the upper body in the reference plane is not larger than that of the bottom of the lower body in the reference plane, in which the reference plane is parallel to the cross section of the touch part; The upper surface of the body is an inner concave arc with a downward depression. The depth of the depression of the inner concave arc is not more than 2 mm, or the upper surface of the body is an outer convex arc with an upward protrusion, and the height of the outer convex arc is not more than 2 mm. The mechanical keyboard includes the key cap. The utility model is beneficial to improving the comfort degree of the user when inputting characters, improving the input speed and reducing the error rate when inputting characters.

【技术实现步骤摘要】
键帽及使用该键帽的机械键盘
本技术涉及计算机键盘
，尤其是涉及一种键帽及使用该键帽的机械键盘。
技术介绍
键盘是最常见的计算机输入设备，它广泛应用于微型计算机和各种终端设备上，计算机操作者通过键盘向计算机输入各种指令、数据，指挥计算机的工作；现有的键盘的键帽由于其结构的限制，用户在输入字符时的舒适度较差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种键帽及使用该键帽的机械键盘，以解决现有技术中存在的键帽由于其结构的限制，用户在输入字符时的舒适度较差的技术问题。本技术提供了一种键帽，包括触摸部和键芯部；所述触摸部与所述键芯部相连接；所述触摸部包括上体以及与所述上体相连接的下体，所述上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于所述下体的底部在参考平面内的投影面积，其中所述参考平面与所述触摸部的横截面相平行；所述上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面，所述内凹弧面的凹陷深度不大于2mm，或所述上体的上表面为向上凸出的外凸弧面，所述外凸弧面的凸出高度不大于2mm。在上述任一技术方案中，进一步地，所述上体呈棱台状，且所述下体呈直棱柱状；或所述上体呈圆台状，且所述下体呈圆柱状。在上述任一技术方案中，进一步地，所述上体呈四棱台状，且所述下体呈正四棱柱状。在上述任一技术方案中，进一步地，所述上体的相邻两个侧面之间具有倒圆角结构。在上述任一技术方案中，进一步地，所述倒圆角结构的倒圆角半径为1.5mm～1.8mm。在上述任一技术方案中，进一步地，所述上体的一侧面与所述参考平面相垂直。在上述任一技术方案中，进一步地，所述内凹弧面的弧底的延伸方向与所述参考平面之间呈倾斜设置；所述外凸弧面的弧顶的延伸方向与所述参考平面之间呈倾斜设置。在上述任一技术方案中，进一步地，所述键芯部具有插装槽，用于与机械开关的开关轴相插接。在上述任一技术方案中，进一步地，所述下体的周向的侧面上设置有夜光层。本技术还提供了一种机械键盘，包括所述的键帽。与现有技术相比，本技术的有益效果为：本技术提供的键帽，包括触摸部和键芯部；触摸部与键芯部相连接；触摸部包括上体以及与上体相连接的下体，上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于下体的底部在参考平面内的投影面积，其中参考平面与触摸部的横截面相平行；上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面，内凹弧面的凹陷深度不大于2mm，或上体的上表面为向上凸出的外凸弧面，外凸弧面的凸出高度不大于2mm。通过触摸部的上体上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于下体的底部在参考平面内的投影面积，这样可以将键盘上的键帽紧凑的排列，提高输入速度，并且可以降低在输入字符时的输错率；另外，通过将上体的上表面设置成内凹弧面或外凸弧面，并对内凹弧面的凹陷深度设置成不大于2mm，外凸弧面的凸出高度设置成不大于2mm，这样有利于控制手指对键帽的触觉识别，提高舒适度。本技术还提供的机械键盘，包括所述的键帽。基于上述分析可知，该机械键盘，有利于提高用户在输入字符时的舒适度，提高输入速度，降低在输入字符时的输错率。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例一提供的键帽的轴测图；图2为本技术实施例一提供的键帽的主视图；图3为本技术实施例一提供的键帽的俯视图；图4为本技术实施例一提供的键帽的右视图；图5为本技术实施例一提供的键帽的后视图；图6为本技术实施例一提供的键帽的另一视角的结构示意图；图7为本技术实施例一提供的键帽做为空格键时的示意图；图8为本技术实施例二提供的机械键盘的俯视图；图9为本技术实施例二提供的机械键盘的左视图；图10为本技术实施例二提供的机械键盘的六个键帽行呈内凹状时的结构示意图；图11为本技术实施例二提供的机械键盘的六个键帽行中每个键帽的顶部的倾斜角度变化示意图。图标：100-键帽；101-上体；102-下体；103-键芯部；104-内凹弧面；105-倒圆角结构；106-参考平面；107-插装槽；108-空腔；109-垂直侧面；200-空格键；201-键盘本体；202-键盘脚架；203-第一键行；204-第二键行；205-第三键行；206-第四键行；207-第五键行；208-第六键行；209-外凸弧面。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和显示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例一参见图1至图7所示，本技术实施例提供了一种键帽100，该键帽100包括触摸部和键芯部103；触摸部与键芯部103相连接，其中，键芯部103与触摸部的底部相连接；触摸部包括上体101以及与上体101相连接的下体102，下体102与上体101的底部相连接，上体101的顶部在参考平面106内的投影面积不大于下体102的底部在参考平面106内的投影面积，也就是上体101的上表面在参考平面106内的投影面积不大于下体102的底部边缘在参考平面106内的投影所围成的图形的面积，其中参考平面106与触摸部的横截面相平行；上体101的上表面为向下凹陷的内凹弧面104，内凹弧面104的凹陷深度D不大于2mm，或上体101的上表面为向上凸出的外凸弧面209，外凸弧面209的凸出高度不大于2mm。具体而言，触摸部与键芯部103为一体结构；键帽的材质为金属或塑料；该实施例中，上体101的顶部在参考平面106内的投影面积小于下体102的底部在参考平面106内的投影面积。触摸部的横截面与垂直于键帽的高度方向的平面相平行。键帽100的高度H指的是键帽的最低点到键帽的最高点之间的垂直距离，该实施例中，键帽100的高度即上体101的高度与下体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种键帽，其特征在于，包括触摸部和键芯部；所述触摸部与所述键芯部相连接；所述触摸部包括上体以及与所述上体相连接的下体，所述上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于所述下体的底部在参考平面内的投影面积，其中所述参考平面与所述触摸部的横截面相平行；所述上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面，所述内凹弧面的凹陷深度不大于2mm，或所述上体的上表面为向上凸出的外凸弧面，所述外凸弧面的凸出高度不大于2mm。

【技术特征摘要】
1.一种键帽，其特征在于，包括触摸部和键芯部；所述触摸部与所述键芯部相连接；所述触摸部包括上体以及与所述上体相连接的下体，所述上体的顶部在参考平面内的投影面积不大于所述下体的底部在参考平面内的投影面积，其中所述参考平面与所述触摸部的横截面相平行；所述上体的上表面为向下凹陷的内凹弧面，所述内凹弧面的凹陷深度不大于2mm，或所述上体的上表面为向上凸出的外凸弧面，所述外凸弧面的凸出高度不大于2mm。2.根据权利要求1所述的键帽，其特征在于，所述上体呈棱台状，且所述下体呈直棱柱状；或所述上体呈圆台状，且所述下体呈圆柱状。3.根据权利要求2所述的键帽，其特征在于，所述上体呈四棱台状，且所述下体呈正四棱柱状。4.根据权利要求3所述的键帽，其特征在于，所述上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晟，
申请(专利权)人：北京汉德默兹克科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11