显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置，包括：衬底基板，设置于衬底基板上的具有网格状结构的黑矩阵，以及设置于黑矩阵之上的反射层；其中，黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖反射层在衬底基板上的正投影。由于黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖反射层的正投影，使得外部的环境光不会直接射向反射层面向黑矩阵一侧的表面，因此，反射层不会影响进入液晶盒内的入射光的总量。并且，由于在黑矩阵之上增加了反射层，使得进入液晶盒内的入射光可在对向基板的像素电极与显示基板的反射层之间经过多次反射后射出，从而增加了出光量，在一定程度上实现了增加反射面积的作用，因此，提高了反射型液晶显示面板的对比度。

【技术实现步骤摘要】
显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置。
技术介绍
随着显示产业发展，液晶显示面板的结构也逐渐多样化。目前使用的液晶显示面板多为透射型液晶显示面板，其具有的背光源位于阵列基板后，通过透射背光源发出的光来实现显示。由于这种透射型液晶显示面板具有背光源，因此，不仅会增大显示功耗，而且会增加液晶显示面板的体积及重量，不符合液晶显示面板轻薄化、便携式的发展趋势。在周边外部光源较强的环境下，反射型液晶显示面板可以利用外部环境光实现显示。与具有背光源的透射型液晶显示面板相比，反射型液晶显示面板具有对比度高、功耗低、机身薄和重量轻等优点。因此，反射型液晶显示面板被越来越多地应用于诸如手机、笔记本电脑、数码相机、个人数字助理等便携式电子终端。如图1所示，为现有技术中反射型液晶显示面板的结构示意图。可以看出，反射型液晶显示面板采用具有较强反射率的金属(例如铝)像素电极A替代阵列基板(即图1中的对向基板)上的氧化铟锡(ITO)像素电极，以反射入射至液晶盒内部的环境光，从而实现显示。但是，反射型液晶显示面板目前存在的主要缺点是对比度不够，为提高对比度，需要增大反射面积，使入射光尽可能多的反射进入人眼，从而提高显示质量。因此，如何增大反射面积，提高反射型液晶显示面板的对比度，是目前本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置，用以解决现有技术中存在的如何增大反射面积，提高反射型液晶显示面板的对比度的问题。因此，本专利技术实施例提供的一种显示基板，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的具有网格状结构的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵之上的反射层；其中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层在所述衬底基板上的正投影。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影完全重叠。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层的背离所述黑矩阵一侧的表面为经过粗糙化处理的表面。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，还包括：设置于所述黑矩阵之上的色阻层。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层位于所述黑矩阵与所述色阻层之间，或，所述反射层位于所述色阻层之上。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，还包括：设置于所述黑矩阵之上的公共电极层。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层与所述公共电极层电性连接。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层位于所述公共电极层之上；或者，所述反射层位于所述黑矩阵与所述公共电极层之间。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，所述反射层的材料为钼、铝、钨、钛、铜其中之一或合金组合。本专利技术实施例提供了一种反射型液晶显示面板，包括：相对而置的显示基板和对向基板；其中，所述显示基板为上述显示基板；所述对向基板具有反射型的像素电极。本专利技术实施例提供了一种显示装置，包括：上述反射型液晶显示面板。本专利技术实施例提供了一种上述显示基板的制作方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成具有网格状结构的黑矩阵；在所述黑矩阵上形成反射层；其中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层在所述衬底基板上的正投影。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，采用同一掩膜板分别形成所述黑矩阵和所述反射层的图形。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述制作方法中，所述在所述黑矩阵上形成反射层之后，还包括：对所述反射层的背离所述黑矩阵一侧的表面进行粗糙化处理。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置，包括：衬底基板，设置于衬底基板上的具有网格状结构的黑矩阵，以及设置于黑矩阵之上的反射层；其中，黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖反射层在衬底基板上的正投影。由于黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖反射层在衬底基板上的正投影，使得外部的环境光不会直接射向反射层面向黑矩阵的一侧的表面，因此，反射层不会影响进入液晶盒内的入射光的总量。并且，由于在黑矩阵之上增加了反射层，使得进入液晶盒内的入射光可在对向基板的像素电极与显示基板的反射层之间经过多次反射后射出，从而避免了黑矩阵对像素电极反射至黑矩阵所在区域的光的吸收，进而增加了出光量，在一定程度上实现了增加反射面积的作用，因此，提高了反射型液晶显示面板的对比度。附图说明图1为现有技术中反射型液晶显示面板的结构示意图；图2a至图2c分别为本专利技术实施例提供的显示基板的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的显示基板的制作方法的流程图；图4为本专利技术实施例提供的反射型液晶显示面板的结构示意图。具体实施方式下面结合附图，对本专利技术实施例提供的显示基板、其制作方法及反射型液晶显示面板、显示装置的具体实施方式进行详细的说明。附图中各膜层的形状和大小不反映其在显示基板或反射型液晶显示面板中的真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供的一种显示基板，如图2a至图2c所示，包括：衬底基板201，设置于衬底基板201上的具有网格状结构的黑矩阵202，以及设置于黑矩阵202之上的反射层203；其中，黑矩阵202在衬底基板201上的正投影覆盖反射层203在衬底基板201上的正投影。在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，由于黑矩阵202在衬底基板201上的正投影覆盖反射层203在衬底基板201上的正投影，使得外部的环境光不会直接射向反射层203面向黑矩阵202的一侧的表面，因此，反射层203不会影响进入液晶盒内的入射光的总量。并且，由于在黑矩阵202之上增加了反射层203，如图4所示，使得进入液晶盒内的入射光L可在对向基板的像素电极401与显示基板的反射层203之间经过多次反射后射出，从而避免了黑矩阵202对像素电极401反射至黑矩阵202所在区域的光的吸收，进而增加了出光量，在一定程度上实现了增加反射面积的作用，因此，提高了反射型液晶显示面板的对比度。掩膜板作为转移微细图形的工具，在显示面板生产中具有承上启下的关键作用，是显示面板产业链中不可或缺的重要环节。然而，掩膜板价格昂贵，在生产技术成本中占据很大比重。因此，为了降低生产成本，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，设置反射层203在衬底基板201上的正投影与黑矩阵202在衬底基板201上的正投影完全重叠。这样，就可以使用同一张掩膜板分别制作黑矩阵202和反射层203的图形，从而节约生产成本。并且，由于黑矩阵202具有网格状结构，因此，使用黑矩阵202的掩膜板制作出的反射层203同样具有网格状结构。当然，在具体实施时，还可以根据实际需要单独设计一张用于制作反射层203的图形的掩膜板，以制作出具有其他结构的反射层203，在此不做限定。在具体实施时，为了最大程度地增加出光量，在本专利技术实施例提供的上述显示基板中，反射层203的背离黑矩阵202一侧的表面为经过粗糙化处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的具有网格状结构的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵之上的反射层；其中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层在所述衬底基板上的正投影。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的具有网格状结构的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵之上的反射层；其中，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影覆盖所述反射层在所述衬底基板上的正投影。2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层在所述衬底基板上的正投影与所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影完全重叠。3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的背离所述黑矩阵一侧的表面为经过粗糙化处理的表面。4.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：设置于所述黑矩阵之上的色阻层。5.如权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述反射层位于所述黑矩阵与所述色阻层之间，或，所述反射层位于所述色阻层之上。6.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：设置于所述黑矩阵之上的公共电极层。7.如权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述反射层与所述公共电极层电性连接。8.如权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述反射层位于所述公共电极层之上；或者，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙丽，李红敏，邵文君，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11