涂布喷嘴清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种涂布喷嘴清洗装置，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔；此时只需在主液容纳腔内注入光阻清洗液对光阻进行清洗，在副液容纳腔内注入纯水对光阻与光阻清洗液组成的混合物进行清洗，便能解决现有技术无法对光阻与清洗液混合物进行有效清洗的问题。

Coating nozzle cleaning device

The invention discloses a coating nozzle cleaning device, which comprises a roller, a part of which occupies a coating area, and the roller can rotate automatically; a main cleaning device, which is located outside the coating area, a main liquid holding chamber, and a part of the roller is located therein. The main liquid holding chamber and the auxiliary cleaning device are arranged outside the coating area, and the auxiliary cleaning device is provided with a secondary liquid holding chamber, and a part of the roller is placed in the secondary liquid holding chamber. The roller rotates through the coating area and can rotate through the main body along with the roller. The liquid holding chamber and the accessory liquid holding chamber can solve the problem that the existing technology can not effectively clean the mixture of the light resistance and the cleaning liquid by injecting the photoresist cleaning liquid into the main liquid holding chamber to clean the resistance and injecting pure water into the accessory liquid holding chamber to clean the mixture of the light resistance and the photoresist cleaning liquid.

【技术实现步骤摘要】
涂布喷嘴清洗装置
本专利技术涉及一种喷嘴清洗装置，特别涉及一种涂布喷嘴清洗装置。
技术介绍
在TFT(即ThinFilmTransistor，是薄膜晶体管的缩写)侧曝光部的生产工艺中，需要依次进行玻璃基板清洗、涂布光阻、烘烤、进入曝光机、在玻璃基板上对光阻定义图形、最后经显影制程显示图形。其中，玻璃基板完成清洗后会进入涂布单元进行光阻涂布，在涂布前会对涂布喷嘴进行清洗，完成后，涂布喷嘴会在辊筒上进行光阻预吐出动作，以此来保证涂布时玻璃基板前端膜厚的均一；当辊筒开始转动工作，预吐出的光阻随辊筒的转动被带入下方清洗辊筒的光阻清洗液中，再通过刮条将辊筒上的光阻清洗液刮干净，以此来保证辊筒的洁净度。但是此方案中的光阻清洗液只是对辊筒进行光阻清洁，在长期使用过程中，光阻清洁液中所含光阻浓度会不断增加，这种混合液挥发物会附着在辊筒表面形成结晶物，而光阻清洗液对这种结晶物的清洁效果不佳，影响辊筒洁净度，造成涂布喷嘴涂布不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种涂布喷嘴清洗装置，以解决现有技术无法对光阻与清洗液混合物进行有效清洗的问题。为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种涂布喷嘴清洗装置，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔。其中，所述主清洗装置还设有主刷条，所述主刷条置于所述主液容纳腔的外部，所述主刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主液容纳腔、所述主刷条和所述副清洗装置。其中，所述副清洗装置还设有副刷条，所述副刷条置于所述副液容纳腔的外部，所述副刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、所述副液容纳腔和所述副刷条。其中，所述副清洗装置至少为两个，所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、以及各个所述副清洗装置。其中，所述涂布区置于所述辊筒的上部，所述主清洗装置和所述副清洗装置分别布置于所述辊筒相对的两侧；所述主液容纳腔与所述辊筒的周侧相对，所述主液容纳腔的开口边缘部位与所述辊筒的周侧抵接；所述副液容纳腔与所述辊筒的周侧相对，所述副液容纳腔的开口边缘部位与所述辊筒的周侧抵接。其中，所述主液容纳腔内设有主液喷嘴，所述主液喷嘴设有主液吸口和主液喷口，所述主液吸口置于所述主液容纳腔的下部，所述主液喷口对准所述辊筒的周侧。其中，所述副液容纳腔内设有副液喷嘴，所述副液喷嘴设有副液吸口和副液喷口，所述副液吸口置于所述副液容纳腔的下部，所述副液喷口对准所述辊筒的周侧。其中，所述涂布喷嘴清洗装置还包括废液盘，所述废液盘设于所述辊筒的下方；所述主液容纳腔下部的开口边缘部位置于所述废液盘装载范围的上方；所述副液容纳腔下部的开口边缘部位置于所述废液盘装载范围的上方。其中，所述主清洗装置设于所述辊筒的下方，所述辊筒下部的一部分置于所述主液容纳腔内；所述副清洗装置设于所述主清洗装置的上方，所述副液容纳腔与所述辊筒的周侧相对，所述副液容纳腔的开口边缘部位与所述辊筒的周侧抵接。其中，所述副液容纳腔下部的开口边缘部位置于所述主液容纳腔的上方。本专利技术的有益效果如下：由于所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔，所以辊筒涂布有光阻的部位必然经过主液容纳腔和副液容纳腔，此时只需在主液容纳腔内注入光阻清洗液对光阻进行清洗，在副液容纳腔内注入纯水对光阻与光阻清洗液组成的混合物进行清洗(纯水对此混合物的清洗效果较佳)，便能解决现有技术无法对光阻与清洗液混合物进行有效清洗的问题。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术涂布喷嘴清洗装置第一个实施例的结构示意图；图2是本专利技术涂布喷嘴清洗装置第二个实施例的结构示意图；图3是本专利技术涂布喷嘴清洗装置第三个实施例的结构示意图；图4是本专利技术涂布喷嘴清洗装置第四个实施例的结构示意图；图5是本专利技术涂布喷嘴清洗装置的主液喷嘴结构示意图；图6是本专利技术涂布喷嘴清洗装置的副液喷嘴结构示意图；图7是本专利技术涂布喷嘴清洗装置第五个实施例的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。从图1可知，本专利技术所述涂布喷嘴清洗装置的第一个实施例包括有：机壳1A，如图1所示，机壳1A的内部设有器件容纳腔11A，器件容纳腔11A用于放置涂布喷嘴清洗装置的各种部件，而机壳1A的上部为开口结构，以此将器件容纳腔11A与外界导通，便于涂布喷嘴2A移至器件容纳腔11A内进行清洗。辊筒3A，如图1所示，辊筒3A设于器件容纳腔11A内，辊筒3A为圆筒状结构，辊筒3A能够以其中心轴线为转动中心进行自转，辊筒3A的自转方向为逆时针转动；其中，辊筒3A上部最高处所占的区域为涂布区31A(即图1所示的虚线框区域)，涂布区31A与机壳1A的开口结构相对，以便涂布喷嘴2A在涂布区31A对辊筒3A进行光阻涂布操作。主清洗装置4A，如图1所示，主清洗装置4A设于器件容纳腔11A内，并置于辊筒3A的左侧，以及与涂布区31A相互分离，从而避免影响涂布喷嘴2在涂布区31A对辊筒3A进行光阻涂布操作；其中，主清洗装置4A设有主液容纳腔41A，主液容纳腔41A与外界导通，主液容纳腔41A的开口边缘部位与辊筒3A左侧的周侧抵接，以使辊筒3A左侧的一部分置于主液容纳腔41A内。副清洗装置5A，如图1所示，副清洗装置5A设于器件容纳腔11A内，并置于辊筒3A的右侧，以及与涂布区31A相互分离，从而避免影响涂布喷嘴2A在涂布区31A对辊筒3A进行光阻涂布操作；其中，副清洗装置5A设有副液容纳腔51A，副液容纳腔51A与外界导通，副液容纳腔51A的开口边缘部位与辊筒3A右侧的周侧抵接，以使辊筒3A右侧的一部分置于副液容纳腔51A内。其应用过程大致如下：1、涂布喷嘴2A移动至涂布区31A的上方，然后在涂布区31A对辊筒3A进行光阻涂布操作，此时由于辊筒3A时刻保持逆时针的自转状态，所以辊筒3A涂布有光阻的部分将会转动至主液容纳腔41A内；2、在主液容纳腔41A内注入光阻清洗液，所以滚筒3A涂布有光阻的部分将会与光阻清洗液接触，光阻清洗液便可洗去辊筒3A上的光阻，以达成光阻清洗的目的，此时辊筒3A光阻被清洗的部分将会转动至副液容纳腔51A内；3、在副液容纳腔51A内注入清水(或其他高效可行的清洗液)，假若辊筒3A上粘附有光阻和清洗液组成的混合物(后文简称为混合物)，通过清水与混合物接触便可进行有效清洗，从而达到清洗混合物的目的。因此，本专利技术所述涂布喷嘴清洗装置的第一个实施例至少具备以下有益效果：1.将本实施例有关辊筒3A、主清洗装置4A和副清洗装置5A结本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔。

【技术特征摘要】
1.一种涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，包括，辊筒，所述辊筒一部分所占的区域为涂布区，所述辊筒能够进行自转；主清洗装置，所述主清洗装置设于所述涂布区外，所述主清洗装置设有主液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述主液容纳腔内；以及副清洗装置，所述副清洗装置设于所述涂布区外，所述副清洗装置内部设有副液容纳腔，所述辊筒的一部分置于所述副液容纳腔内；所述辊筒自转经过所述涂布区的部位，能够随所述辊筒自转经过所述主液容纳腔和所述副液容纳腔。2.根据权利要求1所述的涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，所述主清洗装置还设有主刷条，所述主刷条置于所述主液容纳腔的外部，所述主刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主液容纳腔、所述主刷条和所述副清洗装置。3.根据权利要求1或2所述的涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，所述副清洗装置还设有副刷条，所述副刷条置于所述副液容纳腔的外部，所述副刷条与所述辊筒的周侧抵接；所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、所述副液容纳腔和所述副刷条。4.根据权利要求3所述的涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，所述副清洗装置至少为两个，所述辊筒的自转方向为从所述涂布区依次经过所述主清洗装置、以及各个所述副清洗装置。5.根据权利要求1所述的涂布喷嘴清洗装置，其特征在于，所述涂布区置于所述辊筒的上部，所述主清洗装置和所述副清洗装置分别布置于所述辊...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕良，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42