当前位置: 首页 > 专利查询>邓新晶专利>正文

防臭地漏制造技术

技术编号:1942051 阅读:256 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种防臭地漏,包括下底带有圆形出水口的壳体(2),其特征是:出水口的上下端口之间有存水空间(4),置于出水口上的浮球(3)至少与出水口的下端口配合并出水口封闭。(*该技术在2011年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术为一种防臭地漏,属于一种日常生活用品。本技术包括下底带有圆形出水口的壳体,出水口的上下端口之间有存水空间,置于出水口上的浮球至少与出水口的下端口配合而将其封闭。本技术只能暂时将一部分水存于其存水空间内而保证其密封效果,当有水进入其壳体内时,浮球上浮,留于存水空间内的水首先进入下水道中,水流过后,存于存水空间内的水为新水,因此它解决了现有地漏存水带长期存水的问题,从而有效地避免了存水带的水变质而对室内空气造成的影响。本技术存水空间可通过将出水口设计为上端口直径大于其下端口直径的结构来实现。为使其存水量较大,最好将上下端口之间的端面为呈上部曲率大、下部曲率小的弧面。另外,浮球最好能够同时与出水口的上下端口配合。而壳体上最好有一上盖,该上盖应有过水孔。权利要求1.一种防臭地漏,包括下底带有圆形出水口的壳体(2),其特征是出水口的上下端口之间有存水空间(4),置于出水口上的浮球(3)至少与出水口的下端口配合并出水口封闭。2.根据权利要求1所述的防臭地漏,其特征是壳体(2)出水口上端口直径大于其下端口直径构成存水空间(4)。3.根据权利要求2所述的防臭地漏,其特征是壳体(2)出水口上下端口之间的端面为呈上部曲率大、下部曲率小的弧面。4.根据权利要求1或2或3所述的防臭地漏,其特征是浮球(3)能够同时与壳体(2)出水口的上下端口配合。5.根据权利要求1或2或3所述的防臭地漏,其特征是壳体(2)上装有上盖(1)。6.根据权利要求5所述的防臭地漏,其特征是上盖(1)上有过水孔。专利摘要本技术为一种防臭地漏,属于一种日常生活用品。它包括下底带有圆形出水口的壳体,出水口的上下端口之间有存水空间,置于出水口上的浮球至少与出水口的下端口配合而将其封闭。本技术只能暂时将一部分水存于其存水空间内而保证其密封效果,当有水进入其壳体内时,浮球上浮,留于存水空间内的水首先进入下水道中,水流过后,存于存水空间内的水为新水,因此它解决了现有地漏存水带长期存水的问题,从而有效地避免了存水带的水变质而对室内空气造成的影响。文档编号E03C1/28GK2523804SQ0127797公开日2002年12月4日 申请日期2001年12月31日 优先权日2001年12月31日专利技术者邓新晶, 朱英 申请人:邓新晶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邓新晶朱英
申请(专利权)人:邓新晶
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1