用于光线追踪架构的采样模式生成的方法和装置制造方法及图纸

一种用于光线追踪架构中的采样模式生成的装置和方法。例如，图形处理装置的一个实施例包括：光线生成电路，用于从一个或多个图像块生成光线流；以及样本模式生成电路，用于针对光线流中的光线生成样本，生成的所述样本在给定帧的各像素之间呈现至少一些随机性但在多个帧之间是可重复的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光线追踪架构的采样模式生成的方法和装置
技术介绍

本专利技术总体涉及计算机处理器领域。更具体地，本专利技术涉及用于光线追踪架构的采样模式生成的装置和方法。相关技术描述光线追踪是一种图形处理技术，用于通过遍历每条光线通过像平面中的像素的路径并模拟其入射到不同对象上的效果来生成图像。在遍历计算之后，通常会测试每条光线与场景中的对象的某一子集的交叉。一旦已经标识出最近的物体，就对交叉点处的入射光进行估算，物体的材料属性就被确定，并且该信息被用于计算像素的最终颜色。在诸如区域光、环境遮蔽、光泽反射、全局照明之类的更先进的光线追踪算法中经常出现的是到达某一点的辐射的集成(integration)。这是通过将来自生成多条“随机”光线(例如64条)以对环境进行采样的结果相加来完成的。这些样本需要遵守一些概率分布函数，在像素到像素之间呈现一定程度的随机性，但是在帧到帧之间是可重复的。附图说明结合以下附图，从以下具体实施方式可获得对本专利技术更好的理解，其中：图1是具有处理器的计算机系统的实施例的框图，所述处理器具有一个或多个处理器核以及图形处理器；图2是处理器的一个实施例的框图，所述处理器具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图形处理装置，包括：光线生成电路，用于从一个或多个图像块生成光线流；以及样本模式生成电路，用于针对所述光线流中的光线生成样本，生成的所述样本在给定帧的各像素之间呈现至少一些随机性，但在多个帧之间是可重复的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.01 US 15/088,5031.一种图形处理装置，包括：光线生成电路，用于从一个或多个图像块生成光线流；以及样本模式生成电路，用于针对所述光线流中的光线生成样本，生成的所述样本在给定帧的各像素之间呈现至少一些随机性，但在多个帧之间是可重复的。2.如权利要求1所述的图形处理装置，进一步包括：样本模式索引，可由所述样本模式生成电路用于标识存储在存储器中的特定样本模式。3.如权利要求2所述的图形处理装置，其特征在于，标识特定样本模式包括检取存储在所述存储器中的样本表的地址。4.如权利要求3所述的图形处理装置，进一步包括：样本集索引，用于从所述样本表中标识特定的一组样本。5.如权利要求4所述的图形处理装置，其特征在于，所述样本表包括层级结构布置，所述层级结构布置包括N个层，其中每个层包括M个集群，每个集群包括O个样本。6.如权利要求5所述的图形处理装置，其特征在于，通过从所述层中的每一个层的一个特定集群读取所有样本来形成样本模式。7.如权利要求6所述的图形处理装置，其特征在于，所述样本表包括8个层，每个层具有8个集群，并且每个集群4个样本。8.如权利要求4所述的图形处理装置，其特征在于，所述特定样本模式将基于以下各项中的一项或多项来选择：每个光源的不同形状、不同材料的不同双向反射分布函数(BRDF)、以及针对环境遮蔽的余弦加权半球采样模式。9.如权利要求1所述的图形处理装置，进一步包括：交叉电路，用于执行每条光线针对一个或多个基元的交叉测试，以生成交叉结果。10.如权利要求9所述的图形处理装置，进一步包括：多个着色器，用于被分派成对所述交叉结果执行着色操作。11.一种系统，包括：存储器，用于存储数据和程序代码；中央处理单元(CPU)，包括用于高速缓存所述程序代码的一部分的指...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·R·鲍德温，
申请(专利权)人：英特尔公司，
类型：发明
国别省市：美国,US