无止回阀防虹吸的液箱供液装置制造方法及图纸

技术编号:1934537 阅读:209 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种液箱供液装置,在液箱中设有供液管和排液管,其中排液管的管口位于液箱内空间的上部,其特征在于供液管位于其上端固定于液箱顶、其下端开口位于液箱内空间的下部的套管内,所述的供液管口位于液箱内空间的上部,所述的套管的上端开有与液箱内空间连通的小孔,且小孔的面积应小于套管内径与供液管外径间形成的面积。(*该技术在2004年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种特殊用途的液箱供液装置。本技术是在液箱中设置供液管和排液管,其中的排液管口位于液箱的上部。在一些特殊的液箱供液装置中要求供液管口应位于液箱的底部,而排液管口应位于液箱的上部。这类的供液装置为防止在意外情况下,如在进液体时发生供液管与液体源的接头处被意外打开,液箱内的水经供液管回流出的现象,均是在供液管上设置止回阀。这种在供液管上设置止回阀的供液装置其液箱结构较为复杂,安装较为困难,并使其成本较高,而且当流入液体的压力较低时可能发生进液无法顶开止回阀,至使箱外液体不能进入液箱内。本技术的目的是提供一种可克服现有技术不足,不设止回阀且可避免液箱内的液体从供液管中回流出的液箱供液装置。本技术的目的通过下述措施实现将供液管置于其上端固定于液箱顶,其下端开口位于液箱内空间的下部的套管内,所述的供液管口位于液箱内空间的上部,所述的套管的上端开有与液箱内空间连通的小孔,且小孔的面积应小于套管内径与供液管外径间形成的面积。本技术所公开的液箱供液装置在工作时,经供液管流入的液体只有极少部分从所述的小孔中进入液箱的上部,绝大部分液体流过供液管与套管间的间隙,并从套管的下端开口处流入液箱的低部,在意外情况下,当供液管与外界连通时,由于虹吸的作用液箱内的液体将通过供液管流出,此时,外界的空气将通过排液管进入液箱中,并在液箱的顶部产生一空气间隙,当此空气间隙位置达套管上小孔处时空气即从小孔中进入套管与供液管的间隙中,同时破坏液箱内的虹吸条件,使液箱内的液不再流出。如果套管上的小孔的位置非常靠近水箱的顶部,发生意外时可以认为从供液管中不会流出液体。本技术采用在供液管上加设其顶部带小孔的套管的简单结构,可靠地解决了特殊情况下液箱内的液体从供液中管回流出的问题,既简化了供液装置的结构,又降低了制造成本,而且使用中,当流入液箱的压力降低时不会产生现有技术发生的液体无法进入液箱的问题。 附图说明图1是本技术的结构示意图图2是图1中A部的局部旋转放大示意图以下结合附图进一步解说本技术在图1给出的实施例中,在由箱体(1)围成的储液空间(2)中设有供液管(3)、排液管(4),其中供液管口(5)和排液管口(7)均位于液箱的上部。在供液管(3)外套有套管(8),套管(8)的上端与液箱顶(9)固定,其下端开口(10)位于液箱(1)内的下部。在套管(8)的上端靠近液箱顶(9)处设有小孔(11),参见图2。本技术的一个实施例中小孔(11)的面积与套管(8)和供液管(3)间所围成的面积比小于百分之一。本技术工作时,经供液管(3)流入的液体,从管口(5)流入套管(8)后,一部分液体从小孔(11)直接进入液箱(1)中,由于孔(11)的面积远远小于套管(8)和管(3)间形成的间隙面积,因此这部分液体流量远远小于经管口(10)流入箱(1)的下部的液体量。在意外情况下,当供液管(3)与外界连通时,由于虹吸的作用箱(1)内的液体将通过供液管(3)流出液箱,此时,外界空气通过排液管进入箱体内的空间(2)内,并在箱(1)的顶部产生一空气间隙,当此空气间隙位置达套管(8)上小孔(11)处时,空气即从小孔(11)中进入套管与进水管的间隙(6)中,同时破坏箱内的虹吸条件,使箱内的液体无法再流出。权利要求1.一种液箱供液装置,在液箱中设有供液管和排液管,其中排液管的管口位于液箱内空间的上部,其特征在于供液管位于其上端固定于液箱顶、其下端开口位于液箱内空间的下部的套管内,所述的供液管口位于液箱内空间的上部,所述的套管的上端开有与液箱内空间连通的小孔,且小孔的面积应小于套管内径与供液管外径间形成的面积。2.根据权利要求1所述的供液装置,其特征在于所述的小孔面积与所述的套管内径与供液管外径间形成的面积比小于百分之一。专利摘要本技术公开一种其上不设止回阀且可避免箱内的液体从供液管中流出液箱供液装置。本技术在液箱中设有供液管和排液管,其中供液管和排液管的管口均位于液箱内空间的上部,且供液管位于上端固定于液箱顶,其下端开口位于液箱内空间的下部的套管内。所述的套管的上端开有与液箱内空间连通的小孔,且小孔的面积应小于套管内径与供液管外径间形成的面积。文档编号E03B11/00GK2222181SQ9424400公开日1996年3月13日 申请日期1994年10月24日 优先权日1994年10月24日专利技术者宁佐位 申请人:国营中兴电子仪器厂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:宁佐位
申请(专利权)人:国营中兴电子仪器厂
类型:实用新型
国别省市:

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