一种用于干式免疫分析仪校准的校准片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于干式免疫分析仪校准的校准片，该校准片由上盖板和下盖板盖合构成，该上盖板上设置有进样窗和出气孔，该下盖板设置有沟道，该沟道至少一端具有容纳腔，其中，下盖板的沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗在组合安装时位置上下对应。本实用新型专利技术的校准片具有不同形状和加工深度的沟道，通过加入不同的液体染料及染料浓度，可实现干式免疫分析仪自动加样评估、自动稀释评估、定量检测等功能的调试校准。

Calibration film for dry immune analyzer calibration

The utility model discloses a calibration sheet for calibration of dry immune analyzer. The calibration sheet is composed of an upper cover plate and a lower cover plate. The upper cover plate is provided with an inlet window and an outlet hole. The lower cover plate is provided with a channel. At least one end of the channel has a receiving chamber, in which a receiving chamber and an upper one of the channels of the lower cover plate are arranged. The sampling window of the cover plate corresponds to the upper and lower positions when the combination is installed. The calibration sheet of the utility model has channels of different shapes and processing depths. By adding different liquid dyes and dye concentration, the functions of automatic sampling evaluation, automatic dilution evaluation and quantitative detection of the dry immunoassay instrument can be adjusted and calibrated.

【技术实现步骤摘要】
一种用于干式免疫分析仪校准的校准片
本技术属于仪器校准
，涉及一种特殊设计的校准片，经加入特定染料，可用于干式免疫分析仪的校准评估。
技术介绍
干式免疫分析仪作为一种POCT(point-of-caretesting，即时检验)设备，广泛应用于生物医学检验领域。可用于定量分析待测物的标记物质多种多样，从胶体金、彩色乳胶微球、到荧光微球、量子点等等。然而在实际对设备进行校准时我们发现如下问题：1、目前用于校准的校准片多为干片，不能用于液路系统评估、稀释评估和整系统评估；2、用于校准的校准片自身存在不稳定，如荧光干片、量子点干片；3、用于校准的校准片也存在较严重的不均匀的问题，如喷墨打印的灰度片。上述问题在干式免疫分析仪的整体校准和标准化分析时产生较大的干扰。而常规的用于液路系统的比色皿又难在厚度上符合干式免疫分析仪要求的超薄标准片的要求。标准片的外观厚度是3.2～3.7mm，实际上根据不同的需求可以灵活设计，但比色皿是固定的结构，外观厚度应该在1cm左右，如果使用最小体积的比色皿，外观厚度也是不变的。此外，即使是比色皿最小规格，内腔也不太可能出现μm级的设计。基于上述原因与需求设计了该款带有特殊流道的可根据需求加入不同染料和染料浓度的校准片。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种能用于干式免疫分析仪校准的校准片，解决现有的干校准片的不稳定、不均匀的问题。为了达到上述目的，本技术提供了一种用于干式免疫分析仪校准的校准片，该校准片由上盖板和下盖板盖合构成，该上盖板上设置有进样窗和出气孔，该下盖板设置有沟道，该沟道至少一端具有容纳腔，其中，下盖板的沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗在组合安装时位置上下对应。较佳地，所述的沟道呈若干连续的U形。较佳地，沟道的两端均设有容纳腔。较佳地，所述的U形均匀布置，U形开口大小一致，沟道的一端设有容纳腔。较佳地，沟道呈直线形，沟道的两端均设有容纳腔。较佳地，所述沟道自左向右由若干个容积依次递增或者递减的孔组成矩阵列，并由一中轴线沟道贯穿整个阵列并连接两端容纳腔。矩阵列的孔不限于矩形，也可以为椭圆或圆形等等。阵列的特点具有一系列的孔，孔的容积存在递增或者递减的趋势，同时有一条沟道能把这些孔、进样窗、废液池(或叫蓄液池)连接起来，这样可以实现在进样窗处加一次样，在阵列区可以产生不同强度的信号(信号的产生不但与溶液浓度相关、与光路穿透的液体厚度、液体截面积大小都相关)。较佳地，上盖板与下盖板不连接或一端连接。本技术在下盖板表面设计一系列微型流道(即沟道)，在上盖板上打孔作为进样窗及出气孔。将上下盖板经键合或粘结或卡扣处理后成为可用于校准的校准片。在流道的加样窗处加入液体染料，通过毛细作用驱动，液体染料会发生下渗并向前段迁移，在1分钟内，染料会浸没整个流道并达到平衡状态。流道的形状和加工厚度决定了可容纳的液体体积(流道面积*流道深度)，如加工50μm厚的流道约可以容纳15μL样本，同样的流道加工1mm厚度则可以容纳300μL样本。此外，流道厚度加深，其对应的光学信号也会发生变化，根据检测原理不同，信号会上升(发射或反射光检测)或下降(吸收光检测)。根据待检设备评估内容，流道有不同的形状及组合，一般包括蛇形、矩阵列、线性、孔洞等等。本技术的优点：1.本技术所述的校准片可根据设备校准要求在加样窗处加入规定量的、具有不同激发发射光谱的特定染料，实现在该光谱条件下的光学模块检测，同时根据检测信号与标准值间的差异对光源检测模块进行校准。如对可见光检测模块进行检测和校准，可添加常规染料如丽春红等；在对荧光检测模块进评估时，则应添加特定的荧光染料。2.本技术所述的校准片设计了不同的流道，组合使用时，这些流道在设备的水平方向或射线方向发生偏离时，所检测到的信号也会相应偏离标准值，据此可进行设备水平方向和射线方向的检测和校准。3.本技术所述的校准片尝试在同一下盖板上设计不同大小的孔洞，这些孔洞彼此相通，染料浓度一致，孔洞容积呈递增或递减趋势。因此认为，同一样本可在不同孔洞处产生不同强度的信号，且信号间的差值应与孔洞容积差值存在一致性，如存在显著差异，应只与光源检测模块的分辨率相关，其高低值信号差值与孔洞容积差值的比值即作为设备分辨率的评估标准，据此也可以对设备进行校准。4.本技术所述的校准片可用于评估设备的光学检测模块，由于其一次性使用的特点，可很好避免染料自身在反复激发中出现的荧光猝灭、衰减等问题。同时，由于溶液均一性的特点，可很好避免喷墨打印时干片不均匀的给设备校准带来的负面影响。5.本技术所述的校准片可根据设备需求评估设备的自动稀释精度。6.本技术所述的校准片可根据设备需求评估设备的自动加样精度。附图说明图1为本技术的一种用于干式免疫分析仪校准的校准片(实施例1的校准片1)的结构示意图。图2为本技术的一种用于干式免疫分析仪校准的校准片(实施例2的校准片2)的结构示意图。图3为本技术的一种用于干式免疫分析仪校准的校准片(实施例3的校准片3)的结构示意图。图4为本技术的一种用于干式免疫分析仪校准的校准片(实施例4的校准片4)的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和实施例对本技术的技术方案做进一步的说明。实施例1一种用于干式免疫分析仪校准的校准片如图1所示，由上盖板10和下盖板20盖合构成，该上盖板10上设置有进样窗11和出气孔12，优选位于上盖板的两端，该下盖板20设置有沟道21，该沟道两端均设有容纳腔211，其中，沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗11在组合安装时位置上下对应，另一个容纳腔与出气孔12上下位置对应。所述的沟道呈若干连续的U形，该U形开口的大小一致或不一致均可。以PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)为基材，加工制备上、下盖板，并在下盖板上加工深度为50μm～1mm的沟道，在上盖板上打孔制备进样窗和出气孔，然后将上下盖板进行粘合固定或者卡扣固定，即获得校准片1。将该实施例1制备的校准片1用于对检测模块标准化评估。在校准片的右侧加样窗处加入标准化的染料(如丽春红、溴苯甲紫)，50μm厚的流道约可以容纳15μL样本，同样的流道加工1mm厚度则可以容纳300μL样本，在液体流动达到平衡后(约1分钟)，置于标准化的可见光检测模块上进行信号采集。然后，将校准片置于待检设备的光学检测模块上进行信号采集，根据信号的上调或下降来评估待检设备的光学检测模块是否达到预期要求，并对待检设备的组件进行调试直至待检设备采集到的信号与标准化光学模块采集的信号一致。该校准片所获得的信号相对均匀平滑，未出现如喷墨打印的干片校准时经常出现的信号毛刺(即喷墨不均匀引起的较高的背景噪音)，在标准化信号的时候具有比较好的优势。实施例2一种用于干式免疫分析仪校准的校准片如图2所示，由上盖板10和下盖板20盖合构成，该上盖板10上设置有进样窗11和出气孔12，优选位于上盖板的两端，该下盖板20设置有沟道21，该沟道两端均设有容纳腔211，其中，沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗11在组合安装时位置上下对应，另一个容纳腔与出气孔12上下位置对应。所述的沟道呈直线形，均匀铺设(沟道宽度一致)。以PDMS为基材，加工制备上、下盖板，并在下盖板上加工深度为50μm～本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，该校准片由上盖板和下盖板盖合构成，该上盖板上设置有进样窗和出气孔，该下盖板设置有沟道，该沟道至少一端具有容纳腔，其中，下盖板的沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗在组合安装时位置上下对应。

【技术特征摘要】
1.一种用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，该校准片由上盖板和下盖板盖合构成，该上盖板上设置有进样窗和出气孔，该下盖板设置有沟道，该沟道至少一端具有容纳腔，其中，下盖板的沟道的一个容纳腔与上盖板的进样窗在组合安装时位置上下对应。2.如权利要求1所述的用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，所述的沟道呈蛇形、矩阵列、线性、孔洞。3.如权利要求1所述的用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，所述的沟道呈若干连续的U形。4.如权利要求3所述的用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，沟道的两端均设有容纳腔。5.如权利要求3所述的用于干式免疫分析仪校准的校准片，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖玲妮，
申请(专利权)人：上海艾瑞德生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31