当前位置: 首页 > 专利查询>杨文伍专利>正文

纳米氮化硅新材料的制造制造技术

技术编号:19307163 阅读:41 留言:0更新日期:2018-11-03 05:06
本发明专利技术涉及纳米新材料技术领域,具体涉及纳米氮化硅新材料的制造,其原料由氮化硅,氧化物、氮化物、碳化物中的一种或几种组成,纳米氮化硅新材料的其步骤如下:先将原料倒入研钵中研磨混合均匀,再将研磨后的混合粉末加至球磨机中,混入溶剂进行湿法球磨;将球磨后的混合粉体置于干燥箱中蒸干,然后进行成型;将成型后的生坯送入真空烧结炉中,先升温至1400‑1900℃,保温0.1‑25h,然后在1700‑2000℃下进行二次烧结,保温0.1‑40h,随炉冷却至室温,得到毛坯;对毛坯进行表面磨削、去毛刺处理,即可;本发明专利技术通过改进工艺,进行两次烧结,使得产品在没有压力的情况下也能获得高致密产品,且产品形状不受限制,并可实现大规模批量生产。

Manufacture of new silicon nitride nano materials

The invention relates to the technical field of nano-materials, in particular to the manufacture of nano-materials of silicon nitride. The raw materials are composed of silicon nitride, oxide, nitride and carbide. The steps of nano-materials of silicon nitride are as follows: first, the raw materials are poured into a grinding bowl to grind and mix evenly, and then the grinded materials are mixed. Powder is added to ball mill, mixed with solvent for wet ball milling; mixed powder after ball milling is steamed and dried in drying box and then formed; green billet after ball milling is sent into vacuum sintering furnace, first heated to 1400 1900 for 0.1 25h, then sintered twice at 1700 2000 for 0.1 40h, followed by The furnace is cooled to room temperature to obtain the blank; the surface grinding and deburring of the blank can be carried out; by improving the process and sintering twice, the high-density product can be obtained without pressure, and the shape of the product is not limited, and large-scale batch production can be realized.

【技术实现步骤摘要】
纳米氮化硅新材料的制造
本专利技术涉及纳米新材料
,具体涉及纳米氮化硅新材料的制造。
技术介绍
氮化硅作为一种高温结构材料,具有热膨胀系数小、硬度大、弹性模量高及热稳定性、化学稳定性和电绝缘性好等特点。氮化硅材料的性能超越高温合金。氮化硅在冶金、机械、化学、半导体、航空、原子能等工业上以及医学工程上都有广泛的应用。随着纳米科学的发展,利用纳米氮化硅制造出新材料也越来越受到关注。但传统的纳米氮化硅新材料的制造方法依旧存在很多不足之处,首先,需要通过热压烧结炉等方法让产品实现致密,但这种方法只能制备形状规则的产品,且产量极小。
技术实现思路
(一)解决的技术问题本专利技术针对上述存在的问题,本专利技术提供一种纳米氮化硅新材料的制造方法,通过改进工艺,进行两次烧结,能有效控制产品的孔隙大小和均匀性,使得产品在没有压力的情况下也能获得高致密产品,且产品形状不受限制,并可实现大规模批量生产。(二)技术方案为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:纳米氮化硅新材料的制造,步骤如下:(1)纳米氮化硅新材料的原料由氮化硅,氧化物、氮化物、碳化物中的一种或几种组成;(2)先将原料倒入研钵中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.纳米氮化硅新材料的制造,其特征在于,步骤如下:(1)纳米氮化硅新材料的原料由氮化硅,氧化物、氮化物、碳化物中的一种或几种组成;(2)先将原料倒入研钵中研磨混合均匀,再将研磨后的混合粉末加至球磨机中,混入溶剂进行湿法球磨;(3)将球磨后的混合粉体置于干燥箱中蒸干,然后进行成型;(4)将成型后的生坯送入真空烧结炉中,先升温至1400‑1900℃,保温0.1‑25h,然后在1700‑2000℃下进行二次烧结,保温0.1‑40h,随炉冷却至室温,得到毛坯;(5)对毛坯进行表面磨削、去毛刺处理,即可得到纳米氮化硅新材料产品。

【技术特征摘要】
1.纳米氮化硅新材料的制造,其特征在于,步骤如下:(1)纳米氮化硅新材料的原料由氮化硅,氧化物、氮化物、碳化物中的一种或几种组成;(2)先将原料倒入研钵中研磨混合均匀,再将研磨后的混合粉末加至球磨机中,混入溶剂进行湿法球磨;(3)将球磨后的混合粉体置于干燥箱中蒸干,然后进行成型;(4)将成型后的生坯送入真空烧结炉中,先升温至1400-1900℃,保温0.1-25h,然后在1700-2000℃下进行二次烧结,保温0.1-40h,随炉冷却至室温,得到毛坯;(5)对毛坯进行表面磨削、去毛刺处理,即可得到纳米氮化硅新材料产品。2.如权利要求1所述纳米氮化硅新材料的制造,其特征在于:所述步骤(1)中纳米氮化硅新材料的原料按照重量份计为:氮化硅150-200份、氧化钇30-50份和氧化铝30-50份。3.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨文伍
申请(专利权)人:杨文伍
类型:发明
国别省市:广东,44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1