一种去除原料中金属杂质的装置制造方法及图纸

技术编号:19299162 阅读:23 留言:0更新日期:2018-11-03 01:42
本实用新型专利技术提供的一种去除原料中金属杂质的装置,包括设置在料仓和熔化炉之间的框架,所述框架内均布有若干个磁棒;在进料时,玻璃料从料仓出来进入框架,通过磁棒去除原料中夹杂的金属杂质,经过过滤后的原料再进入到熔化炉中;通过设置的磁棒达到将金属杂质去除的目的。本实用新型专利技术结构简单、易操作,同时提高了玻璃的良品率。

A device for removing metal impurities in raw materials

The utility model provides a device for removing metal impurities in raw materials, which comprises a frame arranged between a bin and a melting furnace, in which several magnetic rods are distributed; when feeding, glass material comes out of the bin and enters the frame, and metal impurities in raw materials are removed by magnetic rods, and raw materials after filtering are re-entered. The aim is to enter the melting furnace and remove the metal impurities by setting the magnetic rods. The utility model has the advantages of simple structure and easy operation, and improves the yield of glass at the same time.

【技术实现步骤摘要】
一种去除原料中金属杂质的装置
本技术属于玻璃制造领域,涉及一种去除原料中金属杂质的装置。
技术介绍
玻璃生产制造中,原料在融化前可能含有金属杂质。实际生产中,由于前端原料过滤不彻底,金属检测出现偏差,导致玻璃品质不良,而这种不良无法通过其它有效方法补救,通常只能对已经生产出来的玻璃进行报废,做工程玻璃,造成很大浪费。在已知的现有技术中,由于原料量巨大,金属杂质不可能完全去除,使得良品率降低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种去除原料中金属杂质的装置,解决了现有原料中含有大量的金属杂质,造成玻璃的良品率降低的缺陷。为了达到上述目的,本技术采用的技术方案是:本技术提供的一种去除原料中金属杂质的装置,包括设置在料仓和熔化炉之间的除杂装置,所述除杂装置包括框架,所述框架内均布有若干个磁棒。优选地,两个相邻的磁棒之间的间距为30mm。优选地,磁棒的磁力强度为20000Gs。优选地,框架配合连接有支架,所述支架与框架之间组成“抽屉”式结构。优选地,支架为“门”型结构;同时,所述支架的两侧壁上均开设有滑槽,所述框架与两个滑槽相配合。优选地,支架的下方设置有具有中空结构的底座。与现有技术相比,本技术的有益效果是:本技术提供的一种去除原料中金属杂质的装置,包括设置在料仓和熔化炉之间的框架,所述框架内均布有若干个磁棒;在进料时,玻璃料从料仓出来进入框架,通过磁棒去除原料中夹杂的金属杂质,经过过滤后的原料再进入到熔化炉中;通过设置的磁棒达到将金属杂质去除的目的。本技术结构简单、易操作,同时提高了玻璃的良品率。进一步的,将两个相邻的磁棒之间的间距设计为30mm,在保证了金属杂质去除的彻底性,同时,保证了原料顺利的通过除装置。进一步的,通过框架和支架组成的“抽屉”式结构,方便了除杂装置的清理。进一步的,在支架的下方设置底座,提高了支架的稳定性。附图说明图1是除杂装置的结构示意图;图2是支架的结构示意图;图3是底座的结构示意图;其中,1、框架2、磁棒3、支架4、底座。具体实施方式下面结合附图,对本技术进一步详细说明。如图1所示,本技术提供的一种去除原料中金属杂质的装置,包括设置在料仓和熔化炉之间的除杂装置,所述除杂装置包括框架1,所述框架1内均布有若干个磁棒2。在进料时,玻璃料从料仓出来进入框架1,通过磁棒2去除原料中夹杂的金属杂质,经过过滤后的原料再进入到熔化炉中。两个相邻的磁棒2之间的间距为30mm。由于原料量大,所以去除金属杂质时,磁棒2的磁力强度为20000Gs。磁棒2在工作一段时间后,需要对其进行清理,为了清理时方便,框架1配合连接有支架3,所述支架3与框架1之间组成“抽屉”式结构。如图2所示,支架3为“门”型结构,同时,所述支架3的两侧壁上均开设有滑槽,所述框架1与两个滑槽相配合,保证了框架1能够随时抽取进行清理。如图3所示,为了支架3的稳定性,在支架3的下方设置有具有中空结构的底座4。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种去除原料中金属杂质的装置,其特征在于:包括除杂装置,除杂装置的进料口与料仓的出料口连接,除杂装置的出料口与熔化炉的进料口连接,所述除杂装置包括框架(1),所述框架(1)内均布有若干个磁棒(2);两个相邻的磁棒(2)之间的间距为30mm;磁棒(2)的磁力强度为20000Gs。

【技术特征摘要】
1.一种去除原料中金属杂质的装置,其特征在于:包括除杂装置,除杂装置的进料口与料仓的出料口连接,除杂装置的出料口与熔化炉的进料口连接,所述除杂装置包括框架(1),所述框架(1)内均布有若干个磁棒(2);两个相邻的磁棒(2)之间的间距为30mm;磁棒(2)的磁力强度为20000Gs。2.根据权利要求1所述的一种去除原料中金属杂质的装置,其特征在于:框架(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:王剑贺群胜
申请(专利权)人:彩虹合肥液晶玻璃有限公司
类型:新型
国别省市:安徽,34

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