地下工程半逆作框架结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种地下工程半逆作框架结构，包括第一层框架结构以及设在其下方的第二层框架结构，其中，在所述第一层框架结构和第二层框架结构之间设有全断面注浆管。利用本实用新型专利技术提供的地下工程半逆作框架结构，结构简单，可以填补半逆作框架结构施工中存在的施工缝，提高框架结构的防水效果，且成本低。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种地下工程半逆作框架结构，包括第一层框架结构以及设在其下方的第二层框架结构，其特征在于：在所述第一层框架结构和第二层框架结构之间设有全断面注浆管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陆顺康，游庆军，
申请(专利权)人：上海市第五建筑有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]