辐射断层成像系统及其控制程序技术方案

本公开提供一种X射线CT系统，所述X射线CT系统包括：存储装置，所述存储装置用于在其中存储参考发射条件，所述参考发射条件定义成具有被检体中的所需参考宽度和所需参考体厚中的至少一者，并且定义成考虑所述被检体内的X射线吸收程度；相机和距离传感器，用于检测所述被检体的宽度和体厚；以及发射条件设置部分76，所述发射条件设置部分用于在根据所检测到的所述被检体的宽度与所述参考宽度之间的差异，以及由所述光学传感器检测到的所述被检体的所述体厚与所述参考体厚之间的差异中的至少一个差异来校正所述参考发射条件之后，设置X射线管在成像中发射的X射线的发射条件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射断层成像系统及其控制程序
本专利技术涉及一种辐射断层成像系统及其控制程序，所述控制程序用于基于被检体宽度和体厚中的至少一者设置对被检体的辐射发射条件。
技术介绍
辐射断层成像设备中提供的功能包括自动曝光控制机构。所述自动曝光控制机构基于事先采集的指示被检体内辐射吸收剂量分布的数据来自动控制向被检体发射的辐射输出功率，以使针对辐射吸收剂量较高的位置的所述功率提高，并且针对辐射吸收剂量较小的位置的所述功率减小。现在将进一步描述所述自动曝光控制机构。首先，执行向被检体发射低剂量辐射的初步扫描，即定位扫描。然后，根据在定位扫描中获得的投影数据，针对被检体身体轴线方向上的每个位置确定所述投影数据的剖面面积、通过以椭圆方式近似穿过被检体身体轴线的横截面而获得的椭圆率、辐射衰减量等。随后基于有关所述面积、椭圆率、衰减量等的信息，针对被检体身体轴线方向上的每个位置设置所发射辐射的输出功率，例如辐射管的管电流值，以便噪声量在重建图像上是均匀的(参见专利文献1)。之后以所设置的输出功率来执行主扫描。现有技术参考[专利文献1]日本专利申请KOKAI2001-043993号专利技术内容但是如上所述，由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种辐射断层成像系统，其中包括：辐射管，所述辐射管用于将辐射发射到被检体上；存储装置，所述存储装置用于在其中存储由所述辐射管发射的辐射的参考发射条件，所述参考发射条件定义成具有所述被检体中的所需参考宽度和所需参考体厚中的至少一者，并且定义成考虑所述被检体中对所述辐射的吸收程度；光学传感器，所述光学传感器用于检测所述被检体的宽度和体厚中的至少一者；以及发射条件设置部分，所述发射条件设置部分用于在根据由所述光学传感器检测到的所述被检体的所述宽度与所述参考宽度之间的差异以及由所述光学传感器检测到的所述被检体的所述体厚与所述参考体厚之间的差异中的至少一个差异来校正所述参考发射条件之后，设置所述辐射...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.22 JP 2016-0308891.一种辐射断层成像系统，其中包括：辐射管，所述辐射管用于将辐射发射到被检体上；存储装置，所述存储装置用于在其中存储由所述辐射管发射的辐射的参考发射条件，所述参考发射条件定义成具有所述被检体中的所需参考宽度和所需参考体厚中的至少一者，并且定义成考虑所述被检体中对所述辐射的吸收程度；光学传感器，所述光学传感器用于检测所述被检体的宽度和体厚中的至少一者；以及发射条件设置部分，所述发射条件设置部分用于在根据由所述光学传感器检测到的所述被检体的所述宽度与所述参考宽度之间的差异以及由所述光学传感器检测到的所述被检体的所述体厚与所述参考体厚之间的差异中的至少一个差异来校正所述参考发射条件之后，设置所述辐射管在成像中发射的辐射的发射条件。2.根据权利要求1所述的辐射断层成像系统，其中：所述参考发射条件针对被检体的每个身体部分存储。3.根据权利要求1所述的辐射断层成像系统，其中：所述参考发射条件针对所述辐射管的每个视角存储。4.根据权利要求3所述的辐射断层成像系统，其中：所述发射条件设置部分根据所述辐射管的所述视角，使用所述被检体的所述宽度与所述参考宽度之间的差异或者所述被检体的所述体厚与所述参考体厚之间的差异中的一个差异来对所述参考发射条件执行校正。5.根据权利要求1所述的辐射断层成像系统，其中：所述发射条件设置部分对所述参考发射条件进行校正以便辐射剂量在所述宽度和所述体厚中的至少一者较大时增大，并且对所述参考发射条件进行校正以便辐射剂量在所述宽度和所述体厚中的至少一者较小时减小。6.根据权利要求1所述的辐射断层成像系统，其中：所述光学传感器是光学图像捕捉设备和距离传感器。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：M瓦塔纳贝，Y伊施哈拉，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国,US