【技术实现步骤摘要】
镀层测量方法和装置
本申请涉及测量
,具体而言,涉及一种镀层测量方法和装置。
技术介绍
目前,在热镀锌生产线上,衡量产品质量的一项重要技术指标就是锌层厚度及其均匀性。锌层偏厚会影响产品的电焊性、附着性,同时还造成了锌原材料浪费;锌层太薄则影响产品的抗腐蚀性。因此准确、快速测量镀锌板镀层厚度至关重要,这就对锌层厚度控制技术提出了很高的技术要求。要在带钢表面得到均匀稳定的锌镀层的先决条件就是能够准确的在线测得镀层厚度,才能向控制模块提供有价值的输入值,进而才有可能通过气刀对镀层厚度进行有效控制。目前,在热镀锌生产线上广泛采用利用射线激发产生荧光的原理测量镀层厚度的方法。该方法通过射线沿特定角度照射带钢基板上的镀层材料,从而激发对应镀层的荧光,根据荧光进行荧光光谱对比,可以得到带钢基板上的镀层厚度。在实现本申请实施例的过程中,专利技术人发现现有技术至少存在以下问题:现有技术中,通过采用荧光的镀层测量方法,对探测器与带钢基板的角度偏差要求极其严格(角度偏差需要小于0.5°),当符合该偏差要求时,测量准确度极高,但是带钢镀层生产线上的带钢的张力较小,导致带钢震动幅度较 ...
【技术保护点】
1.一种镀层测量方法,其特征在于,所述方法包括:对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线,接收穿过所述基板的所述第一射线,确定所述第一射线的接收强度;对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线,接收穿过所述基板的所述第二射线,确定所述第二射线的接收强度;根据所述第一射线的接收强度、所述第二射线的接收强度以及所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数,确定所述测量位置上的镀层厚度。
【技术特征摘要】
1.一种镀层测量方法,其特征在于,所述方法包括:对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线,接收穿过所述基板的所述第一射线,确定所述第一射线的接收强度;对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线,接收穿过所述基板的所述第二射线,确定所述第二射线的接收强度;根据所述第一射线的接收强度、所述第二射线的接收强度以及所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数,确定所述测量位置上的镀层厚度。2.根据权利要求1所述的镀层测量方法,其特征在于,所述对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线,包括:在第一预设位置对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线,其中,所述基板经过所述第一预设位置后再进入镀料锅;所述对完成镀层的基板上的测量位置发射第二射线,包括:在第二预设位置对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线,其中,所述基板经过气刀之后再经过所述第二预设位置。3.根据权利要求2所述的镀层测量方法,其特征在于,所述方法还包括:将所述测量位置上的镀层厚度发送至控制装置,以使所述控制装置根据所述镀层厚度对后续基板镀层进行调整。4.根据权利要求3所述的镀层测量方法,其特征在于,所述方法还包括:确定所述基板上的所述测量位置由所述第一预设位置至所述第二预设位置的行程值;根据所述行程值以及所述基板的传动速度,确定间隔时间;当所述基板上的所述测量位置经过所述第一预设位置后并经过所述间隔时间,确定所述基板上的所述测量位置到达所述第二预设位置,从而使得在第二预设位置对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线。5.根据权利要求3所述的镀层测量方法,其特征在于,所述第二预设位置至所述气刀的喷气端的基板行程距离在0至100m之间。6.根据权利要求3所述的镀层测量方法,其特征在于,所述第二预设位置至所述气刀的喷气端的基板行程距离为2m。7.根据权利要求1所述的镀层测量方法,其特征在于,所述第一射线和第二射线均为X射线。8.根据权利要求1所述的镀层测量方法,其特征在于,所述根据所述第一射线的接收强度、所述第二射线的接收强度以及所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数,确定所述测量位置上的镀层厚度,包括:通过基于物质对射线的吸收规律公式构建的镀层厚度运算方程确定所述测量位置上的镀层厚度,其中,所述第一射线的接收强度、所述第二射线的接收强度以及所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数作为所述镀层厚度运算方程的计算因子。9.根据权利要求8所述的镀层测量方法,其特征在于,当所述第一射线的发射强度和所述第二射线的发射强度相同时,所述根据所述第一射线的接收强度、所述第二射线的接收强度以及所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数,确定所述测量位置上的镀层厚度,包括通过以下公式确定镀层厚度:公式中,h1为所述测量位置的镀层厚度,E′1为所述第一射线的接收强度,E′2为所述第二射线的接收强度,k1为所述镀层材料对所述第二射线的吸收系数。10.根据权利要求8所述的镀层测量方法,其特征在于,当所述第一射线的发射强度与所述第二射线的发射强度不相同时,所述所述镀层厚度运算方程的计算因子还包括所述第一射线的发射强度、所述第二射线的发射强度、所述基板对所述第一射线的吸收系数和所述基板对所述第二射线的吸收系数。11.根据权利要求1所述的镀层测量方法,其特征在于,所述对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线,包括:沿第一预设测量角度对未进行镀层的基板上一测量位置发射第一射线;所述对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线,包括:沿第二预设测量角度对完成镀层的基板上的所述测量位置发射第二射线。12.根据权利要求11所述的镀层测量方法,其特征在于,所述第一预设测量角度和所述第二预设测量角度相等。13.根据权利要求12所述的镀层测量方法,其特征在于,所述第一预设测量角度...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹鸿章,陶兴荣,
申请(专利权)人:北京核夕菁科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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