除硅用电化学反应装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于水处理领域，涉及一种除硅用的电化学反应装置，该装置包括至少一个电化学反应器，电化学反应器的阴极板和阳极柱在壳体内通过阳极柱两端发散状分布的支撑块保持阳极与阴极不会触碰且保持适当距离，本发明专利技术多个电化学反应器之间应用形式为多级并联，且设有自动清洗系统，其与快速过滤器和PLC控制系统组成除硅用的电化学反应系统。本发明专利技术结构简单、加工容易且成本低廉，占地面积小，安装和操作简单，采取全自动控制，便于生产使用，有效控制工艺造价、极大地降低工程运行费用，符合高效节能的行业治理要求；出水水质稳定，产水硅小于2mg/L，对循环水及反渗透浓水中硅的去除率可达到90％以上，同时可以去除水的部分硬度。

Electrochemical reaction device for silicon removal

The invention belongs to the field of water treatment and relates to an electrochemical reaction device for silicon removal. The device comprises at least one electrochemical reactor. The cathode plate and anode column of the electrochemical reactor are distributed in the shell in a divergent manner through the support blocks at both ends of the anode column to keep the anode and the cathode from touching and to maintain a proper distance. The electrochemical reaction system for silicon removal is composed of a fast filter and a PLC control system. The invention has the advantages of simple structure, easy processing, low cost, small floor area, simple installation and operation, full automatic control, convenient production and use, effective control of process cost, great reduction of project operation cost, meeting the requirements of high-efficiency and energy-saving industrial treatment, stable effluent quality, less than 2 mg/L of water silicon, and circulation. The removal rate of silicon in water and reverse osmosis concentrated water can reach more than 90%, and part of the hardness of water can be removed.

【技术实现步骤摘要】
除硅用电化学反应装置
本专利技术属于水处理领域，涉及一种除硅用的电化学反应装置，主要应用在循环水及反渗透浓水除硅上，同时也可以应用在其他除硅领域中。
技术介绍
随着水资源短缺和水污染问题的日益突出，水的有效利用和再生回用越来越受到人们的关注。但是很多行业中，这种利用和再生回用过程存在严重的硅酸盐结垢现象。循环水排污水及反渗透浓水由于含有相对较高的盐、溶解性二氧化硅及硬度无法再使用，若通过电渗析脱盐处理后这部分水就可以作为回用水再次使用，不仅节约了原水的使用还减少了排污量。但是电渗析的处理仅限于离子态，对于硅这种非离子态的粒子基本没有去除效果。
技术实现思路
为解决上述技术问题，为实现上述目的，本专利技术采用了以下技术方案：除硅用的电化学反应装置，包括至少一个电化学反应器，所述的电化学反应器包括壳体、阴极板和阳极柱，其中：壳体为圆柱腔体结构，壳体底部连接有进水管，壳体顶部连接有出水管，壳体侧壁开孔引出阴极电极接线柱和阳极电极接线柱；阴极板为不锈钢板制成，紧贴壳体内壁围成筒状，阴极板上引出阴极接线柱穿过壳体延伸至壳体外侧；阳极柱为金属铝制备的圆柱体结构，设置于壳体内部腔体中，且沿壳体内部腔体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.除硅用的电化学反应装置，其特征在于，包括至少一个电化学反应器，所述的电化学反应器包括壳体、阴极板和阳极柱，其中：壳体为圆柱腔体结构，壳体底部连接有进水管，壳体顶部连接有出水管，壳体侧壁开孔引出阴极电极接线柱和阳极电极接线柱；阴极板为不锈钢板制成，紧贴壳体内壁围成筒状，阴极板上引出阴极接线柱穿过壳体延伸至壳体外侧；阳极柱为金属铝制备的圆柱体结构，设置于壳体内部腔体中，且沿壳体内部腔体中心轴线设置，阳极柱两端设置有以阳极柱为中心发散状分布的支撑块，以保持阳极与阴极不会触碰，支撑块之间的间隙为过水通道，阳极柱侧面引出阳极接线柱，阳极接线柱外部设置有绝缘保护套，阳极接线柱穿过阴极板和壳体延伸至壳体...

【技术特征摘要】
1.除硅用的电化学反应装置，其特征在于，包括至少一个电化学反应器，所述的电化学反应器包括壳体、阴极板和阳极柱，其中：壳体为圆柱腔体结构，壳体底部连接有进水管，壳体顶部连接有出水管，壳体侧壁开孔引出阴极电极接线柱和阳极电极接线柱；阴极板为不锈钢板制成，紧贴壳体内壁围成筒状，阴极板上引出阴极接线柱穿过壳体延伸至壳体外侧；阳极柱为金属铝制备的圆柱体结构，设置于壳体内部腔体中，且沿壳体内部腔体中心轴线设置，阳极柱两端设置有以阳极柱为中心发散状分布的支撑块，以保持阳极与阴极不会触碰，支撑块之间的间隙为过水通道，阳极柱侧面引出阳极接线柱，阳极接线柱外部设置有绝缘保护套，阳极接线柱穿过阴极板和壳体延伸至壳体外侧。2.根据权利要求1所述的除硅用的电化学反应装置，其特征在于，所述阴极板与阳极柱之间的间距为10mm～15mm。3.根据权利要求1所述的除硅用的电化学反应装置，其特征在于，所述的除硅用的电化学反应装置设有自动清洗系统，电化学反应器的进水管和出水管分别通过清洗进水阀和清洗出水阀连接酸性清洗液，清洗进水阀和清洗出水阀连接PLC控制系统，通过PLC控制系统控制电化学反应装置的自动清洗，酸性清洗液循环使用，定期清除阴极表面的垢层及阳极表面的氧化层，酸性清洗液定期补充或更换。4.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩国美，毛治强，
申请(专利权)人：大连波美科技有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21