一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统技术方案

本发明专利技术公开了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。该镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，应用范围非常广泛，可满足各种镀层需求。

【技术实现步骤摘要】
一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统
本专利技术属于真空等离子体镀膜设备
，具体涉及一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。
技术介绍
现有技术对连续板状或带状产品进行镀膜加工的真空等离子体镀膜设备，技术落后，能耗高，膜厚不均匀，产量低，收卷不齐，并且同时只能连续一次单面镀膜，不能同时双面镀膜，又不能同时在带材同一面连续镀不同膜层和不同膜厚，同时真空镀膜室不能随意扩展等缺点。为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求，研发了该带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。
技术实现思路
为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求问题，本专利技术提出了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，采用该系统镀膜使得涂层连续沉积在带材和板材的表面，沉积的涂层厚度均匀，并且沉积复杂涂层效果好、效率高。本专利技术的目的通过以下技术方案实现：一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，进气管上安装流量计，通过流量计检测进气管内的流量大小。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室为圆形或者椭圆形，提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室还包括中间镀膜室，中间镀膜室位于放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室连接抽真空装置，中间镀膜室一端连接放卷镀膜室，中间镀膜室的另一端连接收卷镀膜室，中间镀膜室中也设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室上也分布弧源发生器，中间镀膜室内壁也分布进气管，带材依次从放卷镀膜室传递到中间镀膜室和收卷镀膜室，通过放卷镀膜室、中间镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述中间镀膜室不止一个，中间镀膜室分别连接抽真空装置，中间镀膜室依次等距离设置在放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室之间依次连接，带材在中间镀膜室之间依次传递后传入到收卷镀膜室。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别设置在真空镀膜室外，放卷涨缩头位于放卷室内，收卷涨缩头位于收卷室内，放卷室和收卷室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对放卷室和收卷室分别抽真空，放卷室和收卷室分别位于真空镀膜室上方，缠绕在放卷涨缩头上的带材穿出放卷室穿过真空镀膜室后穿入收卷室的收卷涨缩头上。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室的下方均设置底架，真空镀膜室分别通过底架支撑在地面上，真空镀膜室设置炉门，炉门与真空镀膜室铰接，通过打开炉门将带材安装在涨缩头，使带材装卸更加方便，同时提高了真空电镀室的强度，节约了制造成本。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述炉门上套有密封圈，炉门通过密封圈与真空镀膜室密封，炉门上设置观察窗，工作人员通过观察窗查看真空镀膜室内的镀膜情况，真空镀膜室上设置真空检测装置，通过真空检测装置检测真空镀膜室内的真空度。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述抽真空装置下方设置支架，抽真空装置分别通过支架安装在地面上，抽真空装置分别通过真空管道与真空镀膜室连接，真空管道上分别设置百叶窗，通过百叶窗调节真空管道内的排气情况，百叶窗通过百叶窗减速器连接百叶窗传动机，通过百叶窗减速器和百叶窗传动机调节百叶窗。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述涨缩头与传动电机连接，通过传动电机带动涨缩头转动，涨缩头与传动电机之间设置减速器，减速器调节涨缩头转动的速率，涨缩头通过输入轴密封装置与减速器连接，输入轴密封装置采用水冷式磁流体旋转密封装置或骨架旋转密封装置，输入轴密封装置使得涨缩头与减速器稳定连接，输入轴密封装置内通入冷却水，通过冷却水对输入轴密封装置降温。优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述弧源发生器的内部安装阴极靶，通过采用不同材质的阴极靶溅射不同金属离子从而获得不同成分的复合涂层，阴极靶上连接冷水管，通过冷水管内的冷却水对阴极靶降温。与现有技术相比，本专利技术具有如下的有益效果：本专利技术通过放卷涨缩头和收卷涨缩头的连续收放卷的传动方式，有效解决了带材或板材表面膜层沉积效率低、沉积厚度不均匀、沉积涂层效果差的问题。本申请中弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，使得弧源发生器溅射的金属离子与气体形成膜层并均匀分布在带材上，提高了膜层的均匀性。本专利技术镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，并且膜层沉积效率高、膜层厚度均匀、沉积效果好、可满足各种镀层需求。附图说明为了更清楚地说明本实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例1中真空等离子体镀膜系统的主视图；图2为本专利技术实施例1中真空等离子体镀膜系统的俯视图；图3为本专利技术实施例1中真空等离子体镀膜系统的侧视图；图4为本专利技术实施例2中真空等离子体镀膜系统的主视图；图5为本专利技术实施例3中真空等离子体镀膜系统的主视图；图6为本专利技术实施例3中真空等离子体镀膜系统的俯视图；图7为本专利技术实施例3中真空等离子体镀膜系统的侧视图；图8为本专利技术实施例4中真空等离子体镀膜系统的主视图；图9为本专利技术实施例4中真本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。

【技术特征摘要】
1.一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。2.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。3.根据权利要求2所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室还包括中间镀膜室，中间镀膜室位于放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室连接抽真空装置，中间镀膜室一端连接放卷镀膜室，中间镀膜室的另一端连接收卷镀膜室，中间镀膜室中也设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室上也分布弧源发生器，中间镀膜室内壁也分布进气管，带材依次从放卷镀膜室传递到中间镀膜室和收卷镀膜室，通过放卷镀膜室、中间镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。4.根据权利要求3所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述中间镀膜室不止一个，中间镀膜室分别连接抽真空装置，中间镀膜室依次等距离设置在放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室之间依次连接，带材在中间镀膜室之间依次...

【专利技术属性】
技术研发人员：何培忠，
申请(专利权)人：广州市中昊装饰材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44