一种控制制冷装置结露的系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，包括处理器以及分别和处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将温度和湿度发送至处理器；处理器，用于根据温度和湿度，确定制冷装置当前时刻工作环境的露点温度，并判断露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本实用新型专利技术中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性。

A system for controlling condensation in refrigeration equipment

The utility model discloses a system for controlling the condensation of a refrigeration device, which is applied to a semiconductor laser refrigeration device, including a processor, a temperature and humidity collector and a refrigeration device respectively connected with the processor, wherein the temperature and humidity collector is used for real-time detection of temperature and humidity in the working environment of the refrigeration device. The dew point temperature of the working environment at the current time of the refrigeration device is determined according to the temperature and humidity, and whether the dew point temperature is greater than the preset temperature threshold is judged. If so, the refrigeration temperature of the refrigeration device is controlled as the preset refrigeration temperature. In the utility model, the dew point temperature in the working environment is determined by monitoring the temperature and humidity in the working environment, and the refrigeration temperature is adjusted according to the dew point temperature, so as to reduce the influence of the refrigeration device on the working environment temperature, thereby reducing the possibility of condensation.

【技术实现步骤摘要】
一种控制制冷装置结露的系统
本技术涉及激光设备领域，特别是涉及一种控制制冷装置结露的系统。
技术介绍
半导体激光器可应用于激光显示与照明领域，半导体激光器对温度较为敏感，当温度波动时会造成半导体激光器输出功率的波动，导致显示或者照明的区域颜色、亮度发生变化。因此为了使其温度较为恒定，通常需要制冷器件调节半导体激光器的温度处于一个较为恒定的状态。露点温度是指在固定气压下，空气中所含的气态水达到饱和而凝结成液态水所需降至的温度。在这个温度时，凝结的水漂浮在空气中称为雾，而沾在固体表面时则称为露。因为制冷器件在对半导体激光器的温度进行调节的同时，还可能影响半导体激光器所在设备内部的整个工作环境的温度，导致工作环境中的气态水结露。当存在结露时，可能会给电器设备带来隐患。目前已有技术方案是，为了减小制冷器件对设备内部的工作环境造成的影响，在制冷器件以及作为激光光源的半导体激光器上包裹保温材料，增大制冷器件和环境温度的过渡。但是这种防止结露的方式效果并不好，不能很好的防止结露的发生，且拆除复杂，影响制冷器件及半导体激光器的维修。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种控制制冷装置结露的系统，解决了现有技术中防止结露效果不好，维修复杂的问题，在很大程度上降低了工作环境中结露发生的可能性，并简化了设备的维修和安装。为解决上述技术问题，本技术提供一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，包括处理器以及分别和所述处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，所述温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将所述温度和所述湿度发送至所述处理器；所述处理器，用于根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻的工作环境的露点温度，并判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。其中，包括和所述处理器相连接的存储器，所述存储器用于存储预先确定的温度和湿度与露点温度之间的对应关系，以便所述处理器根据所述对应关系，确定所述制冷装置当前时刻在所述温度和所述湿度下对应的露点温度。其中，还包括和所述处理器相连接的报警装置；所述报警装置用于当所述处理器判断所述露点温度大于预设温度阈值时，发出报警。其中，所述报警装置包括温湿度报警装置；所述温湿度报警装置，用于当所述处理器判断所述露点温度大于第一预设温度阈值且不大于第二预设温度阈值，并控制所述制冷装置的制冷温度为比所述露点温度高1℃的温度时，发出温湿度报警；所述第一预设温度阈值小于所述第二预设温度阈值。其中，所述报警装置包括结露报警装置；所述结露报警装置，用于当所述处理器判断所述露点温度大于第二预设温度阈值，并控制所述制冷装置的制冷温度为第一预设制冷温度时，并发出结露报警，以便提醒用户检查工作环境中温湿度调节设备。其中，所述报警装置包括温度报警装置；所述温度报警装置，用于当所述处理器判断所述温度超出预设温度范围时，如果是，则发出温度报警。其中，所述报警装置包括湿度报警装置；所述湿度报警装置，用于当所述处理器判断所述湿度大于预设湿度阈值时，则发出湿度报警其中，所述报警装置为语音报警装置。其中，所述温度湿度采集器为温湿度传感器。其中，所述制冷装置为水冷机。本技术所提供的控制制冷装置结露的系统，通过温度湿度采集器实时检测工作环境中的温度和湿度，并由处理器根据该温度和湿度获得工作环境中露点温度，并以此为依据调节制冷装置合适的制冷温度。避免了由于制冷器件和空气发生热传递而使与制冷器件相接触的空气温度降至露点温度，从而在很大程度上降低了工作环境中结露的可能性。并且由于制冷器件对工作环境中温度的影响降低，那么也就无需对制冷器件包裹保温材料，在制冷器件需要维修时，无需对保温材料拆除，降低了制冷器件维修过程的复杂程度，使设备更为的美观。附图说明为了更清楚的说明本技术实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的一种控制制冷装置结露的系统的结构示意图。具体实施方式在半导体激光器的应用中，半导体激光器正常工作温度为18～35℃，最佳工作温度为20℃～25℃，而制冷装置对半导体激光器的温度的调节可能是升温调节也可能是降温调节，且制冷装置和半导体激光器之间的热传递还存在一定的温差，可以认为该温差为3℃，那么制冷装置的制冷温度对应的调节范围应在17℃～28℃。若将制冷温度设定为20℃，在中国绝大部分地区均会有结露现象。当出现结露现象后，如果结露产生的液态水流到电路板上，会导致短路等问题，流到设备外，可能会让客户误判断设备发生漏液、损坏的现象，影响产品的整体性、美观性。目前在相关行业中，尚且没有技术方案可以完全解决结露问题，只能在制冷链路上的所有器件上包裹保温棉或其他保温材料，使得外界环境的温湿度与工作环境中相互隔离，增大设备与工作环境之间的温度过度。但是这种方式，增加生产流程的环节，为设备的安装和维修带来极大的不便。且由于需要包裹保温材料的制冷器件各个位置形状结构各不相同，可能是圆管、弧面、平面甚至凹面等等，无法将包裹保温材料进行标准化，需要大量的人力劳动，最终包裹效果的好坏，也在很大程度上受人为因素的影响。且在保温材料的粘结的接缝处、悬挂处都无法防止结露的发生。为此本技术提供了控制制冷装置结露的系统，通过检测温度和湿度后确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度调节制冷温度，减小制冷温度对工作环境的影响，能够在极大程度上避免结露现象的出现。为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。图1为本技术实施例提供的一种控制制冷装置结露的系统的结构示意图，参照图1控制制冷装置结露的系统可以包括：处理器10以及分别和所述处理器10相连接的温度湿度采集器11和制冷装置12；其中，温度湿度采集器11，用于实时检测制冷装置12的工作环境中的温度和湿度，并将所述温度和所述湿度发送至所述处理器10；处理器10，用于根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置12当前时刻所在工作环境的露点温度，因为空气中之所以会产生结露，最根本的影响因素就是温度和湿度，所以获得了工作环境中的温度和湿度之后，即可获得露点温度。处理器10判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置12的制冷温度为预设制冷温度。需要说明的是，本技术中所提供的控制制冷装置12结露的系统，主要是应用于半导体激光器的制冷装置12所在的工作环境中。半导体激光器的制冷装置12所在的工作环境中，之所以会出现结露现象，最根本的原因就是因为制冷装置12的制冷温度设置过低，对制冷装置12周围的工作环境也起到了降温的作用，从而引发了工作环境中结露现象的出现。因此，本技术中从根本上解决问题，在半本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，其特征在于，包括处理器以及分别和所述处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，所述温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将所述温度和所述湿度发送至所述处理器；所述处理器，用于根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻的工作环境的露点温度，并判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。

【技术特征摘要】
1.一种控制制冷装置结露的系统，应用于半导体激光器的制冷装置，其特征在于，包括处理器以及分别和所述处理器相连接的温度湿度采集器和制冷装置；其中，所述温度湿度采集器，用于实时检测制冷装置的工作环境中的温度和湿度，并将所述温度和所述湿度发送至所述处理器；所述处理器，用于根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻的工作环境的露点温度，并判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，包括和所述处理器相连接的存储器，所述存储器用于存储预先确定的温度和湿度与露点温度之间的对应关系，以便所述处理器根据所述对应关系，确定所述制冷装置当前时刻在所述温度和所述湿度下对应的露点温度。3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括和所述处理器相连接的报警装置；所述报警装置用于当所述处理器判断所述露点温度大于预设温度阈值时，发出报警。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在在于，所述报警装置包括温湿度报警装置；所述温湿度报警装置，用于当所述处理器判断所述露点温度大于第一预设...

【专利技术属性】
技术研发人员：高文宏，郭泽彬，赵鹏飞，郭金榜，李孟，王锦伟，侯茜，
申请(专利权)人：北京镭创高科光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11