锗系镜片制造技术

技术编号:19121392 阅读:81 留言:0更新日期:2018-10-10 04:52
本实用新型专利技术涉及一种锗系镜片,包括锗系镜片基,还包括:位于所述锗系镜片基体一个面上的第一减反膜层;位于所述第一减反膜层上的第一结合层;位于所述第一结合层上的表面耐磨层。根据本实用新型专利技术的锗系镜片附着力高,没有内应力,耐磨性强,减反射效果好并且适用于恶劣环境的能力强。

Germanium lens

The utility model relates to a germanium-based lens, which comprises a germanium-based lens base and a first antireflection coating on one surface of the germanium-based lens base, a first binding layer on the first antireflection coating and a surface wear-resistant layer on the first binding layer. According to the utility model, the germanium series lens has the advantages of high adhesion, no internal stress, strong wear resistance, good antireflection effect and strong adaptability to harsh environment.

【技术实现步骤摘要】
锗系镜片
本技术涉及一种镀膜锗系镜片。
技术介绍
中国专利201610187323.5公开了一种硫系玻璃及其制备方法。这种硫系玻璃包括硫系玻璃基体和沉积于硫系玻璃基体表面的镀膜层。镀膜层自硫系玻璃基体起依次为碳化锗膜层和沉积于碳化锗膜层表面的类金刚石膜层。这种硫系玻璃采用磁控溅射法,选择纯锗靶材,以甲烷和氩气的混合气体为工作气体,向硫系玻璃基体的表面镀制碳化锗薄膜,形成硫系玻璃基体的碳化锗膜层;采用等离子体化学气相沉积法,以甲烷气体为工作气体,向硫系玻璃基体表面的碳化锗膜层的表面镀制类金刚石薄膜,镀制结束后得到硫系玻璃。利用上述方法制备的上述硫系玻璃具有一定的内应力,膜层厚度不可控,且硫系玻璃基体与膜层之间的附着力较低,减反效果差。而且上述方法是针对硫系镜片进行制备,对于锗系镜片并不适用。中国专利201610463740.8公开了一种镀覆在红外玻璃上的增透膜及其制备方法。这种增透膜包括DLC膜层和粘接层,DLC膜层通过粘接层粘接在红外玻璃基底上,粘接层包括依次交替设置的第一ZnSe层、第一Ge层、第二ZnSe层、第二Ge层、第三ZnSe层和第三Ge层,第一ZnSe层位于红外玻璃基底和第一Ge层之间,第三Ge层位于第三ZnSe层和DLC膜层之间。制备这种增透膜的方法包括粘结层的镀覆和DLC膜层的镀覆,其中粘结层的镀覆包括离子源沉积法、光控法和晶控法。DLC膜层的镀覆是在镀膜设备中进行,其中还要向镀膜设备通入减反射气体和甲烷气体。这种镀覆在红外玻璃上的增透膜并不适用于锗系镜片上镀制增透膜,且该制备增透膜的方法解决不了内应力问题,减反效果差,成本较高。美国专利US5425983A公开了一种镀覆在红外玻璃上的减反膜。这种减反膜包括锌盐基体层和减反膜层。减反膜层的第一层为锗层,第二层为类金刚石层,第三层为锗层,第四层为类金刚石层。这种结构是利用两层锗层和两层类金刚石层相互交错的沉积附着在锌盐基体层之上,这种结构的附着力较低,且达不到好的减反效果。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种适用于恶劣环境中的附着力高,耐磨性强,且减反效果好的锗系镜片。为实现上述目的,本技术提供一种锗系镜片,包括锗系镜片基体,还包括:位于所述锗系镜片基体一个面上的第一减反膜层;位于所述第一减反膜层上的第一结合层;位于所述第一结合层上的表面耐磨层。根据本技术的一个方面,还包括位于所述锗系镜片基体与所述第一减反膜层之间的第二结合层。根据本技术的一个方面,还包括位于所述第一减反膜层和所述第一结合层之间的中间层。根据本技术的一个方面,所述锗系镜片基体的厚度为1-3mm。根据本技术的一个方面,所述第一结合层由锗、硅、碳化锗和碳化硅中的一种或多种构成,厚度为200-400nm。根据本技术的一个方面,所述第二结合层由锗、硅、碳化锗和碳化硅中的一种或多种构成。根据本技术的一个方面,所述中间层由硫化锌、氟化镱和锗中的一种或多种构成。根据本技术的一个方面,所述锗系镜片的波长为8-12μm,平均反射率<1%,平均透光率>96%。根据本技术的一个方面,所述表面耐磨层由类金刚石薄膜构成,厚度为400-600nm。为实现本技术的目的,本技术提供一种锗系镜片的制备方法,包括:(a)清洗锗系镜片基体待镀膜面;(b)烘烤锗系镜片基体;(c)镀制前对锗系镜片基体的表面预清洗;(d)在锗系镜片基体的一个表面上镀制第一减反膜层;(e)在第一减反膜层上镀制第一结合层;(f)在第一结合层上镀制表面耐磨层。根据本技术的一个方面,还包括:在所述(d)步骤中,在锗系镜片基体的一个表面上预先镀制第二结合层,然后在所述第二结合层上镀制第一减反膜层。根据本技术的一个方面,还包括:在所述(e)步骤中,在第一减反膜层上预先镀制中间层,然后在所述中间层上镀制第一结合层。根据本技术的一个方面,在所述(a)步骤中,采用超声波清洗工艺对锗系镜片基体待镀膜面进行清洗。根据本技术的一个方面,在所述(b)步骤中,烘烤温度为150-200℃,恒温时间>60分钟。根据本技术的一个方面,在所述(c)步骤中,预清洗时间为10-30分钟,射频源的离子源屏极电压600-700V,离子束流300-500mA,中和功率500-700W。根据本技术的一个方面,在所述(d)步骤中,采用物理气相沉积法形成所述第一减反射膜层。根据本技术的一个方面,在所述(e)步骤中,采用离子源辅助沉积法在所述第一减反膜层上镀制所述第一结合层。本技术本技术根据本技术的锗系镜片,由于设置有第一结合层和/或第二结合层,使得可以控制膜层的厚度。同时因为采用物理气相沉积(PVD)的方式镀制第一减反膜层,结合采用离子源辅助沉积的方式镀制结合层,可以消除内应力,最外层使用DLC层,耐磨性能好,这样的结构设置可以得到附着力高且耐磨性强的结构膜层。因为本技术的锗系镜片附着力高,抗摩擦强度高,因此使得本技术的锗系镜片的使用寿命也得以延长。将本技术的锗系镜片用于镜头中第片镜片的首面,可以直接应用于沙漠等恶劣的环境中。根据本技术的锗系镜片,第一减反膜层是由多层减反射膜镀制而成的,这样就可以高效的减少或消除镜片表面的反射光,从而增加镜片的透光量,减少或消除镜片中的杂散光。即第一减反膜层具备很好的减反效果,因此使得本技术的锗系镜片具备很好的减反效果,从未单面镀膜前的20%左右,下降到现在的1%以下。根据本技术的锗系镜片,在锗系镜片基体的两个表面上均镀制减反膜层,使得镜片的减反射效果更好,适用于恶劣环境的能力更强。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是示意性表示根据本技术的一种实施方式的锗系镜片的结构图;图2是示意性表示根据本技术的另一种实施方式的锗系镜片的结构图;图3是示意性表示根据本技术的锗系镜片制备方法所获得的锗系镜片的测试效果图。具体实施方式为了更清楚地说明本技术实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在针对本技术的实施方式进行描述时,术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系,其仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此上述术语不能理解为对本技术的限制。下面结合附图和具体实施方式对本技术作详细地描述,实施方式不能在此一一赘述,但本技术的实施方式并不因此限定于以下实施方式。图1示意性表示根据本技术的一种实施方式的锗系镜片的结构示意图。如图1所示,根据本技术的锗系镜片包括锗系镜片基体1、第一减本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种锗系镜片,包括锗系镜片基体(1),其特征在于,还包括:位于所述锗系镜片基体(1)一个面上的第一减反膜层(2);位于所述第一减反膜层(2)上的第一结合层(3);位于所述第一结合层(3)上的表面耐磨层(4)。

【技术特征摘要】
1.一种锗系镜片,包括锗系镜片基体(1),其特征在于,还包括:位于所述锗系镜片基体(1)一个面上的第一减反膜层(2);位于所述第一减反膜层(2)上的第一结合层(3);位于所述第一结合层(3)上的表面耐磨层(4)。2.根据权利要求1所述的锗系镜片,其特征在于,还包括位于所述锗系镜片基体(1)与所述第一减反膜层(2)之间的第二结合层(5)。3.根据权利要求1或2所述的锗系镜片,其特征在于,还包括位于所述第一减反膜层(2)和所述第一结合层(3)之间的中间层(6)。4.根据权利要求1所述的锗系镜片,其特征在于,所述锗系镜片基体(1)的厚度为1-3mm。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:白俊文
申请(专利权)人:宁波舜宇红外技术有限公司
类型:新型
国别省市:浙江,33

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