光致抗蚀剂成分浓度测定装置及浓度测定方法制造方法及图纸

循环使用的光致抗蚀剂剥离液的溶解光致抗蚀剂经时地增加并变性，因此基于吸光度的浓度测定存在偏离标准曲线的问题。一种光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，具备指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液中的元素、并测定其指定的指定元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的测定单元。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光致抗蚀剂成分浓度测定装置及浓度测定方法
本专利技术涉及用于测定光刻中所用的光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度的光致抗蚀剂成分浓度测定装置及浓度测定方法。
技术介绍
IC、LSI等中，随着半导体元件的高集成化和芯片尺寸的缩小化，布线电路的微细化及多层化正在进展。另外，不仅这样的微小部件、在液晶显示器等FPD(平板显示器，FlatPanelDisplay)中在像素的形成中也需要微小的布线电路。为了制作这样的微小布线电路，需要光刻技术。在光刻中，形成用于成为布线电路的材料膜，并在该膜上涂布光致抗蚀剂。然后，使光致抗蚀剂以与布线相应的图案感光并去除后，对材料膜进行蚀刻。最后去除光致抗蚀剂。在正型光致抗蚀剂中，为了将感光后的光致抗蚀剂去除，使用光致抗蚀剂剥离液。光致抗蚀剂剥离液由于进行某种程度的重复使用，因此光致抗蚀剂浓度会逐渐增高。重复使用光致抗蚀剂剥离液是经济上的问题。另外，光致抗蚀剂浓度提高一定程度时停止使用在制品的品质上会有问题。即，光致抗蚀剂剥离液需要在使用的正当中监控光致抗蚀剂浓度，若变为规定的浓度以上，则将全部或一部分更换。对于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度的测定，考虑了一些方法。在进行大量生产的工厂中，需要能够在短时间内以一定程度的精度确定光致抗蚀剂浓度的方法。专利文献1中公开了根据吸光度求出光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度的方法。该方法中，利用随着光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度的上升而吸光度变高的现象。即，预先求出事先光致抗蚀剂浓度已知的光致抗蚀剂剥离液的吸光度，将其制成标准曲线来确定光致抗蚀剂浓度。但是，在基于吸光度的浓度测定中，存在即使光致抗蚀剂浓度恒定，光致抗蚀剂剥离液的吸光度也随时间推移而变化的问题。认为这是因为，溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂逐渐分解为低分子，吸光光谱的峰向低波长侧偏移。另外，基于吸光度的浓度测定中重要的是被测定物的温度管理。在实际的制造工艺中，在数周内边补充光致抗蚀剂剥离液边继续生产。即，具有各种各样吸光光谱的、溶解了的光致抗蚀剂的分解成分混杂在光致抗蚀剂剥离液中。这样，可以说专利文献1的方法难以测定准确的光致抗蚀剂浓度。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平07-235487号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题专利文献1为使用吸光度的方法。溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂逐渐分解为低分子，吸光光谱的峰向低波长侧偏移。其结果，具有各种各样吸光光谱的、光致抗蚀剂成分的分子混杂在光致抗蚀剂剥离液中。其结果，存在如下课题：通过使用吸光度的方法预先求出的标准曲线随着时间推移而变得无法利用，缺少准确性，无法准确地把握溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度。另外还有如下问题：光致抗蚀剂剥离液的光致抗蚀剂成分分解，从而色调发生变化，在浓度测定中产生误差。本专利技术用于解决这样的现有问题，其目的在于，提供即使溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂逐渐分解为低分子，也能够准确、精度良好地测定溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度的、光致抗蚀剂成分浓度测定装置、及光致抗蚀剂成分浓度测定方法。用于解决问题的方案而且，为了实现该目的，本专利技术采用指定包含在光致抗蚀剂中且不包含在光致抗蚀剂剥离原液中的元素、并测定其指定的指定元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的构成，由此实现期望的目的。具体而言，使指定元素为硫，另外，更具体而言，利用荧光X射线测定硫的量。另外，更具体而言，根据荧光X射线的测定量算出光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂成分浓度。采用指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液中、在光致抗蚀剂剥离液中不分解或不变化的成分，并测定其指定的成分在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的构成。根据该构成，能够准确、精度良好地测定溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂、即光致抗蚀剂剥离液中的溶解抗蚀剂浓度。作为指定的指定成分，例如在光致抗蚀剂的感光材料成分中含有硫、且光致抗蚀剂剥离原液中不含硫的情况下，有硫。作为指定的指定成分，只要光致抗蚀剂含有但光致抗蚀剂剥离原液中不含有、且在光致抗蚀剂剥离液中不分解即可，可以为元素、或化学物质、或者化学成分。专利技术的效果根据本专利技术，采用用于指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液中的元素、并测定其指定的指定元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的构成。由此，可以提供能够准确、精度良好地测定光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度即溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度、即溶解光致抗蚀剂浓度的、光致抗蚀剂成分浓度测定装置、及光致抗蚀剂成分浓度测定方法。另外，即使色调因光致抗蚀剂剥离液的光致抗蚀剂成分分解而发生变化，在浓度测定中也不产生误差。附图说明图1为示出安装有本专利技术的光致抗蚀剂成分浓度测定装置的光致抗蚀剂剥离装置的构成的图。图2为示出光致抗蚀剂成分浓度测定装置的构成的图。图3为示出利用荧光X射线测量光致抗蚀剂剥离液中的硫浓度而得到的实验结果的图。具体实施方式以下，用附图对本专利技术的光致抗蚀剂成分浓度测定装置进行说明。需要说明的是，以下的说明例示出本专利技术的一实施方式，但本专利技术并不限定于以下的说明。可以在不脱离本专利技术主旨的范围内自由改变。图1中示出安装有本实施方式的光致抗蚀剂成分浓度测定装置的光致抗蚀剂剥离装置50的构成。光致抗蚀剂剥离装置50具有：光致抗蚀剂剥离液槽52、用于输送被处理物60的传送带54、用于将光致抗蚀剂剥离液M散布于被处理物60的喷淋56、及光致抗蚀剂成分浓度测定装置10。光致抗蚀剂剥离装置50如下地动作。被处理物60被载置于传送带54上并被输送。而且，在光致抗蚀剂剥离液槽52上散布光致抗蚀剂剥离液M，光致抗蚀剂被剥离。循环使用光致抗蚀剂剥离液M。指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液、且在光致抗蚀剂剥离液中不分解或不变化的成分。作为其指定的指定成分，只要光致抗蚀剂含有、光致抗蚀剂剥离原液中不含有、且在光致抗蚀剂剥离液中不分解、或不变化即可，可以为元素、或化学物质、或者化学成分。需要说明的是，此处光致抗蚀剂剥离原液是指制备后的未使用的光致抗蚀剂剥离液。例如，在光致抗蚀剂包含作为光敏剂的NQD(萘醌二叠氮磺酸酯)和作为高分子树脂的酚醛清漆树脂的情况下，光致抗蚀剂包含硫、即硫元素。例如，在光致抗蚀剂剥离原液采用MEA(单乙醇胺)、BDG(二乙二醇单丁醚)及水的组成的情况下，光致抗蚀剂剥离原液不含硫、即硫元素。指定光致抗蚀剂中包含但光致抗蚀剂剥离原液中不含的成分或元素为硫元素时，即使含有硫的成分在光致抗蚀剂剥离液中通过分解等而变化，硫元素其本身也不变化。因此，通过测定其指定的指定元素即硫元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度，从而能够算出光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度即溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度、即溶解光致抗蚀剂浓度，能够准确、精度良好地测定溶解于光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂浓度。循环使用的光致抗蚀剂剥离液M储存在光致抗蚀剂剥离液槽52中，并通过泵56a借助喷淋配管56b而被送至喷淋56。需要说明的是，理想的是在喷淋配管56b具备过滤器56c。是因为能够防止光致抗蚀剂的固体成分等带来的堵塞。而且，将被处理物60的光致抗蚀剂剥离后，返回至光致抗蚀剂剥离液槽52。这样循环利用光致抗蚀剂剥离液M。光致抗蚀剂剥离液M中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，具备用于指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液中的元素、并测定其指定的指定元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的测定单元。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.26 JP 2016-0125581.一种光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，具备用于指定包含在光致抗蚀剂中但不包含在光致抗蚀剂剥离原液中的元素、并测定其指定的指定元素在光致抗蚀剂剥离液中的浓度的测定单元。2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其中，使指定元素为硫。3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其中，测定单元利用荧光X射线测定装置测定硫的量。4.根据权利要求3所述的光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，具备根据荧光X射线测定装置的测定量算出光致抗蚀剂剥离液中的光致抗蚀剂成分浓度的算出单元。5.根据权利要求4所述的光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，用连通于光致抗蚀剂剥离液槽内的引出配管和设置于所述引出配管的测定单元进行测定。6.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂成分浓度测定装置，其特征在于，具备连通于引出配管的X射线透过配管。7.根据权利要求5所述的光致抗蚀剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：岛田和哉，西川晴香，鬼头佑典，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP