硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料制造方法及图纸

本申请提供一种硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料，该方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。本申请的技术方案通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度。

【技术实现步骤摘要】
硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料
本申请涉及材料处理
，尤其涉及一种硅胶材料的表面处理方法以及硅胶材料。
技术介绍
硅胶材料在目前的应用中存在吸灰、表面不抗静电、不爽滑等问题。现有技术中，通过在硅胶材料的表面喷涂油漆来改善上述技术问题。由于油漆在硅胶材料的表面的附着力不好，导致油漆容易脱落，从用户的角度来说，会感受到硅胶材料表面的手感不佳。
技术实现思路
有鉴于此，本申请提供一种新的技术方案，可以使硅胶材料的表面更爽滑。为实现上述目的，本申请提供技术方案如下：根据本申请的第一方面，提出了一种硅胶材料的表面处理方法，包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。根据本申请的第二方面，提出了一种硅胶材料的表面处理装置，包括：第一确定模块，用于确定硅胶材料对应的光照参数；控制模块，用于控制光源发射具有所述第一确定模块确定的所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；所述控制模块，还用于当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。根据本申请的第三方面，提出了一种硅胶材料，所述硅胶材料包括：硅胶本体和硅胶表层，其中，所述硅胶表层通过上述权利要求1-4任一所述的方法处理得到，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。由以上技术方案可见，本申请通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度；此外，由于本专利技术实施例不需要在硅胶材料的表面喷涂油漆，因此硅胶材料更加环保和安全；由于硅胶表层的分子具有规则的排列方式，因此不易集结成电荷，进而使得硅胶材料还能够抗静电。附图说明图1A为本专利技术一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；图1B为图1A所示实施例所适用的场景示意图；图1C为通过图1A所示实施例处理得到的硅胶材料的结构示意图；图2为本专利技术另一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；图3为本专利技术再一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；图4为本专利技术一示例性实施例的硅胶材料的表面处理装置的结构图；图5为本专利技术另一示例性实施例的硅胶材料的表面处理装置的结构图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置和方法的例子。在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。应当理解，尽管在本申请可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本申请范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。为对本申请进行进一步说明，提供下列实施例：图1A为本专利技术一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图，图1B为图1A所示实施例所适用的场景示意图，图1C为通过图1A所示实施例处理得到的硅胶材料的结构示意图；如图1A所示，包括如下步骤：步骤101，确定硅胶材料对应的光照参数。在一实施例中，光照参数可以包括紫外光的波长以及能量。在一实施例中，硅胶材料可以具有不同的组份，也可以具有不同的表面，例如，表面为光面、砂面或者纹理，纹理还可以包括细纹和粗纹，因此不同组份以及不同表面的硅胶材料可以具有不同的光照参数，光照参数可以通过试验的方式得到，具体的数值本申请不做限制，能够确保具有较佳的表面处理效果即可。步骤102，控制光源发射具有光照参数的紫外光，紫外光照射在硅胶材料的表面。如图1B和图1C所示，光源10生成的紫外光照射到硅胶材料11的表面。步骤103，当达到预设条件时，控制光源停止发射紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。在一实施例中，预设条件可以为紫外光照射到硅胶材料的时长达到一个预设时长，也可以为硅胶材料表面的静电参数达到一个预设阈值。当达到预设条件时，可以视为硅胶材料的表面已经具有较好的手感。在一实施例中，硅胶表层的成分与硅胶表层附着的脏污物质的成分有关，例如，若脏污物质为烃类，则硅胶表层的成分为二氧化碳。如图1B和图1C所示，光源10向硅胶材料11的表面照射，在硅胶材料11的表面，会附着有烃类脏污物质，当光源10向硅胶材料11照射紫外光时，紫外光透过硅胶材料11表面的氧气12，将氧气12转成臭氧13和活性氧14，臭氧13与活性氧14与附着在硅胶材料表面的烃类脏污物质发生化学反应后，生成二氧化碳和水，使硅胶材料11的表面形成硅胶表层112，硅胶表层112的下方为具有原硅胶组份的硅胶本体111。其中，硅胶表层111中的分子具有规则的排列方式。进一步地，硅胶表层112中的分子包括二氧化碳和水。由上述描述可知，本专利技术实施例通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度；此外，由于本专利技术实施例不需要在硅胶材料的表面喷涂油漆，因此硅胶材料更加环保和安全；由于硅胶表层的分子具有规则的排列方式，因此不易集结成电荷，进而使得硅胶材料还能够抗静电。图2为本专利技术另一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；如图2所示，包括如下步骤：步骤201，确定硅胶材料的表面类型。在一实施例中，表面类型可包括：光面、砂面、纹理。步骤202，基于表面类型，确定硅胶材料对应的光照参数。在一实施例中，对于每一个表面类型，可以通过试验的方式得到一组光照参数。通过该组光照参数可以控制附着在硅胶材料表面的脏污物质的分解程度，进而可以调整硅胶材料表面的手感。步骤203，控制光源发射具有光照参数的紫外光，紫外光照射在硅胶材料的表面。步骤203的描述可以参见上述图1A所示实施例的描述，在此不再详述。步骤204，确定硅胶材料需要照射的时长。在一实施例中，每一种类型的硅胶材料，可以通过试验的方式得到一个需要照射的时长，时长可以与上述光照参数共同控制硅胶材料表面的脏污物质分解的程度，从而可以确保硅胶材料的表面的手感更爽滑。步骤205，当光源发射紫外光的时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅胶材料的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。

【技术特征摘要】
1.一种硅胶材料的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定硅胶材料对应的光照参数，包括：确定硅胶材料的表面类型；基于所述表面类型，确定所述硅胶材料对应的光照参数。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：确定所述硅胶材料需要照射的时长；当所述光源发射所述紫外光的时间长度达到所述需要照射的时长时，确定达到所述预设条件。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：确定所述硅胶表层的静电参数；当所述静电参数小于或者等于预设阈值时，确定达到所述预设条件。5.一种硅胶材料的表面处理装置，其特征在于，所述装置包括：第一确定模块，用于确定硅胶材料对应的光照参数；控制模块，用于控制光源发射具有所述第一确定模块确定的所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；所述控制模块，还用于当达到...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晶，李明高，
申请(专利权)人：安徽华米信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34