显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板的制作方法，包括：对所述显示基板表面的过孔进行填充。本发明专利技术的技术方案能够使得显示基板上的过孔平整化，这样可以避免在过孔内残留灰尘杂质，降低显示基板外围电路转接处发生腐蚀的风险。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
现有显示基板的外围电路中，不同层的导电图形以过孔形式进行连接，在显示基板后段制程中过孔内会累积灰尘杂质，该灰尘杂质通过擦拭和清洗无法彻底去除。同时在像素电极刻蚀后难免有酸残留在过孔内，该灰尘杂质与酸、显示基板的金属层(为栅金属层或者源漏金属层)之间形成原电池，造成电化学腐蚀，将影响到显示基板的品质。此时，金属层为阳极，灰尘杂质为阴极，酸残留的氢离子为电解质。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够使得显示基板上的过孔平整化，这样可以避免在过孔内残留灰尘杂质，降低显示基板外围电路转接处发生腐蚀的风险。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种显示基板的制作方法，包括：对所述显示基板表面的过孔进行填充。进一步地，所述对所述显示基板表面的过孔进行填充包括：在所述显示基板表面形成绝缘层，去除所述绝缘层位于所述过孔外的部分，形成位于所述过孔内的绝缘图形。进一步地，所述绝缘层的厚度不大于所述过孔的最大深度。进本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：对所述显示基板表面的过孔进行填充。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：对所述显示基板表面的过孔进行填充。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述对所述显示基板表面的过孔进行填充包括：在所述显示基板表面形成绝缘层，去除所述绝缘层位于所述过孔外的部分，形成位于所述过孔内的绝缘图形。3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述绝缘层的厚度不大于所述过孔的最大深度。4.根据权利要求3所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述绝缘层的厚度等于所述过孔的最大深度。5.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：形成包括有过孔的钝化层的图形；在所述钝化层的图形上形成透明导电层；在所述透明导电层上形成所述绝缘层；通过一次构图工艺形成所述透明导电层的图形和所述绝缘图形。6.根据权利要求5所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板包括过孔区和显示区，所述钝化层的图形包括位于所述过孔区的第一过孔，所述制作方法具体包括：在包括所述第一过孔的所述钝化层上形成所述透明导电层；在所述透明导电层上形成所述绝缘层；在所述绝缘层上形成光刻胶层；采用掩模板对所述光刻胶层进行曝光，显影后形成光刻胶去除区域和光刻胶部分保留区域和光刻胶完全保留区域，所述光刻胶完全保留区域对应所述第一过孔，所述光刻胶去除区域对应所述显示区的所述透明导电层的待去除部分，所述光刻胶部分保留区域为除所述光刻胶去除区域和所述光刻胶完全保留区域之外的区域；对光刻胶去除区域的所述绝缘层和所述透明导电层进行刻蚀；灰化掉光刻胶部分保留区域的光刻胶；刻蚀掉光刻胶部分保留区域的所述绝缘层；剥离光刻胶完全保留区域的光刻胶，形成位于所述第一过孔内的绝...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦冬杰，庞冬，金香馥，吴美燕，易师甜，刘旭，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11