一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种层位校正的方法及装置，属于地质勘测领域，具体是涉及一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置。包括：根据钻孔电阻率测井曲线获取探测区地层电阻率与深度信息；经过统计和分析获得地层地电断面类型，确定电性标志层；逐点对比电性标志层实际深度与断面图上深度的差异，确定各测点的补偿深度；对测线上所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面层位校正。本发明专利技术可以在获得地层起伏和钻孔电阻率测井曲线的基础上，以电性标志层和地层标志层为基础，快速准确地对层位不匹配现象进行校正，提高电阻率断面质量和精度。

A method and device for horizon correction of resistivity section

The invention relates to a method and device for horizon correction, which belongs to the field of geological survey, in particular to a method and device for horizon correction of resistivity section. It includes: acquiring formation resistivity and depth information according to borehole resistivity logging curve; obtaining formation geoelectric section type through statistics and analysis, determining electrical marker layer; comparing actual depth of electrical marker layer with depth on section map point by point to determine the compensation depth of each measuring point; determining all measuring points on the line. The correction of resistivity section is completed by compensating correction. On the basis of obtaining formation undulation and borehole resistivity logging curves, and on the basis of electrical marker layer and formation marker layer, the invention can quickly and accurately correct the horizon mismatch phenomenon and improve the quality and precision of resistivity section.

【技术实现步骤摘要】
一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置
本专利技术涉及一种层位校正的方法及装置，属于地质勘测领域，具体是涉及一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置。
技术介绍
电阻率法是地球物理勘探中的一种重要勘探方法，以电阻率断面图的形式表达地下介质在水平和深度方向上的变化，在找矿和解决构造、水文、工程地质问题以及环境监测中得到广泛应用。由于地质条件的复杂性，实际工作往往面临地形起伏、地层倾斜、构造剧烈等复杂情况。受限于当前技术水平，电法勘探理论一般以一维水平层状介质为基础，没有考虑实际条件下测点之间存在高差、地层倾斜起伏、岩性横向不连续等情况，使得电阻率断面与实际地层存在偏差，甚至对使用者产生误导。因此，对电阻率断面进行层位校正存在迫切需求，相关技术得到广泛研究。早期对地形影响造成的层位校正问题主要采用比值校正法。该方法先通过一定手段获得纯地形异常，然后用地形造成的异常倍数乘或除以实测数据达到消弱地形影响的效果。在计算能力有限的早期，获得纯地形异常的手段有水槽、土槽、导电纸等物理模拟方法，直流电法还可利用场的解析解通过保角变换获得。随着计算机和计算技术的发展，二维和三维纯地形正演模拟成为获得本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：距离确定步骤，获取探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层和地层标志层，并确定两标志层的实际距离；断面图标注步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层并确定二者之间的测量距离；偏差确认步骤，逐点对比拟校正电阻率断面图上电性标志层与地层标志层之间的测量距离和实际距离的差异，确定各测点的补偿深度；测点补偿步骤，对所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面的层位校正。

【技术特征摘要】
1.一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：距离确定步骤，获取探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层和地层标志层，并确定两标志层的实际距离；断面图标注步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层并确定二者之间的测量距离；偏差确认步骤，逐点对比拟校正电阻率断面图上电性标志层与地层标志层之间的测量距离和实际距离的差异，确定各测点的补偿深度；测点补偿步骤，对所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面的层位校正。2.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：所述距离确定步骤进一步包括：测井曲线分析子步骤，根据钻孔电阻率测井曲线获取钻孔揭露地层电阻率和深度信息；电性标志层确定子步骤，对钻孔数据统计分析，获得探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层；地层标志层确定子步骤，根据地质资料确定的探测区地层稳定性和起伏情况，确定地层标志层。3.根据权利要求2所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述测井曲线分析子步骤中：对尚未掌握地电断面规律的测区，统计至少3个钻孔的电阻率测井曲线，且钻孔应未布置在富水异常区；对已掌握地电断面规律、或与已掌握区域地质条件明确相同的测区，统计至少1个钻孔的电阻率测井曲线，且钻孔应未布置在富水异常区。4.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述断面图标注步骤进一步包括：电性标注子步骤，确认拟校正电阻率断面图在纵向上反映探测区地电断面，确定电性标志层的存在及其在电阻率断面图上的分布；地层标注子步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层。5.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述偏差确认步骤中，对第i个测点，电性标志层实际深度为电性标志层在断面图上的深度为地层标志层实际深度为定义电性标志层与地层标志层的实际距离则补偿深度di为：6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王鹏，冯宏，曾方禄，姚伟华，郭恒，王益，李丹，
申请(专利权)人：中煤科工集团西安研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西,61