因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法，其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17～22的体积比混合而成。所述因瓦合金试样置于电解抛光液中作为阳极，不溶性金属为阴极；所述电解抛光液的温度为0℃～10℃，抛光电压为30～40V，对因瓦合金试样进行电解抛光。本抛光液配制简单，抛光效果好，试样表面平整、光洁、无明显变形层，可多次使用；能有效去除表面的应力层，有效地提升电解抛光质量，得到高标定率的电子衍射花样。本电解抛光方法能有效的去除样品表面的应力层，有效地提升电解抛光质量，有利于EBSD测试时产生强的衍射花样，获得高的标定率，以便于对因瓦合金进行晶界特征、织构、应力应变等微观组织结构的研究。

Electrolytic polishing solution and electrolytic polishing method for invar alloy

The invention discloses an electrolytic polishing fluid and an electrolytic polishing method for Invar alloy, which is composed of C3H8O2, HClO4 and C2H5OH according to the volume ratio of 1:2:17-22. The Invar alloy sample is placed in the electrolytic polishing fluid as an anode and the insoluble metal as a cathode, and the temperature of the electrolytic polishing fluid is 0 ~10 ~C, and the polishing voltage is 30~40V. The Invar alloy sample is electrolytically polished. The polishing fluid has the advantages of simple preparation, good polishing effect, smooth surface, no obvious deformation layer, and can be used for many times. The stress layer on the surface can be effectively removed, the quality of electrolytic polishing can be effectively improved, and the electron diffraction pattern with high calibration rate can be obtained. The electrolytic polishing method can effectively remove the stress layer on the surface of the sample, effectively improve the quality of electrolytic polishing, and is conducive to producing strong diffraction patterns in EBSD testing, and obtain high calibration rate, so as to facilitate the study of grain boundary characteristics, texture, stress and strain of Invar alloy microstructure.

【技术实现步骤摘要】
因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法
本专利技术涉及一种合金的电解抛光液及电解抛光方法，尤其是一种因瓦合金的电解抛光液及电解抛光方法。
技术介绍
因瓦合金具有很低的平均线热膨胀系数，广泛应用于无线电，精密仪表，仪器等行业。高强度因瓦合金作为电力电缆材料，其需求量日益增长。它不仅要求具有较高的强度特性，而且要求具有优良的抗扭转特性。因瓦合金的力学性能与物理性能与热轧、固溶、拉拔、时效等工艺过程中的晶体学特征息息相关，如晶粒大小、晶界特性、织构类型与分布、组织转变、再结晶情况等。电子背散射衍射（EBSD）技术是在材料精细组织结构分析上的重要手段，而EBSD样品制备成为影响最终分析结果的重要因素。因瓦合金试样在加工与制备过程中产生的表面应力层，使得获得的衍射花样质量差，标定率低。电解抛光技术是效率最高，重复性最好的去除表面应力的一种手段，但是获得合适的抛光液及工艺参数比较困难。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种效果好的因瓦合金的电解抛光液；本专利技术还提供了一种因瓦合金的电解抛光方法。为解决上述技术问题，本专利技术所采取的技术方案是：其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种因瓦合金的电解抛光液，其特征在于：其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17～22的体积比混合而成。

【技术特征摘要】
1.一种因瓦合金的电解抛光液，其特征在于：其由C3H8O2、HClO4、C2H5OH按照1:2:17～22的体积比混合而成。2.一种因瓦合金的电解抛光方法，采用权利要求1所述的电解抛光液，其特征在于：所述因瓦合金试样置于电解抛光液中作为阳极，不溶性金属为阴极；所述电解抛光液的温...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨婷，孙中华，吴迎飞，薛峰，
申请(专利权)人：河钢股份有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13