防污性薄膜制造技术

本发明专利技术提供防污性优良的防污性薄膜。本发明专利技术的防污性薄膜具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，上述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，上述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上极大值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防污性薄膜
本专利技术涉及防污性薄膜。更详细地，涉及具有纳米尺寸的凹凸构造的防污性薄膜。
技术介绍
对具有抗反射性的光学薄膜进行了各种研究(例如，参考专利文献1以及2)。特别是，具有纳米尺寸的凹凸构造(纳米构造)的光学薄膜具有良好的抗反射性是已知的。根据这样的凹凸构造，由于从空气层至基材折射率连续地变化，能够使反射光急剧减少。现有技术文献专利文献专利文献1：特开2005-97371号公报专利文献2：特许第5810528号公报专利文献3：国际公开第2011/111741号专利文献4：特许第5541272号公报专利文献5：特开2015-183082号公报专利文献6：特许第5744011号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题这样的光学薄膜(抗反射薄膜)具有优良的抗反射性，另一方面，由于其表面的凹凸构造，有时当指纹(皮脂)等污物附着时，附着的污物容易扩散，进一步，擦去进入凸部之间的污物变得困难。另外，附着的污物由于其反射率与抗反射薄膜的反射率相差较大，容易被眼睛看到。因此，对于表面具有纳米尺寸的凹凸构造，且对污物具有擦去性(例如，指纹擦去性)、即，具有优良防污性的功能性薄膜(防污性薄膜)的要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防污性薄膜，其具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，所述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在所述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离所述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上的极大值。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.12 JP 2016-1379261.一种防污性薄膜，其具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，所述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在所述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离所述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离所述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上的极大值。2.如权利要求1所述的防污性薄膜，其特征在于，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在所述凹凸构造的表面，比所述极大值小1atom％以上。3.如权利要求1或2所述的防污性薄膜，其特征在于，所述聚合体层是包含防污剂以及硬化性树脂的树脂的硬化物。4.如权利要求3所述的防污性薄膜，其特征在于，所述硬化性树脂含有与所述防污剂相溶的相溶性单体。5.如权利要求4所述的防污性薄膜，其特征在于，所述硬化性树脂中的所述相溶性单体的含量在5重量％以上，30重量％以下。6.如权利要求3～5中任意一项所述的防污性薄膜，其特征在于，所述防污剂含有具有反应性官能团的含氟单体作为有效成分。7.如权利要求6所述的防污性薄膜，其特征在于，所述防污剂中的氟原子在所述聚合体层表面取向。8.如权利要求6或7所述的防污性薄膜，其特征在于，所述含氟单体以下述一般式(A)表示。Rf1-R2-D1(A)(所述一般式(A)中，Rf1表示包含从...

【专利技术属性】
技术研发人员：林秀和，新纳厚志，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP