The application relates to a pressure sensitive adhesive composition, a protective film, an optical element and a display device. The pressure-sensitive adhesive composition has excellent storage stability, exhibits appropriate low-speed peeling force and high-speed peeling force after forming a cross-linking structure, and has an excellent balance between the two. In addition, while showing re-separability, the pressure-sensitive adhesive formed by the pressure-sensitive adhesive composition does not leave contaminants in the mucus after peeling. Therefore, when a pressure-sensitive adhesive composition is applied to a protective film, for example, it is advantageous in high-speed treatment by being easy to peel off at high speeds, and it exhibits excellent protective effects, thereby exhibiting excellent antistatic properties.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压敏粘合剂组合物
本申请要求基于2015年12月7日提交的韩国专利申请第10-2015-0173247号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。本申请涉及压敏粘合剂组合物、光学元件保护膜、光学元件和显示装置。
技术介绍
保护膜可以用于防止废物例如灰尘粘附至光学元件例如偏光板、其他塑料产品、家用器具或汽车等,或者防止划痕等出现。保护膜需要具有足够的剥离力和抗静电特性。例如,当为了使用产品或者为了组装其他产品而以高速剥离保护膜时,需要剥离力(下文中,称为“高速剥离力”)相对低。另一方面,以低速剥离时的剥离力(下文中,称为“低速剥离力”)可以相对高以表现出适当的保护功能。此外,由于主要在剥离保护膜时产生的静电,外来物质例如灰尘可被吸入,并且在电子产品的情况下,可引起静电击穿或装置故障。特别是最近,当由于计算机的普及和液晶电视或移动电话的多功能化而将组件集成时,由静电引起的问题越来越放大。因此,已经努力地向包含在保护膜中的压敏粘合剂赋予抗静电功能。例如,在专利文献1中,尝试通过将经环氧乙烷改性的邻苯二甲酸二辛酯增塑剂与压敏粘合剂混合来抑制静电产生。另外,在专利文献2中,将有机盐添加至压敏粘合剂中;在专利文献3中,将金属盐和螯合剂混合到压敏粘合剂中。然而,根据以上方法,由于压敏粘合剂组分转移到待保护产品中而出现污染,或者难以抑制在初始阶段产生的静电,尤其是对于保护功能重要的低速剥离力变得过低。<现有技术文献><专利文献>(专利文献1)日本特许专利公开第1993-140519号(专利文献2)韩国特许专利公 ...
【技术保护点】
1.一种压敏粘合剂组合物,包含丙烯酸类聚合物和离子化合物,所述离子化合物以相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物的0.001重量份至5重量份的比例包含在内并且具有基于咪唑的阴离子。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.07 KR 10-2015-01732471.一种压敏粘合剂组合物,包含丙烯酸类聚合物和离子化合物,所述离子化合物以相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物的0.001重量份至5重量份的比例包含在内并且具有基于咪唑的阴离子。2.根据权利要求1所述的压敏粘合剂组合物,其中所述丙烯酸类聚合物为包含以下的单体混合物的聚合物:(甲基)丙烯酸烷基酯;由下式1表示的第一单体,其中下式1中的A和B的亚烷基中包含的碳数在1至3的范围内;由下式1表示的第二单体,其中下式1中的A和B的亚烷基中包含的碳数在4至8的范围内;以及下式2的化合物:[式1]其中,Q为氢或烷基,A和B各自独立地为亚烷基,以及n为在0至10的范围内的数,[式2]其中,Q为氢或具有1至4个碳原子的烷基,U为具有1至4个碳原子的亚烷基,Z为氢、烷基或芳基,以及m为1或更大的数。3.根据权利要求1所述的压敏粘合剂组合物,其中所述基于咪唑的阴离子由下式3表示:[式3]其中,Rf为卤代烷基,以及R1和R2各自独立地为氢原子、烷基、卤代烷基或氰基,条件是R1和R2中的至少一者为氰基。4.根据权利要求3所述的压敏粘合剂组合物,...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙相夏,裴正植,尹正爱,尹圣琇,
申请(专利权)人:株式会社LG化学,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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