触摸传感器及其制造方法技术

一种触摸传感器，其包括：包括第一区域和第二区域的基膜；在所述基膜的第一区域上的第一感测电极图案，所述第一感测电极图案由透明金属氧化物构成；以及在所述基膜的第二区域上的第二感测电极图案，所述第二感测电极图案包括多层结构，该多层结构包括透明金属氧化物图案和金属图案。

【技术实现步骤摘要】
触摸传感器及其制造方法相关申请的交叉引用以及优先权要求本申请要求于2017年2月16日向韩国知识产权局(KIPO)提交的韩国专利申请第10-2017-0020933号的优先权，在此将其全部公开内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及一种触摸传感器及其制造方法。更具体地，本专利技术涉及一种包括多层电极图案的触摸传感器及其制造方法。
技术介绍
随着信息技术的发展，对具有更薄尺寸、重量轻、功耗效率高等的显示装置的各种需求正在增加。显示装置可以包括诸如液晶显示(LCD)装置、等离子显示面板(PDP)装置、电致发光显示装置、有机发光二极管(OLED)显示装置等的平板显示装置。还开发了一种能够通过选择屏幕中所显示的指令来输入用户的指引的触摸面板。触摸面板可以与显示装置组合，使得可以在一个电子装置中实现显示和信息输入功能。此外，显示装置已变得更薄，并且正在开发具有弯曲性或折叠性的柔性显示装置。因此，柔性显示装置也需要采用具有柔性的触摸面板。如果将触摸面板插入显示装置中，则当用户观看触摸面板的电极图案时，图像质量可能降低。因此，需要具有薄厚度和柔性并且还具有改善的光学特性的触摸面板。另外，在获得光学特性的同时，还需要电极图案的高灵敏度。例如，如韩国专利公开号2014-0092366中所公开，在各种图像显示装置中采用包括触摸传感器的触摸屏面板。然而，对于具有改善的光学特性和灵敏度的薄层触摸传感器或触摸面板的需求不断增加。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，提供一种具有改善的光学和电学特性的触摸传感器。根据本专利技术的一个方面，提供一种制造具有改善的光学和电学特性的触摸传感器的方法。根据本专利技术的一个方面，提供一种图像显示装置，其包括具有改善的光学和电学特性的触摸传感器。本专利技术构思的以上方面将通过以下特征或结构来实现：(1)一种触摸传感器，其包括：包括第一区域和第二区域的基膜；在所述基膜的所述第一区域上的第一感测电极图案，所述第一感测电极图案由透明金属氧化物构成；以及在所述基膜的所述第二区域上的第二感测电极图案，所述第二感测电极图案包括多层结构，所述多层结构包括透明金属氧化物图案和金属图案。(2)根据上述(1)所述的触摸传感器，其中，所述第一感测电极图案具有比所述第二感测电极图案大的薄层电阻和透光率。(3)根据上述(1)所述的触摸传感器，其中，所述第二感测电极图案包括依次堆叠的第一透明金属氧化物图案、所述金属图案和第二透明金属氧化物图案。(4)根据上述(3)所述的触摸传感器，其中，所述第一透明金属氧化物图案包括氧化铟锡(ITO)，并且所述第二透明金属氧化物图案可以包括氧化铟锌(IZO)。(5)根据上述(1)所述的触摸传感器，其中，所述第一感测电极图案具有氧化铟锡(ITO)的单层结构。(6)根据上述(1)所述的触摸传感器，其还包括桥接图案，所述桥接图案将相邻的第一感测电极图案彼此电连接，并且将相邻的第二感测电极图案彼此电连接。(7)根据上述(6)所述的触摸传感器，其中，所述桥接图案包括金属，并且所述桥接图案设置在所述基膜上的所述第一感测电极图案和所述第二感测电极图案下方。(8)根据上述(7)所述的触摸传感器，其中，所述基膜还包括第三区域，并且所述触摸传感器还包括位于所述基膜的所述第三区域上的焊盘。(9)根据上述(8)所述的触摸传感器，其中，所述焊盘包括堆叠结构，所述堆叠结构包括第一导电图案和第二导电图案，其中所述第一导电图案包括金属，并且所述第二导电图案包括透明金属氧化物。(10)根据上述(9)所述的触摸传感器，其中，所述第一导电图案包括与所述桥接图案的金属相同的材料，并且所述第二导电图案包括与所述第一感测电极图案的透明金属氧化物相同的材料。(11)根据上述(8)所述的触摸传感器，其还包括形成在所述第一区域和所述第二区域上的钝化层，以覆盖所述第一感测电极图案和所述第二感测电极图案。(12)根据上述(11)所述的触摸传感器，其中，所述钝化层部分地覆盖所述基膜的位于所述第三区域的部分，使得将所述焊盘暴露。(13)一种制造触摸传感器的方法，其包括：制备包括第一区域和第二区域的基膜；在所述基膜上形成第一透明金属氧化物层；在所述第一透明金属氧化物层的、位于所述第二区域上的部分上形成低电阻图案，所述低电阻图案的电阻小于所述第一透明金属氧化物层的电阻；使用所述低电阻图案作为掩模来蚀刻所述第一透明金属氧化物层，以在所述第二区域上形成包括所述低电阻图案的第二感测电极图案；以及在所述基膜的、位于所述第一区域的部分上形成由透明金属氧化物构成的第一感测电极图案。(14)根据上述(13)所述的方法，其中，制备所述基膜包括在载体基板上形成分离层；以及在所述分离层上形成保护层。(15)根据上述(14)所述的方法，其还包括形成覆盖所述第一感测电极图案和所述第二感测电极图案的钝化层；以及从所述分离层卸除所述载体基板。(16)根据上述(13)所述的方法，其中，所述基膜还包括第三区域，其中所述方法还包括：在所述基膜的、位于所述第三区域的部分上形成焊盘。(17)根据上述(16)所述的方法，其还包括在形成所述第二感测电极图案之后形成第二透明金属氧化物层，其中，通过蚀刻所述第二透明金属氧化物层来同时形成所述第一感测电极图案和所述焊盘。(18)根据上述(16)所述的方法，其中，通过蚀刻所述第一透明金属氧化物层来同时形成所述第一感测电极图案和所述焊盘。(19)根据上述(13)所述的方法，其还包括在形成所述第一透明金属氧化物层之前：通过蚀刻金属层在所述基膜上形成桥接图案；以及形成绝缘层，所述绝缘层包括部分暴露所述桥接图案的接触孔，其中所述第一透明金属氧化物层形成在所述绝缘层上以至少部分地填充所述接触孔。(20)一种图像显示装置，其包括：包括平面部分和弯曲部分的窗膜；设置在所述窗膜下方的根据上述(1)至(12)中任一项所述的触摸传感器，其中，所述触摸传感器的、位于所述第一区域的部分位于所述平面部分中，并且所述触摸传感器的、位于所述第二区域的部分位于所述弯曲部分中。根据本专利技术的示例性实施方式，触摸传感器可以包括在高透射率区域和高灵敏度区域中的每一个处形成的不同堆叠结构的电极图案，从而可以改善触摸传感器的光学和电学特性。在示例性实施方式中，电极图案在高透射率区域中可以形成为透明金属氧化物的单层，并且电极图案在高敏感度区域中可以形成为透明金属氧化物层和金属层的多层。因此，透射率可以提高，并且可以防止在高透射率区域中看到电极图案，并且可以减小沟道电阻，从而改善高灵敏度区域中的信号传输速度。在一些实施方式中，高透射率区域可以位于图像显示装置的正面中，并且高灵敏度区域可以位于图像显示装置的横向部分或弯曲部分中。因此，可以在不降低图像质量的情况下实现高灵敏度的信息传送。附图说明图1是示出根据示例性实施方式的触摸传感器的横截面图；图2至图10是示出根据示例性实施方式的触摸传感器的制造方法的横截面图；图11和图12是示出根据一些示例性实施方式的触摸传感器的制造方法的横截面图；图13和图14是示出根据一些示例性实施方式的触摸传感器的制造方法的横截面图；图15是示出根据一些示例性实施方式的触摸传感器的横截面图；以及图16是示出根据示例性实施方式的图像显示装置的示意图。具体实施方式根据本专利技术的示例性实本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触摸传感器，其包括：包括第一区域和第二区域的基膜；在所述基膜的所述第一区域上的第一感测电极图案，所述第一感测电极图案由透明金属氧化物构成；以及在所述基膜的所述第二区域上的第二感测电极图案，所述第二感测电极图案包括多层结构，所述多层结构包括透明金属氧化物图案和金属图案。

【技术特征摘要】
2017.02.16 KR 10-2017-00209331.一种触摸传感器，其包括：包括第一区域和第二区域的基膜；在所述基膜的所述第一区域上的第一感测电极图案，所述第一感测电极图案由透明金属氧化物构成；以及在所述基膜的所述第二区域上的第二感测电极图案，所述第二感测电极图案包括多层结构，所述多层结构包括透明金属氧化物图案和金属图案。2.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一感测电极图案具有比所述第二感测电极图案大的薄层电阻和透光率。3.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第二感测电极图案包括依次堆叠的第一透明金属氧化物图案、所述金属图案和第二透明金属氧化物图案。4.根据权利要求3所述的触摸传感器，其中，所述第一透明金属氧化物图案包括氧化铟锡(ITO)，并且所述第二透明金属氧化物图案可以包括氧化铟锌(IZO)。5.根据权利要求1所述的触摸传感器，其中，所述第一感测电极图案具有氧化铟锡(ITO)的单层结构。6.根据权利要求1所述的触摸传感器，其还包括桥接图案，所述桥接图案将相邻的第一感测电极图案彼此电连接，并且将相邻的第二感测电极图案彼此电连接。7.根据权利要求6所述的触摸传感器，其中，所述桥接图案包括金属，并且所述桥接图案设置在所述基膜上的所述第一感测电极图案和所述第二感测电极图案下方。8.根据权利要求7所述的触摸传感器，其中，所述基膜还包括第三区域，并且所述触摸传感器还包括位于所述基膜的所述第三区域上的焊盘。9.根据权利要求8所述的触摸传感器，其中，所述焊盘包括堆叠结构，所述堆叠结构包括第一导电图案和第二导电图案，其中，所述第一导电图案包括金属，并且所述第二导电图案包括透明金属氧化物。10.根据权利要求9所述的触摸传感器，其中，所述第一导电图案包括与所述桥接图案的金属相同的材料，并且所述第二导电图案包括与所述第一感测电极图案的透明金属氧化物相同的材料。11.根据权利要求8所述的触摸传感器，其还包括形成在所述第一区域和所述第二区域上的钝化层，以覆盖所述第一感测电极图...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹柱仁，李在显，崔镕锡，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR