【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚合物层和包含其的有机电子器件
本专利技术涉及聚合物层和包含聚合物层的有机电子器件。前言与常规的无机电子器件相比,有机电子器件具有如灵活性、低功耗和相对低成本的优点。有机电子器件通常包括如有机发光二极管(OLED)的有机发光器件。OLED具有多层结构并且通常包括阳极和金属阴极。夹在阳极和金属阴极之间的是有机层,如空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发射材料层(EML)、电子传输层(ETL)或电子注入层(EIL)。用于这些有机层的材料的重要特性包括长寿命、降低的驱动电压和/或提高的发光效率以最大限度地降低OLED显示器的功耗,特别是对于电池用作电源的移动应用。在HTL层的情况下,层沉积方法对于其最终用途的应用也是到关重要的。在小型显示器应用中,用于沉积HTL层的方法通常涉及用精细金属掩模蒸发较小有机化合物以指向沉积。在较大显示器的情况下,从材料使用和高通量观点来看,这种方法是不实际的。看起来很有前景的一种方法是溶液法,其涉及沉积附着有交联或聚合部分的小分子HTL材料。基于溶液法的方法包括在所属领域中众所周知的旋涂、喷墨印刷和网版印刷。然而,这些方法有它们 ...
【技术保护点】
1.一种聚合物层,所述聚合物层由包含以下各物的组合物形成:(a)以所述组合物的总重量计,1重量%到20重量%的p型掺杂剂,其中所述p型掺杂剂选自三苯甲基盐、铵盐、碘盐、卓鎓盐、咪唑盐、膦盐、氧盐或其混合物;和(b)一个或多个单体,包含以所述组合物中所述单体的总摩尔数计54摩尔%到100摩尔%单体B;其中单体B具有由结构B表示的结构:
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚合物层,所述聚合物层由包含以下各物的组合物形成:(a)以所述组合物的总重量计,1重量%到20重量%的p型掺杂剂,其中所述p型掺杂剂选自三苯甲基盐、铵盐、碘盐、卓鎓盐、咪唑盐、膦盐、氧盐或其混合物;和(b)一个或多个单体,包含以所述组合物中所述单体的总摩尔数计54摩尔%到100摩尔%单体B;其中单体B具有由结构B表示的结构:Ar1、Ar2和Ar3各自独立地选自被取代的C6-C60亚芳基、C6-C60亚芳基、被取代的C4-C60亚杂芳基或C4-C60亚杂芳基;Ar1、Ar2和Ar3能够各自独立地与其所键结的相邻苯基形成环结构;(R1)a、(R2)b和(R3)c各自独立地选自氢、C1-C60烃基、被取代的C1-C60烃基、卤素、氰基、硝基、C1-C60烷氧基或羟基;条件是(R1)a、(R2)b和(R3)c中的两个或更多个独立地具有以下结构D:其中L选自共价键、杂原子、芳族部分、杂芳族部分、C1-C100烃基、被取代的C1-C100烃基、C1-C100杂烃基或被取代的C1-C100杂烃基;并且其中R20到R22各自独立地选自氢、氘、C1-C50烃基、被取代的C1-C50烃基、C1-C50杂烃基、被取代的C1-C50杂烃基、卤素、氰基、C6-C50芳基、被取代的C6-C50芳基、C4-C50杂芳基或被取代的C4-C50杂芳基。2.根据权利要求1所述的聚合物层,其中单体B具有由结构B-I表示的结构:其中Ar1和Ar4各自独立地选自被取代的C6-C60亚芳基、C6-C60亚芳基、被取代的C4-C60亚杂芳基或C4-C60亚杂芳基;R5到R16各自独立地选自氢、C1-C60烃基、被取代的C1-C60烃基、卤素、氰基、硝基、C1-C60烷氧基或羟基;其中R10到R14中的至少一个是(R2)b;其中(R1)a、(R2)b和(R4)d各自独立地选自氢、C1-C60烃基、被取代的C1-C60烃基、卤素、氰基、硝基、C1-C60烷氧基或羟基;条件是(R1)a、(R2)b、(R4)d和R5到R16中的两个或更多个具有由结构D表示的结构。3.根据权利要求2所述的聚合物层,其中结构B-I中的Ar1和Ar4各自独立地选自以下结构:4.根据权利要求1所述的聚合物层,其中结构B中的Ar1、Ar2和Ar3各自独立地选自以下结构:5.权利要求1所述的聚合物层,其中单体B具有以下结构B-II:其中R5到R22各自独立地选自氢、C1-C60烃基、被取代的C1-C60烃基、卤素、氰基、硝基、C1-C60烷氧基或羟基;其中R17到R22中的一个是(R1)a;其中R10到R14中的一个是(R2)b;其中(R1)a、(R2)b和(R4)d各自独立地选自氢、C1-C60烃基、被取代的C1-C60烃基、卤素、氰基、硝基、C1-C60烷氧基或羟基;条件是(R1)a、(R2)b、(R4)d和R5到R22中的两个或更多个具有由结构D表示的结构;其中Ar4选自被取代的C6-C60亚芳基、C6-C60亚芳基、被取代的C4-C60亚杂芳基或C4-C60亚杂芳基;并且其中一个或多个氢原子能够任选地被氘取代。6.根据权利要求1所述的聚合物层,其中单体B具有以下结构B-III:其中R5到...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱敏荣,冯继昌,严竞竞,唐铮铭,冯少光,任华,罗弘烨,都成真,刘育臣,D·D·德沃尔,P·特雷福纳斯三世,L·斯宾塞,
申请(专利权)人:陶氏环球技术有限责任公司,罗门哈斯电子材料有限责任公司,罗门哈斯电子材料韩国有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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