压敏粘合剂组合物以及由其形成的压敏粘合剂图案制造技术

技术编号:18728511 阅读:62 留言:0更新日期:2018-08-22 01:55
根据本发明专利技术的压敏粘合剂组合物包含:丙烯酸系共聚物;多官能丙烯酸酯类化合物;和光引发剂,其中,丙烯酸系共聚物包含源自Tg为‑20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元,并且基于总计100重量份的丙烯酸系共聚物,源自不饱和羧酸单体的重复单元的含量为10至50重量份。

Pressure-sensitive adhesive composition and pressure sensitive adhesive pattern formed therefrom

The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention comprises: acrylic copolymers; polyfunctional acrylate compounds; and photoinitiators, wherein the acrylic copolymers comprise repeating units derived from acrylate monomers below Tg, and repeating units derived from unsaturated carboxylic acid monomers, and are based on a total of 100. Acrylic copolymers of weight originating from unsaturated carboxylic acid monomers containing 10 to 50 parts of repeating units.

【技术实现步骤摘要】
压敏粘合剂组合物以及由其形成的压敏粘合剂图案
本专利技术涉及一种压敏粘合剂组合物。更具体而言,本专利技术涉及一种能够形成图案的压敏粘合剂组合物以及由其形成的压敏粘合剂图案。
技术介绍
光刻法是形成诸如半导体、薄膜晶体管、触摸电极等的各种微型图案时最广泛使用的方法,是在基板上沉积用于形成图案的材料后获得微型图案、然后通过使用光致抗蚀剂形成对应于该图案的抗蚀剂图案的方法。通过使用光致抗蚀剂来形成光致抗蚀剂图案的典型方法包括:成膜工艺,其中将用于光致抗蚀剂的感光树脂组合物涂布在用于形成图案的材料的沉积膜上;曝光工艺,其中通过使用对应于待形成的图案而准备的掩模、利用光来选择性地照射光致抗蚀剂感光树脂膜;以及显影工艺,其中通过划分曝光区域和未曝光区域以根据正系和负系去除区域,从而获得期望的光致抗蚀剂图案。为了构成电泳显示装置,用油墨填充如此制备的光致抗蚀剂图案的分隔壁,并且通常使用UV固化性粘合剂、热固化性粘合剂、热熔型粘合剂、压敏粘合剂(PSA)等以便将光致抗蚀剂图案与另一基材结合。在这种情况下,UV固化性粘合剂和热固化性粘合剂的问题在于:难以将粘合剂仅涂布到分隔壁上,并且由于应将100℃以上的高温施加于热熔型粘合剂,因此热熔型粘合剂的问题在于:分隔壁之间的油墨中所含的溶剂在加热时挥发;并且还具有经济可行性不足的不利影响,原因在于当通过使用压敏粘合剂将光致抗蚀剂图案与另一基材的结合表面结合时,另外需要昂贵的压敏粘合剂。因此,为了解决现有技术中的问题,需要开发能够同时执行压敏粘合剂功能并且能够形成图案的压敏粘合剂组合物。韩国专利公开号1997-0028792涉及一种感光树脂组合物,并且公开了由聚合物共轭物、光聚合引发剂和包含至少一个末端烯属不饱和基团的光聚合性单体组成的感光树脂组合物,其中该感光树脂组合物同时含有由通式(I)、(II)和(III)表示的光聚合性单体。韩国专利公开号1997-0048906涉及一种感光树脂组合物,并且公开了感光树脂组合物包含至少一种具有两个或更多个能够加聚的不饱和反应性基团的水溶性单体和至少一种水不溶性单体作为光聚合性单体,其中基于固体含量,水溶性单体的含量为3-15%,并且光聚合性单体的反应性基团的总量(#M)在1kg固体含量中为0.5-1.5摩尔。此外,韩国专利公开号1999-0044707涉及一种干膜光致抗蚀剂,并且公开了通过依次层叠保护膜、感光聚合物层和支撑膜而制备的干膜光致抗蚀剂,其中保护膜是满足由式1表示的表面特性的聚对苯二甲酸乙二醇酯双轴拉伸膜。然而,在这些文献的情况下,由于应通过将光致抗蚀剂图案加热到100℃以上以便将光致抗蚀剂图案结合至另一基材,从而将光致抗蚀剂图案结合至另一基材,所以没有表现出压敏粘合剂性能,并且用于形成光致抗蚀剂图案的材料具有高Tg,没有防止用于电泳显示装置的油墨的溶剂组分挥发。(现有技术文献)(专利文献)(专利文献1)韩国专利公开号1997-0028792(1997年6月24日)(专利文献2)韩国专利公开号1997-0048906(1997年7月29日)(专利文献3)韩国专利公开号1999-0044707(1999年6月25日)
技术实现思路
1.技术问题本专利技术的一个技术目的是提供一种压敏粘合剂组合物,其具有粘合特性和图案形成性。本专利技术的另一个技术目的是提供一种压敏粘合剂组合物,其能够在光固化后用作光致抗蚀剂图案。本专利技术的又一个技术目的是提供一种由上述压敏粘合剂组合物形成的压敏粘合剂图案,具体而言,光致抗蚀剂图案。2.问题的解决方案为了实现这些目的,根据本专利技术的压敏粘合剂组合物包含:丙烯酸系共聚物;多官能丙烯酸酯类化合物;和光引发剂,其中丙烯酸系共聚物包含源自Tg为-20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元,并且基于总计100重量份的丙烯酸系共聚物,源自不饱和羧酸单体的重复单元的含量为10至50重量份。此外,本专利技术提供一种由上述压敏粘合剂组合物形成并且Tg为0℃以下的压敏粘合剂图案。3.有益效果由于根据本专利技术的压敏粘合剂组合物具有优异的压敏粘合性和固化时优异的图案形成性,所以具有能形成光致抗蚀剂图案的有利效果。此外,具有如下的有利效果:因为通过使用紫外线,能够容易地使压敏粘合剂组合物固化,因此能够防止填充在光致抗蚀剂图案的分隔壁之间的油墨中的溶剂通过在高温下固化根据本专利技术的压敏粘合剂组合物而挥发。此外,具有如下的有利效果:由于通过使用根据本专利技术的压敏粘合剂组合物能够一次形成根据本专利技术的压敏粘合剂图案,而不必分开使用光致抗蚀剂组合物和压敏粘合剂,所以压敏粘合剂图案在工艺方面优异。附图说明图1和图2分别是根据本专利技术的一些示例性实施方式的压敏粘合剂图案的正表面照片和侧表面照片。具体实施方式在下文中,将更详细地描述本专利技术。本专利技术中一个构件布置在另一个构件“上”时,这不仅包括一个构件与另一个构件接触的情况,而且还包括在两个构件之间存在另一个构件的情况。本专利技术中一个部件“包含”一个构成要素时,除非另外具体描述,否则这并不意味着排除其它构成要素,而是意味着可以进一步包括其它构成要素。本专利技术的一个方面涉及一种压敏粘合剂组合物,其包含:丙烯酸系共聚物;多官能丙烯酸酯类化合物;和光引发剂,其中丙烯酸系共聚物包含源自Tg为-20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元,并且基于总计100重量份的丙烯酸系共聚物,源自不饱和羧酸单体的重复单元的含量为10至50重量份。根据本专利技术的丙烯酸系共聚物含有源自Tg为-20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元。具体而言,丙烯酸系共聚物可以通过将Tg为-20℃以下的丙烯酸酯类单体与不饱和羧酸单体共聚来制备。对丙烯酸酯类单体没有限制,只要Tg为-20℃以下即可。例如,丙烯酸酯类单体是具有-20℃以下的Tg并且具有(甲基)丙烯酰基作为光固化性官能团的化合物,并且其实例包括丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-丁酯、丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等。具体而言,根据本专利技术的丙烯酸酯类单体可以是丙烯酸丁酯。源自丙烯酸酯类单体的重复单元可用于赋予压敏粘合剂组合物以压敏粘合性。具体而言,由于根据本专利技术的丙烯酸酯类单体具有低Tg,因此可以获得具有好得多的压敏粘合性的压敏粘合剂组合物。作为不饱和羧酸单体,可以使用不饱和一元羧酸、不饱和二元羧酸、不饱和多元羧酸等。具体而言,不饱和一元羧酸的实例包括丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸等。不饱和二羧酸的实例包括马来酸、富马酸、衣康酸、柠康酸、中康酸等。不饱和多元羧酸也可以是酸酐,其具体实例包括马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等。另外,不饱和多元羧酸也可以是其单(2-甲基丙烯酰氧基烷基)酯,其实例包括琥珀酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、琥珀酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯等。不饱和多元羧酸也可以是二羧基聚合物在其两端的单(甲基)丙烯酸酯,其实例包括ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯和ω-羧基聚己内酯单甲本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种压敏粘合剂组合物,其包含:丙烯酸系共聚物;多官能丙烯酸酯类化合物;和光引发剂,其中,所述丙烯酸系共聚物包含源自Tg为‑20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元,并且基于总计100重量份的丙烯酸系共聚物,以10至50重量份的量包含所述源自不饱和羧酸单体的重复单元。

【技术特征摘要】
2017.02.09 KR 10-2017-00179511.一种压敏粘合剂组合物,其包含:丙烯酸系共聚物;多官能丙烯酸酯类化合物;和光引发剂,其中,所述丙烯酸系共聚物包含源自Tg为-20℃以下的丙烯酸酯类单体的重复单元和源自不饱和羧酸单体的重复单元,并且基于总计100重量份的丙烯酸系共聚物,以10至50重量份的量包含所述源自不饱和羧酸单体的重复单元。2.根据权利要求1所述的压敏粘合剂组合物,其中,所述多官能丙烯酸酯类化合物在其分子中包含:两个或更多个第一光固化性官能团;和选自由酸基和乙二醇基组成的组中的一个或多个官能团。3.根据权利要求2所述的压敏粘合剂组合物,其中,所述多官能丙烯酸酯类化合物由以下化学式1或化学式2表示:[化学式1]在化学式1中,a至d各自为0至10的整数,并且a+b+c+d=4至40的整数,[化学式2]4.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:琴中韩柳廷昊郑景文崔凤珍崔汉永
申请(专利权)人:东友精细化工有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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