砂布，其特征在于：该砂布表面具有数均单纤纤度为１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ，单纤纤度在１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ范围内的纤维的比率为６０％以上的超细纤维，在用扫描式电子显微镜ＳＥＭ以２０００倍观测表面露出的单纤纤度在１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ的超细纤维之间的交叉点时，０．０１ｍｍ↑［２］范围的５０处中平均存在５００处以上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适合在以超高精度的精加工对用于磁记录盘的铝合金基板和玻璃基板实施结构加工(texture加工)时使用的砂布，涉及具 有使纳米纤维分散在表面的极为致密的表面状态和优异平滑性的砂 布。
技术介绍
近年来，磁盘等磁记录介质伴随着容量增大、记忆密度增加，磁 头的浮动高度有明显减小的趋势。因此，若磁盘表面存在突起，则磁 头与突起接触，引起磁头破碎，在磁盘表面产生伤痕。另外，即使是 未达到磁头破碎程度的微小突起，与磁头的接触也会成为读写信息时 产生错误的原因。在磁盘基板上形成金属磁性层时，为了控制结晶生长的方向性， 提高记录方向的抗磁力，进行在记录盘的基板表面上形成微细条痕的 称作结构加工的表面处理。作为结构加工的方法，使用使游离砂粒的浆料附着在砂布表面进 行磨削的浆料磨削等方法。然而，通过结构加工进行表面处理以满足 磁头的低浮动时，为了应对最近急剧的高记录容量化引起的高记录密 度化，需要达到0.3nm以下的基板表面粗糙度，并且使称作刮擦缺陷 的基板表面的伤最小化，热切盼望能应对该需要的砂布。在结构加工中，为了减小基板的表面粗糙度，提出了使构成无纺 布的纤维超细化；为了使基板表面的伤达到极小化，提出了使高分子 弹性体含浸于应具有緩沖性的无纺布中的各种方案。例如，提出了使高分子弹性体含浸于0.3 dtex以下的超细纤维无 纺布的砂布，达到了 0.5nm左右的表面粗糙度(专利文献l)。近年来还提出了使用聚合物混合体纺丝，包含平均纤度为0.001 ~0.1 dtex的聚酰胺超细短纤维的无纺布的砂布(专利文献2)。该砂布虽 然达到了 0.28 nm的表面粗糙度，但作为更进一步的超细纤维，需要 纳米纤维水平的超极细纤维。然而，在现有的海岛型复合纺丝技术中， 单纤纤度为1(^dtex的数量级已是界限，该水平不能充分满足上述需 要。另夕卜，还公开了由聚合物混合体纤维获得超极细纤维的方法(专利 文献3、 4),得到了单纤纤度最细为10"4 dtex数量级的超极细纤维。 然而，这里所得的超极细纤维的单纤纤度由聚合物混合体纤维中岛聚 合物的分散状态决定，但由于该公报中使用的聚合物混合体体系中岛 聚合物的分散不充分，所得超极细纤维的单纤纤度波动较大。然而，作为使构成无纺布的纤维超细化的技术，近年来有将聚光 灯照射的纤维静电纺纱的技术。该技术是将聚合物溶解于电解质溶液 中，从喷嘴挤出，在进行时，向聚合物溶液施加数千至3万伏的高电 压，由聚合物溶液的高速喷射和跟随其后的喷射的折弯、膨胀而超细 化。与单纤纤度为10-Sdtex数量级(单纤直径相当于数十nm)的现有的 聚合物混合体技术得到的单纤相比，使用该技术，有时可以使纤度达 到1/100以下，直径达到1/10以下。作为对象的聚合物是胶原等生物 体聚合物或水溶性聚合物为大半的聚合物，但也有将热塑性聚合物溶 解于有才几溶剂进行静电纺纱的情况。然而，如Polymer, 40巻，4585 (1999)所记载，作为超极细丝部分的丝线被聚合物积存部分的珠状物 (直径0.5 /mi)连接的情况居多，视为超极细丝时无纺布中的单纤纤度 存在很大波动。为此，尝试了抑制珠状物的生成来使纤维直径均匀， 但其波动仍然很大(非专利文献1)。静电纺纱所得无纺布是在纤维化的过程中通过溶剂蒸发而得到 的，其纤维束未定向结晶化的情况居多，强度也比通常的无纺布弱得 多，在应用展开方面存在很大的制约。而且，静电纺纱作为制备方法 也有很大的问题，存在所得无纺布的大小最多不过100 cn^左右，生产量最大为数g/小时，与通常的熔融纺丝相比非常低的问题。此外， 还存在需要高电压，有机溶剂或超极细丝在空气中浮游的问题。在这样的背景之下，近年来，作为获得纤度波动小、可稳定供给 的超细纤维的手段，公开了一种包含纳米纤维的人造皮革，该纳米纤 维使用岛成分以纳米级均匀微分散于海成分中的聚合物合金纤维(专利文献5)。该超细纤维的单纤纤度为10—Sdtex数量级，是现有技术中 没有的超极细纤维，但该超细纤维按纳米纤维单位几乎不分散，形成 得自除去海成分前的聚合物合金纤维的纤维束。因此，作为纤维束的 性质成为统治性的，不能对基板表面粗糙度的降低或刮擦缺陷的极小 化作出充分的贡献。专利文献1:日本特开2001-1252号公报 专利文献2:日本特开2002-273650号/>才艮 专利文献3:日本特开平6-272114号公报 专利文献4:日本特许第3457478号/>才艮 专利文献5:日本特开2004-256983号公报 非专利文献l: Polymer, 43巻，4403 (2002)
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术的目的在于通过使非常难分散的纳米纤维分散在表面， 提供具有现有的超细纤维不能达到的极为致密的表面状态和优异的 平滑性的高性能砂布。解决问题的方法
本专利技术为了解决上述课题，采用了如下手段。即， (1)砂布，其特征在于该砂布表面具有数均单纤纤度为lxl(T8-1.4xl0-3 dtex，单纤纤度在lxlCT8 ~ 1.4x10-3 dtex范围内的纤维的比率 为60%以上的超细纤维，在用扫描式电子显微镜SEM以2000倍观察表面露出的单纤纤度在lxl(T8 ~ 1.4xl(T3 dtex的超细纤维之间的交叉 点时，0.01 mm2范围的50处中平均存在500处以上。(2) 上述(l)的砂布，其特征在于上述超细纤维包含热塑性聚合物。(3) 上述(1)或(2)的砂布，其特征在于上述超细纤维为缩聚聚合物。(4) 上述(3)的砂布，其特征在于上述缩聚聚合物包含聚酯或聚酰胺。(5) 上述(1) (4)中任一项的砂布，其特征在于由通过纺粘法制造的 长纤维无纺布获得。(6) 上述(l)-(5)的砂布的制造方法，其特征在于将对2种以上溶剂 的溶解性不同的聚合物合金化，使用所得的聚合物合金熔融体制作复 合纤维网，实施抱合处理制作无纺布，然后向该无纺布提供高分子弹 性体，使该高分子弹性体实质上凝固而固化，实施起绒处理而在表面 形成毛绒，然后通过从该复合纤维溶解除去易溶性聚合物，进行产生 超细纤维的加工。(7) 上述(6)的砂布的制造方法，其特征在于在产生超细纤维的加工 中或加工后，在液体中提供物理刺激。专利技术效果根据本专利技术，通过使非常难分散的纳米纤维分散在表面，可以提 供具有现有的超细纤维不能达到的极为致密的表面状态和优异的平 滑性的高性能砂布。附图简述附图说明图1是本专利技术砂布的表面的一个例子的SEM照片(2000倍)。图2是现有技术(比较例2)所得砂布的表面的一个例子的SEM照片。实施专利技术的最佳方案以下详细说明本专利技术及优选的实施方案。本专利技术砂布的特征在于该砂布是表面具有数均单纤纤度为 lxlO-8 - 1.4x10-3 dtex，单纤纤度在lxl(T8 ~ 1.4xl(T3 dtex范围内的纤维 的比率为60%以上的包含热塑性聚合物的超细纤维的片状物，在用扫 描式电子显微镜SEM以2000倍观察表面露出的单纤纤度在lxl(T8 ~ 1.4xlO-Sdtex的超细纤维之间的交叉点时，0.01mm2范围的50处中平 均存在500处以上。本专利技术砂布的表面的一个例子示于图1。这里，本专利技术所称的超细纤维包括单纤维的直径在1 ~本文档来自技高网...
【技术保护点】
砂布，其特征在于：该砂布表面具有数均单纤纤度为１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ，单纤纤度在１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ范围内的纤维的比率为６０％以上的超细纤维，在用扫描式电子显微镜ＳＥＭ以２０００倍观测表面露出的单纤纤度在１×１０↑［－８］～１．４×１０↑［－３］ｄｔｅｘ的超细纤维之间的交叉点时，０．０１ｍｍ↑［２］范围的５０处中平均存在５００处以上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：西村一，西村诚，近藤五郎，木立惠治夫，
申请(专利权)人：东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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