光学薄膜、图像显示装置以及光学薄膜的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种干涉不均小且具有高表面硬度的光学薄膜、上述光学薄膜的制造方法以及图像可见性良好的图像显示装置。一种光学薄膜，其包含：含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜；以及将含有固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层，所述光学薄膜中，第1固化层由相容层和第1硬涂层形成，相容层和第1硬涂层从基材薄膜侧依次设置，第1固化层侧的光学薄膜表面的铅笔硬度为H以上，对反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001～0.030，所述反射率谱从所述光学薄膜的第1固化层侧，通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得，一种光学薄膜的制造方法，其包括在70℃～120℃下对含有溶剂的第1组合物的涂布膜进行120秒～300秒的干燥的步骤，以及一种图像显示装置，其包含上述光学薄膜。

Optical film, image display device and manufacturing method of optical film

The invention provides an optical film with low interference and high surface hardness, a manufacturing method of the optical film, and a image display device with good visibility. An optical film consists of a substrate film containing (methyl) acrylic resin; and a first curing layer consisting of a first composition containing a curing compound. In the optical film, the first curing layer is formed by a compatible layer and a hard coating of first, and the compatibility layer and the first hard coating are sequentially set from the film side of the substrate. The pencil hardness of the surface of the optical film on the first curing layer is more than H, and the peak intensity value of the power spectrum obtained by Fu Liye transform on the reflectance spectrum is 0.001 to 0.030. The reflectance spectrum is measured from the first curing layer of the optical thin film by the non-contact surface shape measurement of the optical interference mode. A manufacturing method for an optical film, which includes a drying process for 120 seconds to 300 seconds of a coating film containing first compositions containing a solvent at 70 to 120 DEG C, and an image display device comprising the optical film.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学薄膜、图像显示装置以及光学薄膜的制造方法
本专利技术涉及一种光学薄膜、图像显示装置以及光学薄膜的制造方法。
技术介绍
一直以来，作为液晶显示器(LCD)或等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等图像显示装置的保护部件，使用了在三乙酰纤维素(TAC)基材的表面形成有硬涂层的光学薄膜。但是，近年来提出了使用包含以透湿度更低的(甲基)丙烯酸类树脂为主成分的透明塑料基材的光学薄膜(例如，专利文献1和专利文献2)。专利文献1中公开了如下硬涂膜，其在透明塑料薄膜基材的至少一个面上具有硬涂层，该硬涂膜的特征在于，使用硬涂层形成材料而形成，该硬涂层形成材料中，透明塑料薄膜基材含有丙烯酸类树脂和甲基丙烯酸类树脂中的至少一者，硬涂层含有多元醇丙烯酸酯和多元醇丙烯酸甲酯中的至少一者。专利文献2中公开了如下硬涂膜，其具有以(甲基)丙烯酸类树脂为主成分的基材薄膜以及硬涂层，该硬涂膜的特征在于，在基材薄膜的硬涂层侧的界面附近形成有构成基材薄膜的材料与构成硬涂层的材料相容而成的相容层。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-185282号公报专利文献2：日本特开2013-222153号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题对用作图像显示装置的保护部件的光学薄膜要求不会降低图像的可见性以及具有高表面硬度。专利文献1中所公开的硬涂膜中公开了在硬涂层形成材料中的多元醇丙烯酸酯和多元醇丙烯酸甲酯中的至少一者的含量低的(50质量％以下)状态下，以特定溶剂和特定干燥条件使硬度和密合性良好的技术，但是对于图像的可见性并未进行确认。并且，专利文献2中所公开的硬涂膜中记载有通过相容层的形成而基材薄膜与硬涂层具有优异的密合性，而且能够在这些层间防止干涉条纹的产生的内容，但是未得到足够高的表面硬度。本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其课题在于提供一种光学薄膜，其具有以(甲基)丙烯酸类树脂为主成分的基材薄膜以及硬涂层，该光学薄膜用作图像显示装置的保护部件时不会降低图像的可见性并且具有高表面硬度。本专利技术的课题还在于提供一种图像的可见性高且具有表面硬度高的图像显示面的图像显示装置。用于解决技术课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题而进行深入研究的结果，发现能够得到具有高表面硬度且很难产生干涉不均的光学薄膜。本专利技术是根据该见解而完成的。即，本专利技术提供下述[1]～[13]。[1]一种光学薄膜，其包含：含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜；以及将含有固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层，所述光学薄膜中，上述第1固化层由相容层和第1硬涂层形成，上述相容层和上述第1硬涂层从上述基材薄膜侧依次设置，上述第1固化层侧的上述光学薄膜表面的铅笔硬度为H以上，对反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001～0.030，所述反射率谱从所述光学薄膜的上述第1固化层侧，通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得。[2]根据[1]所述的光学薄膜，其中，上述第1硬涂层的膜厚为2.0μm～7.0μm，并且上述相容层的膜厚超过1.0μm且为10μm以下。[3]根据[1]或[2]所述的光学薄膜，其中，上述固化性化合物的分子量为400以下，并且在1个分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基，相对于上述第1组合物的固体成分质量，上述第1组合物含有70质量％以上的上述固化性化合物。[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学薄膜，其包含第2硬涂层，上述基材薄膜、上述第1硬涂层、上述第2硬涂层依次设置。[5]根据[4]所述的光学薄膜，其中，上述第2硬涂层为将含有固化性化合物的第2组合物进行固化而得的层，相对于上述第2组合物的固体成分质量，上述第2组合物含有小于70质量％的分子量为400以下且在1个分子中具有3个以上(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。[6]根据[4]或[5]所述的光学薄膜，其中，上述第1硬涂层的膜厚为5.0μm以下，上述第2硬涂层的膜厚为5.0μm以下，上述第1硬涂层与上述第2硬涂层的总膜厚为3.0μm～10μm。[7]根据[1]至[6]中任一项所述的光学薄膜，其中，上述第1硬涂层和上述第2硬涂层中的至少一者含有有机类抗静电剂。[8]根据[7]所述的光学薄膜，其中，上述有机类抗静电剂具有季铵盐。[9]根据[1]至[8]中任一项所述的光学薄膜，其包含低折射率层。[10]一种图像显示装置，其包含[1]至[9]中任一项所述的光学薄膜。[11]一种光学薄膜的制造方法，其为制造包含含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜以及第1硬涂层的光学薄膜的方法，所述制造方法包括如下步骤：在上述基材薄膜的至少一个表面上涂布含有固化性化合物和溶剂的第1组合物；对通过上述涂布而得到的涂布膜1进行干燥；以及将上述干燥后的涂布膜1进行固化而形成上述第1硬涂层，上述固化性化合物的分子量为400以下，并且在1个分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基，相对于上述第1组合物的固体成分质量，上述第1组合物含有70质量％以上的上述固化性化合物，上述干燥在70℃～120℃下进行100秒～300秒。[12]根据[11]所述的光学薄膜的制造方法，其中，上述溶剂的SP值为21～25，并且沸点为150℃以下。[13]根据[11]或[12]所述的光学薄膜的制造方法，其包括如下步骤：在上述第1硬涂层上涂布含有固化性化合物的第2组合物；对通过上述第2组合物的涂布而得到的涂布膜2进行干燥；以及将上述干燥后的涂布膜2进行固化而形成第2硬涂层，上述第1硬涂层的表面固化率为50％以下。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种具有以(甲基)丙烯酸类树脂为主成分的基材薄膜以及硬涂层，并且干涉不均小且具有高表面硬度的光学薄膜。通过使用本专利技术的光学薄膜，能够提供具有图像可见性高且表面硬度高的图像显示面的图像显示装置。本专利技术还提供上述光学薄膜的制造方法。具体实施方式以下，对本专利技术进行说明。另外，以下记载的构成要件的说明有时根据本专利技术的代表性实施方式和具体例而完成，但本专利技术并不限定于这种实施方式和具体例。另外，本说明书中，用“～”表示的数值范围表示，将记载于“～”前后的数值作为下限值和上限值而包含的范围。本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯和丙烯酸甲酯中的任一方或双方”，“(甲基)丙烯酸基((meth)acryl)”表示“丙烯酸基(acryl)和甲基丙烯酸基(methacryl)中的任一方或双方”，“(甲基)丙烯酰基”表示“丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的任一方或双方”。1.光学薄膜本专利技术的光学薄膜是能够用于图像显示装置的薄膜。本专利技术的光学薄膜优选用作图像显示装置的图像显示部的保护部件。本专利技术的光学薄膜尤其能够在图像显示装置的图像显示部的最表面发挥硬涂膜的功能。本专利技术的光学薄膜包含：含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜；以及将含有具有(甲基)丙烯酰基的固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层。在此，基材薄膜与第1固化层相邻即可，优选为直接接触。本专利技术的光学薄膜的干涉不均小。具体而言，对反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001～0.030，所述反射率谱从所述光学薄膜的第1固化层侧，通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得。上述反射率谱的测定能够使用反射分光厚度仪来进行。作为反射分光厚度仪，例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜，其包含：含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜；以及将含有固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层，所述第1固化层由相容层和第1硬涂层形成，所述相容层和所述第1硬涂层从所述基材薄膜侧依次设置，所述光学薄膜的所述第1固化层侧的表面的铅笔硬度为H以上，对所述光学薄膜的反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001～0.030，所述反射率谱是从所述光学薄膜的所述第1固化层侧通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得到的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.16 JP 2015-224306;2016.03.25 JP 2016-061931.一种光学薄膜，其包含：含有(甲基)丙烯酸类树脂的基材薄膜；以及将含有固化性化合物的第1组合物进行固化而成的第1固化层，所述第1固化层由相容层和第1硬涂层形成，所述相容层和所述第1硬涂层从所述基材薄膜侧依次设置，所述光学薄膜的所述第1固化层侧的表面的铅笔硬度为H以上，对所述光学薄膜的反射率谱进行傅立叶变换而得到的功率谱的峰值强度值为0.001～0.030，所述反射率谱是从所述光学薄膜的所述第1固化层侧通过光学干涉方式的非接触表面形状测量进行测定而得到的。2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，所述第1硬涂层的膜厚为2.0μm～7.0μm，并且所述相容层的膜厚超过1.0μm且为10μm以下。3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述固化性化合物的分子量为400以下，并且在1个分子中具有3个以上的(甲基)丙烯酰基，相对于所述第1组合物的固体成分质量，所述第1组合物含有70质量％以上的所述固化性化合物。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学薄膜，其包含第2硬涂层，所述基材薄膜、所述第1硬涂层、所述第2硬涂层依次设置。5.根据权利要求4所述的光学薄膜，其中，所述第2硬涂层是将含有固化性化合物的第2组合物固化而得的层，相对于所述第2组合物的固体成分质量，所述第2组合物含有小于70质量％的分子量为400以下且在1个分子中具有3个以上(甲基)丙烯酰基的固化性化合物。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎高康，伊吹俊太郎，大西基贵，米山博之，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP