The invention discloses a cleaning agent for cleaning magnets, including sodium hydroxide 2 3G, sodium bicarbonate 10 12g, potassium lactate 8 10g, emulsifier 5g, and osmosis agent 3G. The cleaning agent is mixed with pure water or deionized water at 1:10, and the surface of the magnet is cleaned at temperature 20 and 35. The invention has no residue on the surface of the magnet.
【技术实现步骤摘要】
一种用于磁铁表面清洗的清洗剂
本专利技术涉及清洗剂的配方领域，特别涉及一种用于磁铁表面清洗的清洗剂。
技术介绍
现有技术中对小块磁铁表面进行清洗时往往通过清水反复冲洗，有些利用超声波清洗机进行清洗，但其清洗效果并不是十分理想，磁铁表面应有些许残留，不利于其后期的使用。
技术实现思路
为解决上述
技术介绍
中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种用于磁铁表面清洗的清洗剂，以达到使磁铁表面无残留的目的。为达到上述目的，本专利技术的技术方案如下：一种用于磁铁表面清洗的清洗剂，包括氢氧化钠2-3g、碳酸氢钠10-12g、乳酸钾8-10g、乳化剂5g、渗透剂3g，将上述清洗剂与纯水或去离子水以1：10混合，以温度20-35℃对磁铁表面进行清洗。优选的，所述清洗次数为每六小时一次，连续清洗三次，去通过清水冲洗。优选的，所述清洗剂包括氢氧化钠2.4g、碳酸氢钠11.6g、乳酸钾9.2g、乳化剂5g、渗透剂3g。优选的，所述清洗剂包括氢氧化钠2.8g、碳酸氢钠10.4g、乳酸钾8.8g、乳化剂5g、渗透剂3g。通过上述技术方案，本专利技术提供的用于磁铁表面清洗的清洗剂，利用清洗剂与纯水或去离子水以一定比例混合后对磁铁进行清洗，使其表面无残留，清洗效果更显著，达到理想水平。具体实施方式下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。本专利技术提供的一种用于磁铁表面清洗的清洗剂，包括氢氧化钠2-3g、碳酸氢钠10-12g、乳酸钾8-10g、乳化剂5g、渗透剂3g，将上述清洗剂与纯水或去离子水以1：10混合，以温度20-35℃对磁铁表面进行清洗，所述清洗次数为每六小时一次，...
【技术保护点】
1.一种用于磁铁表面清洗的清洗剂，其特征在于，包括氢氧化钠2‑3g、碳酸氢钠10‑12g、乳酸钾8‑10g、乳化剂5g、渗透剂3g，将上述清洗剂与纯水或去离子水以1：10混合，以温度20‑35℃对磁铁表面进行清洗。
【技术特征摘要】
1.一种用于磁铁表面清洗的清洗剂，其特征在于，包括氢氧化钠2-3g、碳酸氢钠10-12g、乳酸钾8-10g、乳化剂5g、渗透剂3g，将上述清洗剂与纯水或去离子水以1：10混合，以温度20-35℃对磁铁表面进行清洗。2.根据权利要求1所述的用于磁铁表面清洗的清洗剂，其特征在于，所述清洗次数为每六小时一次，连续清洗三次，去...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴骋航，
申请(专利权)人：苏州圆格电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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