本发明专利技术涉及一种喂纱器（Ｒ），它包括：一个静止安装在腔室（１）处的储纱筒（Ｔ）；一个可转动的卷绕管（３），它位于腔室（１）与储纱筒（Ｔ）之间，并且带有一个面朝外部的纱线出口（５）；以及一个与腔室固定在一起的支架（９）。至少一个光电传感器（Ｓ１，Ｓ２）被放置在支架中，传感器与一个光进／出口区（１１，１２）对齐，并朝向卷绕侧至少一个储纱筒表面区域（７）。沿储纱筒（Ｔ）的轴向看，在支架（９）上，纱线出口与光进／出口区（１１，１２）之间设置至少一个气流偏转件（１３，１３’），它超越所述的光进／出口区（１１，１２）之外。气流偏转件（１３，１３’）的任务是对纱线出口（５）中排出的含有杂质的气流（１４）进行导引，使之远离光进／出口区（１１，１２）。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种如权利要求1的前序部分所述的喂纱器。对于这样一种喂纱器(EP-A-0327973，图9所示)来说，在卷绕管旋转时，由于卷绕纱线相对于卷绕管的旋转运动，以及由于离心力的作用，有一股强劲的气流会穿越卷绕管的纱线出口。该气流中不可避免地会携带一些杂质及纱线成分，它们会沉积在该喂纱器上以及喂纱器的周围。在一个与储纱筒并排延伸的支架中设有若干个光电传感器。它们从探测区传送出有关纱线运动和/或纱线是否存在的信息，以便控制卷绕驱动，并用作进一步的控制参数。所述的光电传感器大部分是通过光反射来进行作业的。在该类(EP-A-0327973，图9)以及其他类的喂纱器中，在所述支架的一个传感器腔室内设有一个光电传感器，它与储纱筒的卷绕区相对齐，用来对最前方的纱线圈进行扫描，并且对纱线的断头进行探测并发出信号。当纱线卷绕管旋转时，所述光电传感器的光进/出口区域，例如一个窗口，会受到被杂质污染的气流的撞击。这些污染杂质很容易沉积到所述的光进/出口区域，并影响其光扫描性能。即使将一些光电传感器设置在沿储纱筒轴线方向远离储纱筒的位置，并使之处于纱线出口的下游，仍然会使空气中的杂质产生沉积。为了保证光电传感器的操作可靠性，必须对其经常进行清洁，例如进行擦洗或用压缩空气进行清洗。本专利技术的任务是提供一种上述类型的喂纱器。其中光电传感器的操作可靠性得到保证，可以延续很长一段作业时间，或者说各清洗周期之间的时间间隔被大大延长了。上述任务是通过权利要求1所述的技术特征得以实现的。从纱线出口中吹出的气流受到气流偏转件的阻挡，将不会使其中的杂质进入光进/出口区，从而使后者可以不受该杂质的侵害，使用相当长的一段时间之后才需对之进行清洗。吹出的杂质要么无污染地穿过光进/出口区，要么被收集在气流偏转件的一侧，它们远离光进/出口区，对该区域不造成损害，经过一段不确定的时间之后，可以靠气流本身将其清除掉。可以将构成所述光进/出口区的窗口开在所述气流偏转件的下风处，这样，杂质的沉积就可以被有效地防止。因为在多数情况下喂纱器在安装时其支架都位于上部，受重力作用，穿过气流偏转件的杂质将会自动地从其下风侧除去，或者在重力作用下被送入从所述的光进/出口区移动了一段距离的气流中，然后被除去。为了防止所述气流偏转件外侧的一些污染物对光进/出口区造成污染，最好将气流偏转件设计得比光进/出口区更长一些。从简化结构出发，该气流偏转件可设置在一个传感器腔室的下侧，它最好与该下侧成整体结构，该下侧还可以包含有窗口形式的光进/出口区。在一种简单的结构形式中，采用一种气流偏转件即可完成上述任务，该偏转件为一块平直板，它相对于储纱筒的轴线大致沿径向延伸。也可以将所述的气流偏转件倾斜设置，使之与气流流动的方向相反或相一致，或者/和使用一种截面呈锯齿形的或曲线形的气流偏转件。当气流偏转件的形状呈V形或C形时，维持光进/出口区清洁的功能被进一步提高了。气流偏转件的高度应当大致相当于光进/出口区的宽度。该气流偏转件与光进/出口区之间的距离可以小于该气流偏转件的高度。当气流偏转件的自由端构成气流分离边(FLOWBREAK OFF EDGE)时，气流将迅速离开该气流偏转件，从而使杂质不会沉积到光进/出口区。为了对已经使用的喂纱器安装这种气流偏转件，该偏转件可以是一种塑料或金属成形部件，通过粘接、焊接、螺接或铆接等方式将其连接到传感器腔室上。下面结合附图对本专利技术的实施例进行说明。附图说明图1是一喂纱器的局部剖开示意图，在光进/出口区的上游设有一个气流偏转件。图2是图1中一传感器腔室从下方观看的透视图。图3A～3H是气流偏转件不同结构形式的剖面及平面图。在图1中，喂纱器R具有一个静止的腔室1，其内装有一台驱动马达M，还支承着一个储纱筒T。所述的喂纱器可以被用作供织机(未示出)用的储纬及喂送装置。所述的储纱筒T由一根主驱动轴2(用其轴线表示)作旋转支承，并且以一种传统的方式由一种未表示出的装置，例如磁铁来阻止它随驱动轴2的一起旋转。一卷绕管3固定在所述驱动轴2上。所述的卷绕管3从主轴2的轴线斜着向外伸出，其自由端置有一个孔眼，形成一个纱线出口5。纱线Y从图1中的左侧插入空心的主驱动轴2中，穿过卷绕管3向外延伸，并经由纱线出口5而被送出。然后朝着储纱筒T的表面偏移，并停靠在线圈6的表面上。由上述线圈6形成的纱线供应源，可以根据需要供未示出的纺织机器进行使用。与储纱筒T并排并在其外侧延伸的支架9与腔室1相连接。在该支架中，各部件之间设有一个传感器腔室10，其中包含若干个光电传感器S和S2，它们位于支架9的下侧，对着储纱筒T的表面。在储纱筒T的一个卷绕区7，例如锥形区内设有一个偏转涂层8，光电传感器S从外部朝向该涂层，以便对第一圈卷绕纱线或线圈的出现或者纱线Y是否从纱线出口5正确运行到所述的线圈6中去进行监视。该传感器S(也包括传感器S2)被放置在传感器腔室10内，具体说，设置在窗口形的光进/出口区11或12的后方。所述的光进/出口区11或12位于传感器腔室10的下侧。在喂纱器R的操作过程中，随着纱线卷绕管3的旋转，将产生一股强劲的气流14，气流中携带着纱线中的杂质、渗透的颗粒等等。所述的气流14吹向传感器腔室10的下侧，同时也作用于所述的光进/出口区域11，并将一些杂质沉积于此。为了防止这种沉积，设置了一个气流偏转件13，该气流偏转件13在储纱筒T轴线方向上位于纱线出口5与所述的光进/出口区11之间，并朝着所述储纱筒的方向凸出所述的光进/出口区11。该气流偏转件13可以与传感器腔室10的下侧构成为一体。也可以单独将该气流偏转件13制成一成形件，然后将其固定到传感器腔室10的下侧。设计和安置该气流偏转件13时应确保光进/出口区11位于气流14的下风处，从而使气流14被干扰，形成涡流或者说在气流偏转件13处产生转向，使之不能直接作用于所述的光进/出口区域11。图2所示的是所述的气流偏转件13大致为一块径向延伸的板，其长度要大于光进/出口区11的宽度d(气流偏转件13的长度l基本上等于其高度h，并且与光进/出口区11的宽度d相适应)。沿轴向观察，气流偏转件13与光进/出口区11之间的距离最好小于气流偏转件13的高度h。在图1和2中指明，还可以在其下游处设置其他光进/出口区，例如12，用来安装其他传感器，例如S2，它们是由位于上游处的气流偏转件13’进行遮挡的。然而，最重要的是气流偏转件13要靠近位于纱线出口5附近的光进/出口区11，因为该区域最容易被污染。在多数情况下，有第一气流偏转件13就足够了，它还可以避免设置在更下游处的其他传感器窗口，例如12的污染。图3A-3H详细描述了气流偏转件13的其他变型，它们都是可供选用的设计方案。在图3A中，气流偏转件13是一块平直的基本上沿径向延伸的平板，它面对着气流14，这样便可使光进/出口区11位于气流偏转件13的下风处。在图3B中，如同图3C一样，其气流偏转件13的横截面为锯齿形，具有这种截面的气流偏转件13的倾斜侧面对着气流14。也可以使该壁板的径向侧背对着气流14的方向。在图3D中，气流偏转件13是倾斜对着所述气流14的方向。也可以使其倾斜于另一侧，使该气流偏转件13能盖在光进/出口区11的上方。在图3E中，其气流偏转件13被制本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种喂纱器，它包括一个静止设置在一个腔室处的储纱筒，一个旋转的卷绕管，该卷绕管带有一个向外的纱线出口，该卷绕管位于腔室与储纱筒之间，还有一个支架，它固定在腔室上，而且至少一个光电传感器被设置在支架上，它们穿过一个光进／出口区朝向线圈卷绕的储纱筒的至少一个表面区域，其特征在于：沿储纱筒（Ｔ）的轴向看，在支架（９）处，在纱线出口（５）与光进／出口区（１１，１２）之间，至少设置一个气流偏转件（１３，１３’），它超出所述的光进／出口区（１１，１２），以便对从纱线出口（５）中排出的带有杂质的气流（１４）进行引导，使之避开所述的光进／出口（１１，１２）。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：约阿希姆弗里松，
申请(专利权)人：IRO有限公司，
类型：发明
国别省市：SE[瑞典]
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