真空处理装置和质谱分析仪制造方法及图纸

能够充分抑制在使对象物在真空室内移动时产生释气。真空处理装置(100)包括：真空室(1)；载置台(2)，其配置在真空室(1)的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨(31)，其铺设在真空室(1)的内部，用于引导载置台(2)；贯通孔(103)，其形成于真空室(1)的侧壁(102)；连结棒(4)，其一端与载置台(2)连结，并且贯穿于贯通孔(103)，另一端配置在真空室(1)的外部；可动构件(5)，其连结于连结棒(4)的另一端；驱动机构(8)，其配置在真空室(1)的外部，用于使可动构件(5)移动；以及波纹管(6)，其配置在可动构件(5)与侧壁(102)之间，以保持真空室(1)的气密性的状态追随可动构件(5)的位移。

Vacuum treatment device and mass spectrometer

It can suppress the release of gas when the object moves in the vacuum chamber. The vacuum treatment device (100) includes: a vacuum chamber (1); a loading table (2) arranged inside a vacuum chamber (1) for an object as an object for processing; an internal guide (31), which is laid inside a vacuum chamber (1), used to guide the mounting table (2); a intersecting hole (103), formed in a side wall (102) of a vacuum chamber (1), and a connecting rod (4). It One end is connected to the loading table (2) and runs through the through hole (103), and the other end is arranged outside the vacuum chamber (1); the movable member (5) is connected to the other end of the connecting rod (4); the driving mechanism (8) is configured outside the vacuum chamber (1) for moving the movable member (5); and the bellows (6), disposed at the movable member (5) and in 5 and in the movable member (5). Between the side walls (102), the displacement of the movable member (5) is followed by keeping the tightness of the vacuum chamber (1).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空处理装置和质谱分析仪
本专利技术涉及一种使对象物在真空室内移动的技术。
技术介绍
在质谱分析仪中，在真空室内，向作为对象物的试样照射激光使其离子化，利用被施加高电压的引出极引出离子化物质并使其加速，根据基于离子的飞行时间求出的该离子的质荷比取得质谱。在这样的质谱分析仪中，存在这样的情况：在真空室内，使试样在水平面内移动并取得该试样内的各测量点的质谱信息，基于取得的质谱信息，进行将试样中的分子分布以图像的形态显示出来的处理(所谓的成像)。在该情况下，若根据测量点的不同而高度方向上的位置存在偏差，则处理的准确性会受损。这是因为，如果真空室内的试样的高度方向上的位置偏离预定位置，则离子飞行的起始点的位置会偏离预定位置，而无法准确地确定飞行时间(进而，无法准确地确定质荷比)。在像进行成像的质谱分析仪那样需要使对象物在真空室内的水平面内移动的情况下，大多采用这样的结构：在真空室的地面铺设引导用的轨道，在该轨道上配置用于保持对象物的载置台，将该载置台与用于驱动该载置台的驱动机构连结起来。在采用该结构时，保持有对象物的载置台在被铺设于地面的轨道引导的状态下移动，因此对象物的高度方向上的位置不易发生偏移。通常，为了保持真空室的气密性，将用于使真空室内的载置台移动的机构包括马达等驱动源在内全都收纳在真空室内。但是，在真空室内没有除导热以外的散热部件，因此，在真空室内，像马达那样发热的零件的温度会很快上升起来。因此，在例如专利文献1、2中公开了一种将用于驱动载置台的马达配置在真空室的外部的结构。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2011-2389号公报专利文献2：日本特开2012-219992号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在专利文献1、2中，马达配置在真空室的外部，并且自马达延伸的旋转轴部的端部经由形成于真空室的侧壁的贯通孔插入真空室内。并且，在旋转轴部的插入真空室内的端部连接有进给机构(在例如专利文献1的情况下，为用于将X马达的驱动力转换成载置台沿着X轴的直线运动的滚珠丝杠机构、以及用于将Y马达的驱动力转换成载置台沿着Y轴的直线运动的齿轮齿条机构)。利用该进给机构将马达的驱动力转换成配置在真空室的内部的载置台的直线运动。然而，在采用上述结构时，从配置在真空室内的进给机构所使用的树脂构件、润滑油产生释气(outgas)会成为问题。并且，在采用上述结构时，自马达延伸的旋转轴部贯穿于被形成于真空室的侧壁的贯通孔，为了保持真空室的气密性并且容许旋转轴部旋转，需要使贯通孔与旋转轴部之间贴紧并利用润滑油等润滑剂气密密封。该润滑剂也成为释气的产生源。在产生释气时，真空室的真空度会降低，因此必须进行用于使释气挥发的烘烤处理，而导致装置的处理能力和运行成本恶化。另外，这里对质谱分析仪进行了说明，但所有使对象物在真空室内移动来进行处理的真空处理装置都会产生上述问题。本专利技术要解决的问题在于提供一种能够充分抑制在使对象物在真空室内移动时产生释气的技术。用于解决问题的方案为了解决上述问题而做成的本专利技术的真空处理装置包括：真空室；载置台，其配置在所述真空室的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨，其铺设在所述真空室的内部，用于引导所述载置台；贯通孔，其形成于所述真空室的侧壁；连结棒，其一端与所述载置台连结，并且贯穿于所述贯通孔，另一端配置在所述真空室的外部；可动构件，其连结于所述连结棒的所述另一端；驱动机构，其配置在所述真空室的外部，用于使所述可动构件移动；以及波纹管，其配置在所述可动构件与所述侧壁之间，以保持所述真空室的气密性的状态追随所述可动构件的位移。在真空室的外部配置可动构件，该可动构件和配置在真空室的内部的载置台利用连结棒连结，该连结棒贯穿于被形成于真空室的侧壁的贯通孔。当利用配置在真空室的外部的驱动机构驱动可动构件使其在真空室的外部移动时，在真空室内，载置台一边被内部导轨引导一边追随可动构件的移动而进行移动。采用该结构，驱动机构(例如马达等驱动源以及用于将驱动源的驱动力转换成直线运动等的进给机构)配置在真空室的外部，因此来自进给机构所使用的树脂构件、润滑油的释气不会成为问题。另外，在真空室的侧壁形成有供连结棒贯穿的贯通孔，但在可动构件与侧壁之间设有波纹管(即，在真空室的外侧，连结棒的周围被波纹管包围)，因此不需要采用使连结棒与贯通孔之间贴紧并利用润滑油等气密密封的结构。因此，来自润滑油等润滑剂的释气也不会成为问题。因而，能够充分抑制在真空室内产生释气。优选的是，所述真空处理装置还包括：外部导轨，其铺设在所述真空室的外部，用于引导所述可动构件；以及共用基台，其横跨所述真空室的内部和外部地延伸，在上表面设置有所述内部导轨和所述外部导轨。在该技术方案中，用于在真空室的内部引导载置台的内部导轨和用于在真空室的外部引导可动构件的外部导轨设置在共用的基台上。因而，能够高精度地调整内部导轨和外部导轨之间的相互位置关系。优选的是，在所述真空处理装置中，所述内部导轨包括：第1内部导轨，其沿着与所述连结棒的延伸方向平行的第1方向铺设；以及第2内部导轨，其沿着与所述第1方向交叉的第2方向铺设，所述驱动机构包括：第1驱动机构，其用于使所述可动构件沿着所述第1方向移动；以及第2驱动机构，其用于使所述可动构件沿着所述第2方向移动，所述贯通孔的沿着所述第2方向的宽度大于所述连结棒的沿着所述第2方向的移动范围。在该技术方案中，能够使载置台沿着第1方向和与第1方向交叉的第2方向移动。另外，本专利技术也能够应用于质谱分析仪。本专利技术的质谱分析仪包括：真空室；载置台，其配置在所述真空室的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨，其铺设在所述真空室的内部，用于引导所述载置台；贯通孔，其形成于所述真空室的侧壁；连结棒，其一端与所述载置台连结，并且贯穿于所述贯通孔，另一端配置在所述真空室的外部；可动构件，其连结于所述连结棒的所述另一端；驱动机构，其配置在所述真空室的外部，用于使所述可动构件移动；以及波纹管，其配置在所述可动构件与所述侧壁之间，以保持所述真空室的气密性的状态追随所述可动构件的位移。专利技术的效果在本专利技术的真空处理装置中，在真空室的外部配置可动构件，利用配置在真空室的外部的驱动机构驱动该可动构件使其在真空室的外部移动。在真空室内，借助连结棒与可动构件连结的载置台在被内部导轨引导的状态下追随可动构件的移动而进行移动。采用该结构，驱动机构配置在真空室的外部，因此能够充分抑制在真空室内产生释气。附图说明图1是表示质谱分析仪的一部分的纵剖视图。图2是表示质谱分析仪的一部分的纵剖视图。图3是从图2中的箭头A方向观察质谱分析仪而得到的剖视图。具体实施方式以下，边参照附图边说明本专利技术的优选的实施方式。＜1.实施方式的真空处理装置100＞边参照图1、图2边说明实施方式的质谱分析仪100。图1、图2是表示质谱分析仪100的一部分的侧剖视图。质谱分析仪100是在真空下向对象物(具体而言，要分析的试样)照射激光使其离子化并根据质荷比分离、检测飞行离子的装置。其中，在质谱分析仪100中作为分析对象的试样被预先载置在试样板9上。试样板9具体而言是板状的构件，其上表面形成有多个凹部。通过向该多个凹部中的各凹部滴下试样，而在试样板9上保持试样。质谱分析仪100包括真空室1。真本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空处理装置，其中，该真空处理装置包括：真空室；载置台，其配置在所述真空室的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨，其铺设在所述真空室的内部，用于引导所述载置台；贯通孔，其形成于所述真空室的侧壁；连结棒，其一端与所述载置台连结，并且贯穿于所述贯通孔，另一端配置在所述真空室的外部；可动构件，其连结于所述连结棒的所述另一端；驱动机构，其配置在所述真空室的外部，用于使所述可动构件移动；以及波纹管，其配置在所述可动构件与所述侧壁之间，以保持所述真空室的气密性的状态追随所述可动构件的位移。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空处理装置，其中，该真空处理装置包括：真空室；载置台，其配置在所述真空室的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨，其铺设在所述真空室的内部，用于引导所述载置台；贯通孔，其形成于所述真空室的侧壁；连结棒，其一端与所述载置台连结，并且贯穿于所述贯通孔，另一端配置在所述真空室的外部；可动构件，其连结于所述连结棒的所述另一端；驱动机构，其配置在所述真空室的外部，用于使所述可动构件移动；以及波纹管，其配置在所述可动构件与所述侧壁之间，以保持所述真空室的气密性的状态追随所述可动构件的位移。2.根据权利要求1所述的真空处理装置，其中，该真空处理装置还包括：外部导轨，其铺设在所述真空室的外部，用于引导所述可动构件；以及共用基台，其横跨所述真空室的内部和外部地延伸，在上表面设置有所述内部导轨和所述外部导轨。3.根据权利要求1或2所述的真空处理装置，其中，所述内部导轨包括：第1内部导轨，其沿着与所述连结棒的延伸方向平行的第1方向铺设；以及第2内部导轨，其沿着与所述第1方向交叉的第2方向铺设，所述驱动机构包括：第1驱动机构，其用于使所述可动构件沿着所述第1方向移动；以及第2驱动机构，其用于使所述可动构件沿着所述第2方向移动，所述贯通孔的沿着所述第2方向的宽度大于所述连结棒的沿着所述第2方向的移动...

【专利技术属性】
技术研发人员：松下知義，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP