一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法技术

本发明专利技术属于高硼硅玻璃生产技术领域，具体涉及一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，包括原料配比和高硼硅玻璃成型。本发明专利技术相比现有技术具有以下优点：本发明专利技术中通过将氟硼酸铵、氯化钯、草酸钛钾配合使用，能够有助于卤蒸汽从玻璃液中扩散的残留的气泡中，使之膨胀上升并逸出，起到澄清玻璃液和均化的作用，相比现有技术降低了熔制温度，有效减少硼挥发，同时减少玻璃液中微泡含量，有助于提高玻璃的光学性质，提高其透光率，同时能够避免玻璃液中成分对耐火材料的腐蚀，延长窑炉的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法
本专利技术属于高硼硅玻璃生产
，具体涉及一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法。
技术介绍
高硼硅玻璃是指氧化硼含量超过10wt%的硅酸盐系统玻璃，该类玻璃具有优异的可见光透过率，低膨胀系数、良好的化学稳定性和耐热性特点，在航空、一起、照明及防火领域应用广泛，在高硼硅玻璃中耐热硼硅玻璃玻璃膨胀系数高，主要应用于仪器玻璃、器皿玻璃等非平板领域，在平板领域生产技术难度大，我国还没有成熟的生产线，主要表现为熔点高、粘度大、融化过程中硼挥发严重、气泡和条纹难以满足光学质量要求，因此，需要对其制备方法进行研究。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有的问题，提供了一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的：一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅68-72份、氧化硼12.5-13.5份、硝酸铝2.8-3.4份、氯化钠0.8-1.6份、氧化锑3.5-3.8份、氧化铁1.4-2.2份、氧化钙0.1-0.3份、氟硼酸铵0.5-0.8份、氯化钯0.2-0.6份、草酸钛钾0.1-0.3份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构100-120℃，控制窑底温度950-1050℃，按照所需规格成型。作为对上述方案的进一步改进，所述二氧化硅由石英砂、砂岩、石英岩和脉石研中的一种或多种提供。作为对上述方案的进一步改进，所述高硼硅玻璃制备成型后用温度为60-80℃的氮气进行降温。作为对上述方案的进一步改进，所述高硼硅玻璃制备成型，用温度为60-80℃的氮气降温至300-400℃后，保温2-3小时后自然冷却至室温。作为对上述方案的进一步改进，所述混合料在全电熔窑炉中熔制时，玻璃液的电阻值为0.22-0.24Ω。本专利技术相比现有技术具有以下优点：本专利技术中通过将氟硼酸铵、氯化钯、草酸钛钾配合使用，能够有助于卤蒸汽从玻璃液中扩散的残留的气泡中，使之膨胀上升并逸出，起到澄清玻璃液和均化的作用，相比现有技术降低了熔制温度，有效减少硼挥发，同时减少玻璃液中微泡含量，有助于提高玻璃的光学性质，提高其透光率，同时能够避免玻璃液中成分对耐火材料的腐蚀，延长窑炉的使用寿命。具体实施方式实施例1一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅70份、氧化硼13份、硝酸铝3份、氯化钠1.2份、氧化锑3.6份、氧化铁1.8份、氧化钙0.2份、氟硼酸铵0.6份、氯化钯0.4份、草酸钛钾0.2份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构110℃，控制窑底温度1000℃，按照所需规格成型。其中，所述二氧化硅由石英砂、砂岩、石英岩和脉石研中的一种或多种提供；所述高硼硅玻璃制备成型后用温度为70℃的氮气进行降温；所述高硼硅玻璃制备成型，用温度为70℃的氮气降温至350℃后，保温2.5小时后自然冷却至室温；所述混合料在全电熔窑炉中熔制时，玻璃液的电阻值为0.23Ω。经检测，对耐火材料的侵蚀量小于1%，厚度为8mm的高硼硅平板玻璃抗冲击等级达到GB15763.2-2005所要求的标准，可见光透过率（380-780nm）达到98%。实施例2一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅68份、氧化硼13.5份、硝酸铝2.8份、氯化钠1.6份、氧化锑3.5份、氧化铁1.4份、氧化钙0.1份、氟硼酸铵0.8份、氯化钯0.2份、草酸钛钾0.3份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构100℃，控制窑底温度1050℃，按照所需规格成型。其中，所述二氧化硅由石英砂、砂岩、石英岩和脉石研中的一种或多种提供；所述高硼硅玻璃制备成型后用温度为60℃的氮气进行降温；所述高硼硅玻璃制备成型，用温度为80℃的氮气降温至300℃后，保温3小时后自然冷却至室温；所述混合料在全电熔窑炉中熔制时，玻璃液的电阻值为0.22Ω。经检测，对耐火材料的侵蚀量小于1%，厚度为8mm的高硼硅平板玻璃抗冲击等级达到GB15763.2-2005所要求的标准，可见光透过率（380-780nm）达到98%。实施例3一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅72份、氧化硼12.5份、硝酸铝3.4份、氯化钠0.8份、氧化锑3.8份、氧化铁2.2份、氧化钙0.3份、氟硼酸铵0.5份、氯化钯0.6份、草酸钛钾0.1份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构120℃，控制窑底温度950℃，按照所需规格成型。其中，所述二氧化硅由石英砂、砂岩、石英岩和脉石研中的一种或多种提供；所述高硼硅玻璃制备成型后用温度为80℃的氮气进行降温；所述高硼硅玻璃制备成型，用温度为60℃的氮气降温至400℃后，保温2小时后自然冷却至室温；所述混合料在全电熔窑炉中熔制时，玻璃液的电阻值为0.24Ω。经检测，对耐火材料的侵蚀量小于1%，厚度为8mm的高硼硅平板玻璃抗冲击等级达到GB15763.2-2005所要求的标准，可见光透过率（380-780nm）达到98%。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅68‑72份、氧化硼12.5‑13.5份、硝酸铝2.8‑3.4份、氯化钠0.8‑1.6份、氧化锑3.5‑3.8份、氧化铁1.4‑2.2份、氧化钙0.1‑0.3份、氟硼酸铵0.5‑0.8份、氯化钯0.2‑0.6份、草酸钛钾0.1‑0.3份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构100‑120℃，控制窑底温度950‑1050℃，按照所需规格成型。

【技术特征摘要】
1.一种提高耐热高硼硅玻璃透光率的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）原料配比，按重量计，二氧化硅68-72份、氧化硼12.5-13.5份、硝酸铝2.8-3.4份、氯化钠0.8-1.6份、氧化锑3.5-3.8份、氧化铁1.4-2.2份、氧化钙0.1-0.3份、氟硼酸铵0.5-0.8份、氯化钯0.2-0.6份、草酸钛钾0.1-0.3份；（2）将上述原料混合均匀，使其均匀度不小于98.5%，然后将混合料送入全电熔窑炉中熔制、澄清，采用冷顶结构100-120℃，控制窑底温度950-1050℃，按照所需规格成型。2.如权利要求1所述一种提高耐热高硼...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔业全，
申请(专利权)人：安徽杜氏高科玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34