掩模板组件及其制备方法技术

本公开的实施例提供了一种掩模板组件及其制备方法。该掩模板组件包括：第一掩模板，所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；第二掩模板，所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形，其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上。

Mask module and its preparation method

The embodiment of the disclosure provides a mask assembly and a preparation method thereof. The mask assembly includes a first mask, which includes a figure corresponding to a pixel pattern in an effective display area of at least one display panel; a second mask, which includes a figure corresponding to an outer circumference pattern of an effective display area of the at least one display panel. The two mask is set on the first mask.

【技术实现步骤摘要】
掩模板组件及其制备方法
本公开涉及显示
，尤其涉及一种蒸镀用的掩模板组件及其制备方法。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)为一种自发光的显示器件。为了提高色域、对比度及亮度效率，往往采用独立的红绿蓝(RGB)发光层实现OLED彩色显示。独立的RGB发光层采用蒸镀工艺来实施，并且在蒸镀过程中需要使用精密金属掩模板(Finemetalmask，FMM)。随着异形显示器件在市场上不断推出，期望能够使用精密金属掩模板来制造异形显示器件。然而，当需要在异形显示器件的显示面板的边缘上制造出倒圆角或不规则形状时，难以通过精密金属掩模板直接制造出所希望的异形显示器件。
技术实现思路
鉴于上述，本公开的目的是提供至少部分地克服或减轻上述的技术不足的掩模板组件及其制备方法。根据本公开的一个方面，提供了一种掩模板组件，包括：第一掩模板，所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；第二掩模板，所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形，其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上。在一个实施例中，所述第二掩模板的材料的热膨胀系数为第一掩模板的材料的热膨胀系数的0.9至1.1倍。在一个实施例中，所述显示面板的外围图案为规则图案或带有倒圆角的图案。在一些其它实施例中，所述显示面板的外围图案还可以是其他异形图案。在一个实施例中，所述第二掩模板是用于形成至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形的掩模并且由聚酰亚胺材料制成。在一个实施例中，所述第一掩模板是精密金属掩模板并且由因瓦合金材料制成。在一个实施例中，所述第二掩模板为单独的掩模或通过涂覆方式和光刻工艺形成在第一掩模板上的第二掩模板。在一个实施例中，所述第二掩模板的厚度在5微米至10微米的范围内。在一个实施例中，所述第二掩模板的图形位于所述第一掩模板的像素掩模区域中。根据本公开的另一方面，提供了一种制造掩模板组件的方法，包括：提供所述用于蒸镀的第一掩模板，其中所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；将第二掩模板设置在所述第一掩模板的像素掩模区域之上，其中所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形。在一个实施例中，所述第二掩模板的材料的热膨胀系数为第一掩模板的材料的热膨胀系数的0.9至1.1倍。在一个实施例中，在所述第二掩模板由聚酰亚胺制成时，所述将第二掩模板设置在所述第一掩模板的像素掩模区域中的步骤包括：将聚酰亚胺涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成聚酰亚胺层；对所述聚酰亚胺层进行光刻工艺以形成所述第二掩模板。在一个实施例中，所述显示面板的外围图案为规则图案或带有倒圆角的图案。在一些其它实施例中，所述显示面板的外围图案还可以是其他异形图案。在一个实施例中，所述第一掩模板是精密金属掩模板并且由因瓦合金材料制成。在一个实施例中，所述第二掩模板的厚度在5微米至10微米的范围内。在一个实施例中，中在需要更换所述第二掩模板时，所述方法还包括：剥离已经设置在所述第一掩模板上的第二掩模板；将聚酰亚胺再次涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成另一聚酰亚胺层；计算对所述掩模板组件中的第一掩模板的应力补偿；根据所述计算的应力补偿的结果，对所述另一聚酰亚胺层重新进行光刻工艺以调整最终形成的第二掩模板的厚度。在一个实施例中，在需要更改显示面板的外围图案时，所述方法还包括：剥离已经设置在所述第一掩模板上的第二掩模板；将聚酰亚胺再次涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成另一聚酰亚胺层；对所述另一聚酰亚胺层重新进行不同于所述光刻工艺的另一光刻工艺，以形成不同于所述至少一个显示面板的外围图案的另一外围图案。在一个实施例中，所述第二掩模板为单独的用于形成至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形的掩模。附图说明为了更清楚地说明本公开文本的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图进行简要说明，应当知道，以下描述的附图仅仅涉及本公开文本的一些实施例，而非对本公开文本的限制，其中：图1A示出相关技术中蒸镀过程中使用的掩模板组件的结构示意图；图1B示出相关技术中蒸镀过程中使用的另一掩模板组件的结构示意图；图2是根据本公开的实施例的掩模板组件的结构的横截面示意图；图3A示出根据本公开的实施例的第一掩模板的面向来自蒸镀装置的蒸镀物质的第一面的结构的示意图；图3B示出根据本公开的实施例的图3A显示的第一掩模板的面向玻璃基板的第二面的结构的示意图；图4A示出根据本公开的实施例的图1A显示的第一掩模板与第二掩模板组装在一起时从所述第一面一侧观看时的结构的示意图；图4B示出根据本公开的实施例的图4A显示的组装在一起的第一掩模板与第二掩模板从所述第二面一侧观看时的结构的示意图；以及图5A-5E分别示出了根据本公开的实施例的用于蒸镀的掩模板组件的制备流程图。具体实施方式为更清楚地阐述本公开的目的、技术方案及优点，以下将结合附图对本公开的实施例进行详细的说明。应当理解，下文对于实施例的描述旨在对本公开的总体构思进行解释和说明，而不应当理解为是对本公开的限制。在说明书和附图中，相同或相似的附图标记指代相同或相似的部件或构件。为了清晰起见，附图不一定按比例绘制，并且附图中可能省略了一些公知部件和结构。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。措词“一”或“一个”不排除多个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”“顶”或“底”等等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。当诸如层、膜、区域或衬底基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。在显示
，尤其是有机发光二极管显示器制造领域中，通常采用下述两种方法通过精密金属掩模板来制造出异形显示器件。如图1A所示，显示出相关技术中蒸镀过程中使用的掩模板组件300的结构示意图。该掩模板组件300包括边框11、固定在边框11上的蒸镀用的精密金属掩模板10’以及设置在该精密金属掩膜板10’上的支撑条掩模(howlingmask)310和遮蔽掩模(covermask)320。在蒸镀过程中，该边框11直接设置在蒸镀源或蒸镀装置的上方而玻璃基板则放置在支撑条掩模310和遮蔽掩模320的上方。具体地，该支撑条掩模310和遮蔽掩模320交叉设置，即彼此垂直设置。图1A中示出了三个支撑条掩模310和三个遮蔽掩模320彼此垂直设置的示例，其中支撑条掩模310和遮蔽掩模320都具有规则的形状，例如图示的长方形。具体地，该精密金属掩模板10’包括像素掩模区域12和位于对应于异形或不规则的显示面板边缘的位置处的不蚀刻或者半蚀刻的遮挡结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模板组件，包括：第一掩模板，所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；第二掩模板，所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形，其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板组件，包括：第一掩模板，所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；第二掩模板，所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形，其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上。2.根据权利要求1所述的掩模板组件，其中所述第二掩模板第二掩模板的材料的热膨胀系数为第一掩模板的材料的热膨胀系数的0.9至1.1倍。3.根据权利要求1所述的掩模板组件，其中所述显示面板的外围图案为规则图案或带有倒圆角的图案。4.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板组件，其中所述第二掩模板是用于形成至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形的掩模并且由聚酰亚胺材料制成。5.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板组件，其中所述第一掩模板是精密金属掩模板并且由因瓦合金材料制成。6.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板组件，其中所述第二掩模板为单独的掩模或通过涂覆方式和光刻工艺形成在第一掩模板上的掩模。7.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板组件，其中所述第二掩模板的厚度在5微米至10微米的范围内。8.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板组件，其中所述第二掩模板的图形位于所述第一掩模板的像素掩模区域中。9.一种制造掩模板组件的方法，包括：提供所述第一掩模板，其中所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形；将第二掩模板设置在所述第一掩模板的像素掩模区域中，其中所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第二掩模板的材料的热膨胀系数为第...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭远征，肖志慧，王菲菲，田宏伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11