The invention discloses a substrate detection device and a method, belonging to the display technology field. The base plate detection device includes the base platform and the birefringence structure, and the base platform includes the light source and the bearing platform. The bearing platform is used to place the base plate to be detected. The light source is used to detect the substrate from the side of the bearing platform. The birefringence structure is located at the side of the base plate far away from the bearing platform, and the light source and the bearing table are located in double. The same side of the refraction structure. The invention increases the phase difference of light through the birefringent structure layer, so that some light with smaller phase difference can also interfere, and the brightness difference between the different regions of the double refraction structure is increased, so the inhomogeneity on the substrate is easier to show. The problem of Mura phenomenon on the substrate to be detected is difficult to observe, which makes the possibility of missing detection larger. The effect of avoiding leak detection has been achieved.
【技术实现步骤摘要】
基板检测装置和方法
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种基板检测装置和方法。
技术介绍
各种显示器如液晶显示器(英文:LiquidCrystalDisplay;简称:LCD)和有机发光二极管(英文:OrganicLight-EmittingDiode;简称:OLED)显示器均包括用于进行显示控制的各种基板(如阵列基板)。在将基板与显示器中的其他结构对盒前,会对基板进行检测。相关技术中的一种基板检测装置包括照明组件和基台,该基台用于放置待检测基板,照明组件用于从待检测基板的一侧照射待检测基板,检测人员可以从待检测基板的另一侧观察待检测基板,若待检测基板上存在一些不均匀的区域,例如具有微小的段差和坡度角的区域,则待检测基板可能由于这些不均匀的区域发生干涉等现象,使得透过待检测基板不同区域的光线的亮度不均匀,检测人员可以将出现亮度不均匀现象(该现象可以称为Mura现象)的待检测基板确定为不合格的基板。在实现本专利技术的过程中,专利技术人发现相关技术至少存在以下问题:一些待检测基板上的Mura现象较难观察到,使得发生漏检的可能性较大。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种基板检测装置和方法,能够解决相关技术中一些待检测基板上的Mura现象较难观察到,使得发生漏检的可能性较大的问题。所述技术方案如下:根据本专利技术的第一方面,提供了一种基板检测装置,所述基板检测装置包括:基台和双折射结构;所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板;所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧 ...
【技术保护点】
1.一种基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置包括:基台和双折射结构;所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板;所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧,且所述光源与所述承载台位于所述双折射结构的同一侧。
【技术特征摘要】
1.一种基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置包括:基台和双折射结构;所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检测基板靠近所述承载台的一侧照射所述待检测基板;所述双折射结构位于所述待检测基板远离所述承载台的一侧,且所述光源与所述承载台位于所述双折射结构的同一侧。2.根据权利要求1所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构包括液晶层和设置在所述液晶层外部的电场组件,所述电场组件用于控制所述液晶层的双折射率。3.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括温度调节组件,所述温度调节组件用于调节所述液晶层的温度。4.根据权利要求3所述的基板检测装置,其特征在于,所述温度调节组件包括透明的石墨烯加热膜,所述石墨烯加热膜贴覆在所述液晶层上。5.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括设置在所述液晶层远离所述承载台一侧的彩膜层。6.根据权利要求2所述的基板检测装置,其特征在于,所述双折射结构还包括设置在所述液晶层远离所述承载台一侧的第一偏光片,所述承载台上设置有第二偏光片,所述光源用于透过所述第二偏光片照射所述待检测基板,所述第一偏光片和所述第二偏光片用于配合所述液晶层以调整所述双折射结构的透过率。7.根据权利要求6所述的基板检测装置,其特征在于,所述光源为面光源,所述面光源设置在所述承载台上;所述第二偏光片设置在所述面光源的出光侧。8.根据权利要求1至7任一所述的基板检测装置,其特征在于,所述基板检测装置还包括图像采集组件,所述图像采集组件设置在所述双折射结构远离所述基台的一侧。9.一种基板检测方法,其特征在于,用于基板检测装置,所述基板检测装置包括基台和双折射结构,所述基台包括光源和承载台,所述承载台用于放置待检测基板,所述光源用于从所述待检...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵婷婷,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。