显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板的制作方法，包括在像素界定层限定出的亚像素区域内打印有机溶液制备功能膜层的步骤，所述步骤包括：在所述亚像素区域内打印有机溶液；对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率。本发明专利技术的技术方案能够在亚像素区域内形成膜厚均匀的功能膜层，避免咖啡环效应的出现。

Display substrate and its making method and display device

The invention provides a display substrate, a manufacturing method and a display device thereof, and belongs to the display technology field. The fabrication method of the display substrate includes the steps of printing an organic solution layer in a sub-pixel region defined by the pixel definition layer, including: printing organic solution in the subpixel region, heating the organic solution, and controlling the sub pixel area during heating and drying. The evaporation rate of the solvent in the edge portion of the domain is less than that of the solvent in the middle part of the sub-pixel region. The technical proposal of the invention can form a film thickness uniform functional film layer in the sub-pixel area so as to avoid the appearance of the coffee ring effect.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
目前的大尺寸OLED(有机电致发光二极管)显示产品生产采用真空热蒸镀的方式，这种方式的材料利用率低、良率提升困难，导致OLED显示产品的价格居高不下。为提高材料利用率、降低成本，目前正在开发用喷墨打印的方式来生产OLED显示产品。采用喷墨打印的方式来生产OLED显示产品是在亚像素区域内打印有机溶液，经干燥后形成功能膜层。在目前的生产中，亚像素区域内的有机溶液由于蒸发速率的不同而引起的亚像素区域周边和中间部位的功能膜层的厚度不同，引起咖啡环效应，是喷墨打印OLED的技术难题。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够在亚像素区域内形成膜厚均匀的功能膜层，避免咖啡环效应的出现。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种显示基板的制作方法，包括在像素界定层限定出的亚像素区域内打印有机溶液制备功能膜层的步骤，所述步骤包括：在所述亚像素区域内打印有机溶液；对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率。进一步地，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：对所述有机溶液照射红外线进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的透光结构和对应所述亚像素区域边缘部分的部分透光结构。进一步地，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：对所述有机溶液照射紫外线进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的透光结构和对应所述亚像素区域边缘部分的部分透光结构。进一步地，所述掩膜板包括：透光基底和位于所述透光基底上的部分透光图形，未覆盖所述部分透光图形的透光基底形成所述透光结构，覆盖所述部分透光图形的透光基底及其上的部分透光图形形成所述部分透光结构；或包括有镂空区域的部分透光基底，所述部分透光基底的镂空区域形成所述透光结构，所述部分透光基底除所述镂空区域之外的其他区域形成所述部分透光结构。进一步地，所述部分透光结构的透光率为25％-70％。进一步地，从靠近所述亚像素区域中间部分到远离所述亚像素区域中间部分的方向上，所述部分透光结构的透光率逐渐下降。进一步地，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：利用微波对所述有机溶液进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的镂空结构和对应所述亚像素区域边缘部分的微波阻挡结构。本专利技术实施例还提供了一种显示基板，采用如上所述的制作方法制作得到，所述显示基板的每一亚像素区域内，亚像素区域边缘部分的功能膜层的厚度与亚像素区域中间部分功能膜层的厚度的差值小于阈值。进一步地，亚像素区域边缘部分的功能膜层的厚度等于亚像素区域中间部分功能膜层的厚度。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，在亚像素区域内打印有机溶液后，对有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率，从而达到让整个亚像素区域的有机溶液干燥均匀的目的，避免咖啡环效应的出现，减小亚像素区域内功能膜层出现中间薄边缘厚现象的几率，提高功能膜层厚度的均一性，保证功能膜层的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证有机溶液的材料利用率。附图说明图1为现有技术通过喷墨打印技术在亚像素区域内制作功能膜层的示意图；图2和图4为本专利技术实施例通过喷墨打印技术在亚像素区域内制作功能膜层的示意图；图3为本专利技术实施例制作的功能膜层的示意图。附图标记1红外光2掩膜板3透光结构4部分透光结构5阵列基板6像素界定层7有机溶液8功能膜层具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。在喷墨打印工艺中液滴的形成包括液滴下落、铺展、干燥的过程，液滴下落之后，液滴边缘的蒸汽压较小，导致液滴边缘溶剂蒸发速率较快，最终溶质不断在接触线处沉积形成亚像素区域周边部位的功能膜层的厚度较大，亚像素区域中间部位的功能膜层的厚度较小的现象，如图1所示，这种现象称为咖啡环效应。咖啡环效应会使得功能膜层的平坦性难以保证，造成显示器件点亮亮度不均，以及材料的利用效率大大下降的问题。为了解决上述问题，本专利技术实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够在亚像素区域内形成膜厚均匀的功能膜层，避免咖啡环效应的出现。本专利技术实施例提供一种显示基板的制作方法，包括在像素界定层限定出的亚像素区域内打印有机溶液制备功能膜层的步骤，所述步骤包括：在所述亚像素区域内打印有机溶液；对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率。本实施例中，在亚像素区域内打印有机溶液后，对有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率，从而达到让整个亚像素区域的有机溶液干燥均匀的目的，避免咖啡环效应的出现，减小亚像素区域内功能膜层出现中间薄边缘厚现象的几率，提高功能膜层厚度的均一性，保证功能膜层的平坦性，进而提高了显示装置的亮度均匀性并保证有机溶液的材料利用率。其中，对所述有机溶液进行加热烘干的加热方式包括但不限于对所述有机溶液照射红外线进行加热烘干，对所述有机溶液照射紫外线进行加热烘干，对所述有机溶液进行微波加热烘干等等。对有机溶液进行加热烘干能够提高有机溶液中溶剂的蒸发速率，提高显示基板的生产效率；并且与有机溶液自然干燥相比，对所述有机溶液进行加热烘干的过程中能够对有机溶液中溶剂的蒸发速率进行控制。一具体实施例中，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：对所述有机溶液照射红外线进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的透光结构和对应所述亚像素区域边缘部分的部分透光结构。如图2所示，在通过喷墨打印工艺在像素界定层6限定出的亚像素区域内打印有机溶液7之后，对有机溶液7照射红外线1进行加热烘干，同时利用掩膜板2遮挡亚像素区域内的有机溶液7，其中5为阵列基板，可以看出，掩膜板2不同区域的透光率并不一致，掩膜板2包括有透光结构3和部分透光结构4，其中透光结构3的透光率大于部分透光结构4的透光率，透光结构3对应于亚像素区域的中间部分，部分透光结构4对应于亚像素区域的边缘部分，这样在对有机溶液7照射红外线1时，亚像素区域的边缘部分接收到的红外线1的强度要弱于亚像素区域的中间部分接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括在像素界定层限定出的亚像素区域内打印有机溶液制备功能膜层的步骤，所述步骤包括：在所述亚像素区域内打印有机溶液；对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括在像素界定层限定出的亚像素区域内打印有机溶液制备功能膜层的步骤，所述步骤包括：在所述亚像素区域内打印有机溶液；对所述有机溶液进行加热烘干，并在加热烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：对所述有机溶液照射红外线进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的透光结构和对应所述亚像素区域边缘部分的部分透光结构。3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述对所述有机溶液进行加热烘干，并在烘干时控制所述亚像素区域边缘部分的溶剂的蒸发速率小于所述亚像素区域中间部分的溶剂的蒸发速率包括：对所述有机溶液照射紫外线进行加热烘干，并利用掩膜板遮挡所述亚像素区域的有机溶液，所述掩膜板包括对应所述亚像素区域中间部分的透光结构和对应所述亚像素区域边缘部分的部分透光结构。4.根据权利要求2或3所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括：透光基底和位于所述透光基底上的部分透光图形，未覆盖所述部分透光图形的透光基底形成所述透光结构，覆盖所述部分透光图形的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢学武，艾雨，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11