一种石墨烯制取设备制造技术

本实用新型专利技术涉及石墨烯制取设备，包括反应仓（6）；所述反应仓（6）底部安装加热器（12）；所述加热器（12）上方设置底板（3）；所述反应仓（6）左下角设置有机气体输入口（1）；所述反应仓（6）右下角设置惰性气体输入口（11）；所述反应仓（6）顶端设置气体出口（13）；所述反应仓（6）侧板设置真空泵（4）；所述反应仓（6）左上侧设置射频器A（5）；所述反应仓（6）侧板设置温度计（14）；所述反应仓（6）右上侧设置射频器B（9）。所述气体出口与惰性气体输入口连接管道；所述管道右侧上部设置出口；所述管道右侧下部设置入口。所述有机气体输入口（1）设置有阀门A；所述出口设置阀门B；所述入口设置阀门C。本实用新型专利技术所需温度低，制备石墨烯比表面积大。

A kind of drawing equipment for graphene

The utility model relates to a preparation device of a graphene, including a reaction chamber (6), a heater (12) at the bottom of the reaction bin (12), a floor (3) above the heater (12), an organic gas inlet (1) at the lower left corner of the reaction chamber (6), and the inert gas input at the lower right corner of the reaction chamber (6). A gas outlet (13) is arranged at the top of the reaction bin (6); the reaction bin (6) side plate is set with a vacuum pump (4); the upper left side of the reaction bin (6) is set up by a radio frequency A (5); the reaction chamber (6) side plate is set by a thermometer (14); the radio frequency device B (9) is set on the right upper side of the reaction bin (6). The gas outlet is connected with the inert gas input port; the upper part of the pipeline is arranged on the upper part of the pipeline, and the lower part of the pipeline is provided with an inlet. The organic gas inlet port (1) is provided with a valve A; the outlet is provided with a valve B; the inlet valve is set C. The required temperature of the utility model is low, and the graphene has large specific surface area.

【技术实现步骤摘要】
一种石墨烯制取设备
本技术涉及石墨烯制取领域，特别是一种石墨烯制取设备。
技术介绍
石墨烯是一种由碳原子以sp2杂化方式形成的蜂窝状平面薄膜，是一种只有一个原子层厚度的准二维材料，所以又叫做单原子层石墨。由于其十分良好的强度、柔韧、导电、导热、光学特性，石墨烯材料在物理学、材料学、电子信息、航天航空等领域都得到了广泛的应用。比较主流的方法有外延生长法、化学气相沉淀CVD法和氧化石墨还原法等。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种石墨烯制取设备。本技术的目的通过以下技术方案来实现：一种石墨烯制取设备。包括反应仓；所述反应仓底部安装加热器；所述加热器上方设置底板；所述反应仓左下角设置有机气体输入口；所述反应仓右下角设置惰性气体输入口；所述反应仓顶端设置气体出口；所述反应仓侧板设置真空泵；所述反应仓左上侧设置射频器A；所述反应仓侧板设置温度计；所述反应仓右上侧设置射频器B。所述气体出口与惰性气体输入口连接管道；所述管道右侧上部设置出口；所述管道右侧下部设置入口。所述有机气体输入口（1）设置有阀门A；所述出口设置阀门B；所述入口设置阀门C。本技术具有以下优点：1、结构简单，操作方便。2、所需温度低，制备石墨烯比表面积大。附图说明图1为本技术的结构示意图；图中：1-有机气体输入口，2-阀门A，3-底板，4-真空泵，5-射频器，6-反应仓，7-管道，8-阀门B，9-射频器，10-阀门C，11-惰性气体输入口，12-加热器，13-气体出口，14-温度计，15-气体出口，16-气体入口。具体实施方式下面结合附图对本技术做进一步的描述，但本技术的保护范围不局限于以下所述。如图1所示，一种石墨烯制取设备，它包括反应仓6；所述反应仓6底部安装加热器12；所述加热器12上方设置底板3；所述反应仓6左下角设置有机气体输入口1；所述反应仓6右下角设置惰性气体输入口11；所述反应仓6顶端设置气体出口13；所述反应仓6侧板设置真空泵4；所述反应仓6左上侧设置射频器A5；所述反应仓6侧板设置温度计14；所述反应仓6右上侧设置射频器B9。所述气体出口13与惰性气体输入口11连接管道7；所述管道7右侧上部设置出口15；所述管道右侧下部设置入口16。所述有机气体输入口1设置有阀门A2；所述出口15设置阀门B8；所述入口16设置阀门C16。本技术的工作过程如下：关闭阀门A、阀门B、阀门C，打开真空泵，将反应仓内的空气抽出。关闭阀门A，打开阀门B、阀门C，通入惰性气体，当检测到气体输出口的气体为惰性气体后，关闭阀门B和阀门C。打开加热器，加热反应仓内温度到400-500摄氏度。打开射频器A和射频器B，激发反应仓气体产生等离子体。打开阀门A，通入有机气体，同时打开阀门C继续通入惰性气体。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石墨烯制取设备，其特征在于：包括反应仓（6）；所述反应仓（6）底部安装加热器（12）；所述加热器（12）上方设置底板（3）；所述反应仓（6）左下角设置有机气体输入口（1）；所述反应仓（6）右下角设置惰性气体输入口（11）；所述反应仓（6）顶端设置气体出口（13）；所述反应仓（6）侧板设置真空泵（4）；所述反应仓（6）左上侧设置射频器A（5）；所述反应仓（6）侧板设置温度计（14）；所述反应仓（6）右上侧设置射频器B（9）。

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯制取设备，其特征在于：包括反应仓（6）；所述反应仓（6）底部安装加热器（12）；所述加热器（12）上方设置底板（3）；所述反应仓（6）左下角设置有机气体输入口（1）；所述反应仓（6）右下角设置惰性气体输入口（11）；所述反应仓（6）顶端设置气体出口（13）；所述反应仓（6）侧板设置真空泵（4）；所述反应仓（6）左上侧设置射频器A（5）；所述反应仓（6）侧板设置温度计（14）；所述反应仓（6）右上侧设置射频器B（9）。2.根据权利要求1所述的一种石墨烯制取设备，其特征在于：所述气体出口（13）与惰性气体输入口（11）连接管道（7）；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兴翀，魏欣，魏泽忠，
申请(专利权)人：成都格莱飞科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51