用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法技术

技术编号：1816788 阅读：171 留言：0更新日期：2012-04-11 18:40

一种用于湿清洁元件的至少一个石英表面的方法，所述元件用于其中处理半导体基材的等离子体处理腔，该方法包括：　　　　ａ）将该元件的至少一个石英表面与至少一种可有效地从石英表面脱脂和除去有机污染物的有机溶剂接触；　　　　ｂ）在ａ）之后，将石英表面与可有效地从石英表面除去有机和金属污染物的弱碱性溶液接触；　　　　ｃ）在ｂ）之后，将石英表面与可有效地从石英表面除去金属污染物的第一酸溶液接触；　　　　ｄ）在ｃ）之后，将石英表面与包含氢氟酸和硝酸的第二酸溶液接触以从石英表面除去金属污染物；和　　　　ｅ）视需要重复ｄ）至少一次。