显示设备和包括其的头戴式电子装置制造方法及图纸

技术编号:18140964 阅读:40 留言:0更新日期:2018-06-06 13:26
提供了一种显示设备和一种包括该显示设备的头戴式电子装置。该显示设备包括:基底,包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区;多个像素电极,分别位于多个像素区的至少一部分中;以及散射层,位于多个像素电极上,并且包括分别位于多个像素区中的每个的中心部分处的多个非散射区和分别位于相邻非散射区之间的多个散射区。

【技术实现步骤摘要】
显示设备和包括其的头戴式电子装置本申请要求于2016年11月28日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0159515号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。
一个或更多个实施例涉及一种能够显示图像并且能够改善头戴式显示器(HMD)的光效率的显示设备以及一种包括该显示设备的头戴式电子装置。
技术介绍
头戴式显示(HMD)设备是指佩戴在用户头部或眼睛上并且将图像显示给用户的显示设备。近年来,随着对可佩戴装置的关注增加,已经开发了将微型显示设备安装在眼镜或头盔的前侧上的HMD设备。HMD设备可以允许用户感知立体效应,并且可以逼真地实现虚拟现实或增强现实。通常,为了制作HMD,使用用于显示图像的显示设备和用于放大图像以被用户识别的透镜。结果,可以用相对小型的显示设备实现宽视角。然而,在传统的显示设备中,当使用透镜实现放大的图像时,发生“纱门”效应,因此相邻像素之间的区域显示为黑色。
技术实现思路
一个或更多个实施例包括一种能够显示高品质图像并且能够改善头戴式显示器(HMD)的光效率的显示设备以及一种包括该显示设备的头戴式电子装置。然而,这仅是示例,公开的实施例不限于此。附加的方面将在下面的描述中部分地进行阐述,且部分地通过描述将是明显的,或者可以通过呈现的实施例的实践而了解。根据一个或更多个实施例,显示设备包括:基底,包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区;多个像素电极,分别位于多个像素区的至少一部分中;以及散射层,位于多个像素电极上,并且包括分别位于多个像素区中的每个的中心部分处的多个非散射区和分别位于相邻非散射区之间的多个散射区。显示设备还可以包括:多个发射层,分别位于多个像素电极上;对电极,位于多个发射层上,并且与多个像素电极对应;以及包封层,置于对电极与散射层之间。包封层可以包括具有堆叠结构的绝缘层,绝缘层的最靠近散射层的层可以包括无机层。无机层可以包括氮化硅。显示设备还可以包括位于包封层与散射层之间的缓冲层。包封层包括具有堆叠结构的绝缘层,绝缘层的最靠近缓冲层的层可以包括具有比缓冲层的折射率大的折射率的无机层。缓冲层的至少一部分可以与包封层直接接触。显示设备还可以包括位于包封层与缓冲层之间并且限定被构造为分别与散射层的多个非散射区叠置的多个开口的遮光层。遮光层可以包括光吸收材料。散射区可以具有比非散射区的光散射率高的光散射率。散射层可以包括被构造为使入射光散射并且不位于非散射区中或者以低于散射区中的浓度的浓度位于非散射区中的散射粒子。根据一个或更多个实施例,显示设备包括:基底,包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区;多个像素电极,分别位于多个像素区的至少一部分中;散射层,位于多个像素电极上;包封层,位于多个像素电极上,并且包括具有堆叠结构的绝缘层;以及缓冲层,位于包封层与散射层之间,其中,绝缘层的最靠近缓冲层的层包括具有比缓冲层的折射率大的折射率的无机层。显示设备还可以包括:多个发射层,分别位于多个像素电极上;以及对电极,位于多个发射层上,并且与多个像素电极对应。无机层可以包括氮化硅。缓冲层的至少一部分可以与包封层直接接触。散射层可以包括:多个非散射区,分别位于多个像素区中的每个的中心部分处;以及多个散射区,分别位于相邻非散射区之间并且具有比非散射区的光散射率高的光散射率。散射层可以包括被构造为使入射光散射并且不位于非散射区中或者以低于散射区中的浓度的浓度位于非散射区中的散射粒子。显示设备还可以包括在包封层和缓冲层之间并且限定被构造为分别与散射层的多个非散射区叠置的多个开口的遮光层。遮光层可以包括光吸收材料。根据一个或更多个实施例,一种头戴式电子装置包括:显示设备,包括基底、多个像素电极和散射层,基底包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区,多个像素电极分别位于多个像素区的至少一部分中,散射层位于多个像素电极上并且包括分别位于多个像素区中的每个的中心部分处的多个非散射区和分别位于相邻非散射区之间的散射区;透镜单元,面对显示设备,并且被构造为放大由显示设备显示的图像并且在用户的眼球方向上折射放大的图像;以及框架,被构造为容纳显示设备和透镜单元,并且被构造为佩戴在用户的头部上。附图说明通过下面结合附图对实施例的描述,这些和/或其它方面将变得明显并且更容易理解,在附图中:图1是根据实施例的显示设备的剖视图;图2是根据实施例的图1的显示设备的一个像素中的光路的图;图3是根据实施例的图2的部分A的放大图;图4是根据另一实施例的显示设备的剖视图;图5A至图5C是根据另一实施例和它的变型的显示设备的剖视图;图6是根据另一实施例的显示设备的剖视图;以及图7是根据实施例的头戴式电子装置的透视图。具体实施方式通过参照下面对实施例的详细描述和附图,可以更容易地理解专利技术构思的特征和实现其的方法。在下文中,将参照附图更详细地描述实施例,在附图中同样的附图标记始终表示同样的元件。然而,本专利技术可以以各种不同的形式实施,并且不应被解释为仅限于这里示出的实施例。相反,作为示例提供这些实施例,从而本公开将是彻底的和完整的,并且这些实施例将向本领域技术人员充分地传达本专利技术的方面和特征。因此,可以不描述对本领域的普通技术人员完全理解本专利技术的方面和特征不必要的工艺、元件和技术。除非另外表示,否则贯穿附图和书面描述,同样的附图标记表示同样的元件,因此将不再重复其描述。在附图中,为了清楚,会夸大元件、层和区域的相对尺寸。在下面的描述中,出于解释的目的,阐述了许多具体细节,以提供对各种实施例的全面理解。然而,明显的是,各种实施例可以在没有这些具体细节或者具有一个或者更多个等同布置的情况下来实践。在其它情况下,为了避免不必要地使各种实施例不清楚,以框图形式示出了公知的结构和装置。将理解的是,虽然这里可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分,但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此,在不脱离本专利技术的精神和范围的情况下,以下描述的第一元件、第一组件、第一区域、第一层或第一部分可以被称为第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。出于易于解释的目的,可以在这里使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下”、“在……下面”、“在…上方”和“上”等的空间相对术语来描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。将理解的是,空间相对术语意图包含除了在图中描绘的方位之外的装置在使用中或操作中的不同方位。例如,如果图中的装置被翻转,那么被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”或者“下面”的元件随后将被定位为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此,示例术语“在……下方”和“在……下面”可以包含上方和下方两种方位。装置可以被另外定位(例如,旋转90度或在其它方位处),并且应相应地解释在这里使用的空间相对描述语。将理解的是,当元件、层、区域或组件被称为“在”另一元件、层、区域或组件“上”、“连接到”或者“结合到”另一元件、层、区域或组件时,该元件、层、区域或组件可以直接在所述另一元件、层、本文档来自技高网...
显示设备和包括其的头戴式电子装置

【技术保护点】
一种显示设备,所述显示设备包括:基底,包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区;多个像素电极,分别位于所述多个像素区的至少一部分中;以及散射层,位于所述多个像素电极上,并且包括分别位于所述多个像素区中的每个像素区的中心部分处的多个非散射区和分别位于相邻非散射区之间的多个散射区。

【技术特征摘要】
2016.11.28 KR 10-2016-01595151.一种显示设备,所述显示设备包括:基底,包括彼此分隔开的多个像素区和分别位于相邻像素区之间的多个非像素区;多个像素电极,分别位于所述多个像素区的至少一部分中;以及散射层,位于所述多个像素电极上,并且包括分别位于所述多个像素区中的每个像素区的中心部分处的多个非散射区和分别位于相邻非散射区之间的多个散射区。2.根据权利要求1所述的显示设备,所述显示设备还包括:多个发射层,分别位于所述多个像素电极上;对电极,位于所述多个发射层上,并且与所述多个像素电极对应;以及包封层,置于所述对电极与所述散射层之间。3.根据权利要求2所述的显示设备,其中,所述包封层包括具有堆叠结构的绝缘层,并且其中,所述绝缘层的最靠近所述散射层的层包括无机层。4.根据权利要求3所述的显示设备,其中,所述无机层包括氮化硅。5.根据权利要求2所述的显示设备,所述显示设备还包括位于所述包封层与所述散射层之间的缓冲层。6.根据权利要求5所述的显示设备,其中,所述包封层包括具有堆叠结构的绝缘层,并且其中,所述绝缘层的最靠近所述缓冲层的层包括具有比所述缓冲层的折射率大的折射率的无机层。7.根据权利要求6所述的显示设备,其中,所述缓冲层的至少一部分与所述包封层直接接触。8.根据权利要求5所述的显示设备,所述显示设备还包括位于所述包封层与所述缓冲层之间并且限定被构造为分别与所述散射层的所述多个非散射区叠置的多个开口的遮光层。9.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述遮光层包括光吸收材料。10.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述散射区具有比所述非散射区的光散射率高的光散射率。11.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述散射层包括被构造为使入射光散射并且不位于所述非散射区中或者以低于所述散射区中的浓度的浓度位...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔忠硕梁昭玲丁善英曹尚焕
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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