本发明专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。本发明专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺流程为：选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送去镀二氧化硅膜和镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的合格产品包装入库。本发明专利技术具有较高的电导率和可见光透过率，十分适合在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件上应用。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜导电玻璃及其生产工艺，具体地说一种氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺。
技术介绍
在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件中，常要用到具有导电镀层的透明导电玻璃，但现有的透明导电玻璃，电导率和可见光的透过率相对较低，相应地影响了产品性能的提高。
技术实现思路
本专利技术的目的是研制出一种氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺。本专利技术要解决的是现有透明导电玻璃，电导率和可见光的透过率相对较低的技术问题。本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括玻璃基片，该玻璃基片为有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺流程为选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送入到镀膜机内，先镀二氧化硅膜，再镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，合格的产品包装入库。本专利技术具有较高的电导率和可见光透过率，十分适合在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件上应用。具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术作进一步说明。如附图说明图1所示，本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括白色的有机玻璃基基片3，在该有机玻璃基片3的表面镀有二氧化硅镀膜层2和氧化铟锡镀膜层1，二氧化硅镀膜层2位于内层，氧化铟锡镀膜层1位于外层。二氧化硅镀膜层2的主要组成成分为二氧化硅，氧化铟锡镀膜层1的主要组成分为氧化铟锡。本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其生产流程为选择合格的有机玻璃基片1，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片1送入到镀膜机内，采用射频溅射工艺先在有机玻璃基片3的表面镀二氧化硅膜。再用直流磁控溅射工艺，在有机玻璃基片1镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，最后把合格的产品包装入库。权利要求1.氧化铟锡透明导电玻璃，包括玻璃基片，其特征在于玻璃基片为有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。2.根据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃，其特征在于二氧化硅镀膜层的主要组成成分为二氧化硅，氧化铟锡镀膜层的主要组成分为氧化铟锡。3.根据权利要求1所述的透明导电玻璃，其特征在于有机玻璃基片选用白片有机玻璃制作。4.据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其特征在于该工艺的生产流程为选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送入到镀膜机内，先镀二氧化硅膜，再镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，合格的产品包装入库。5.据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其特征在于镀二氧化硅膜采用的是射频溅射工艺，镀氧化铟锡采用的是直流磁控溅射工艺。全文摘要本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。本专利技术所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺流程为选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送去镀二氧化硅膜和镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的合格产品包装入库。本专利技术具有较高的电导率和可见光透过率，十分适合在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件上应用。文档编号C23C14/34GK1769326SQ20051005054公开日2006年5月10日 申请日期2005年6月29日 优先权日2005年6月29日专利技术者徐雪群 申请人:徐雪群本文档来自技高网...
【技术保护点】
氧化铟锡透明导电玻璃，包括玻璃基片，其特征在于玻璃基片为有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐雪群，
申请(专利权)人：徐雪群，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]
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